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투명 기판;상기 투명 기판상에 형성된 나노구조물;상기 나노 구조물을 커버하는 제1 도전형 반도체층;상기 제1 도전형 반도체층 상에 구비된 진성 반도체층; 그리고 상기 진성 반도체층 상에 구비된 제2 도전형 반도체층을 포함하는 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 제1 도전형 반도체층은 상기 나노 구조물들의 외형을 따라 막 형태로 구비되는 것을 특징으로 하는 태양전지
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제2항에 있어서, 상기 진성 반도체층은 상면에 상기 제1 도전형 반도체층의 단차가 나타나지 않도록 평탄하게 구비되는 것을 특징으로 하는 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 투명기판과 상기 나노 구조물들 사이에 구비된 도전층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지
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제4항에 있어서, 상기 도전층은 투명 전도성 산화물인 것을 특징으로 하는 태양전지
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제4항에 있어서, 상기 도전층 상에 구비되어 상기 나노 구조물들을 성장시키는 복수의 시드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지
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제6항에 있어서, 상기 나노 구조물들은 상기 시드들 중 하나의 시드에 네 개의 나노 구조물이 위치하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 투명기판은 투명한 재질의 유리 또는 플라스틱인 것을 특징으로 하는 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 나노 구조물들은 나노 막대 또는 나노 와이어 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 태양전지
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제1항에 있어서, 상기 제1 도전형 반도체층은 P형인 수소화된 비정질 실리콘층이고, 상기 진성 반도체층은 수소화된 비정질 실리콘 층이며, 상기 제2 도전형 반도체 층은 N형인 수소화된 비정질 실리콘층인 것을 특징으로 하는 태양전지
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투명기판을 제공하는 단계;상기 투명기판 상에 나노구조물을 성장시키는 단계;상기 나노 구조물들을 커버하도록 제1도전형 반도체층을 형성하는 단계;상기 제1도전형 반도체층 상에 진성반도체층을 형성하는 단계; 및상기 진성 반도체층 상에 제2도전형 반도체층을 형성하는 단계를 포함하는 태양전지의 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 제1 도전형 반도체층은 상기 나노 구조물들의 외형을 따라 막 형태로 구비되는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 진성 반도체층은 상면에 상기 제1 도전형 반도체층의 단차가 나타나지 않도록 평탄하게 구비되는 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 투명기판과 상기 나노 구조물들 사이에 도전층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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제14항에 있어서, 상기 도전층은 투명 전도성 산화물인 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조 방법
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제14항에 있어서, 상기 도전층 상에 상기 나노 구조물들을 성장시키는 복수의 시드를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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제16항에 있어서, 상기 나노 구조물들은 상기 시드들 중 하나의 시드에 네 개의 나노 구조물이 위치하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 투명기판은 투명한 재질의 유리 또는 플라스틱인 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 나노 구조물들은 나노 막대 또는 나노 와이어 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 제1 도전형 반도체층은 P형인 수소화된 비정질 실리콘층이고, 상기 진성 반도체층은 수소화된 비정질 실리콘 층이며, 상기 제2 도전형 반도체 층은 N형인 수소화된 비정질 실리콘층인 것을 특징으로 하는 태양전지의 제조 방법
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