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아미노산 염을 포함하며, 하기 일반식 1을 만족하는 것을 특징으로 하는 산 가스 제거를 위한 막 접촉기용 이산화탄소 흡수제 조성물:[일반식 1]X ≥ 67 mN/m상기 X는 25 ℃에서 아미노산염 수용액에 대한 표면장력을 나타낸다
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제 1 항에 있어서, 하기 일반식 2를 만족하는 것을 특징으로 하는 산 가스 제거를 위한 막 접촉기용 이산화탄소 흡수제 조성물:[일반식 2]Y ≥ 0
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제 1 항에 있어서, 상기 아미노산은 글리신, 타우린, 베타-알라닌, 감마-아미노부틸산, 알라닌, 알파-아미노부틸산, 세린 및 시스테인으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 산 가스 제거를 위한 막 접촉기용 이산화탄소 흡수제 조성물
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제 1 항에 있어서, 상기 아미노산은 알라닌, 알파-아미노부틸산, 세린 및 시스테인으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 입체장애 아미노산인 것을 특징으로 하는 산 가스 제거를 위한 막 접촉기용 이산화탄소 흡수제 조성물
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제 1 항에 있어서, 추가로 반응촉진용 아민계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 산 가스 제거를 위한 막 접촉기용 이산화탄소 흡수제 조성물
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제 5 항에 있어서, 상기 반응촉진용 아민계 화합물은 3,3’-디아미노프로필아민, N-(2-아미노메틸)-1,3-프로판디아민, 피페라진, 2-아미노메틸피페라진, 피페리딘, 몰포린, 4-피페리딘 메탄올, 2,2’-(에틸렌디옥시)비스(에틸아민), 에탄올아민, 1,6-헥사메틸렌디아민, 4-아미노메틸피페리딘 및 2-아미노메틸피페리딘로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 산 가스 제거를 위한 막 접촉기용 이산화탄소 흡수제 조성물
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제 5 항에 있어서, 상기 반응촉진용 아민계 화합물은 아미노산 염 1 중량부에 대하여 0
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제 1 항에 있어서, 상기 아미노산 염은 5 내지 70%(w/v) 농도 범위의 수용액으로 포함되는 것을 특징으로 하는 산 가스 제거를 위한 막 접촉기용 이산화탄소 흡수제 조성물
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혼합기체로부터 이산화탄소를 흡수하는 흡수 모듈 및, 흡수 모듈로부터 흡수된 이산화탄소를 탈거하는 탈거 모듈을 포함하고, 상기 흡수 모듈로 막 접촉기가 장착된 이산화탄소 분리 시스템에 있어서,상기 흡수 모듈에 제 1 항 내지 제 8 항 중에서 선택된 어느 한 항의 흡수제 조성물을 혼합기체와 접촉시켜 이산화탄소를 흡수하도록 하는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분리 시스템
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제 9 항에 있어서,상기 탈거 모듈은 막 접촉기가 장착된 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분리 시스템
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이산화탄소 흡수제 조성물을 이용한 산 가스 제거용 막 분리법에 있어서,상기 이산화탄소 흡수제 조성물이 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항의 흡수제 조성물인 것을 특징으로 하는 산 가스 제거용 막 분리법
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