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그라핀 나노 필터 망, 그라핀 나노 필터 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2014040286
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 그라핀 나노 필터 망이 개시된다. 본 발명의 일실시예에 따른 그라핀 나노 필터 망은, 0.1㎚ 이상 내지 0.2㎚ 이하 사이즈의 6방정계 격자 구조를 가지는 그라핀(Graphene); 및 유체는 통과시키되 1㎚ 이상의 사이즈를 가지는 유체내 입자는 걸러지도록 그라핀의 일부를 식각하여 1㎚ 이상 내지 100㎚ 이하 사이즈로 생성되는 공극;을 포함하여 구성된다.
Int. CL B01D 39/20 (2006.01) B01D 69/00 (2006.01) B01D 67/00 (2006.01) B01D 71/00 (2006.01)
CPC B01D 39/2055(2013.01) B01D 39/2055(2013.01) B01D 39/2055(2013.01) B01D 39/2055(2013.01)
출원번호/일자 1020100085402 (2010.09.01)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1211850-0000 (2012.12.06)
공개번호/일자 10-2012-0022164 (2012.03.12) 문서열기
공고번호/일자 (20121212) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.09.01)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전성찬 대한민국 서울특별시 서대문구
2 윤형서 대한민국 서울특별시 서대문구
3 조준형 대한민국 서울특별시 송파구
4 황석주 대한민국 서울특별시 은평구
5 김환균 대한민국 서울특별시 강남구
6 정영모 대한민국 서울특별시 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유)화우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로***길 **, *층 (대치동, 삼호빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.09.01 수리 (Accepted) 1-1-2010-0567794-47
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5252006-10
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.04.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.05.22 수리 (Accepted) 9-1-2012-0039140-46
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.05.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0312407-17
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.07.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0608413-43
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.07.30 수리 (Accepted) 1-1-2012-0608411-52
8 등록결정서
Decision to grant
2012.11.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0691630-15
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
0
2 2
제1항에 의한 그라핀 나노 필터 망(110);상기 그라핀 나노 필터 망(110)의 가장자리 둘레에 연속하여 결합되어 상기 그라핀 나노 필터 망(110)을 일정한 형태로 고정, 유지시키는 그라핀 프레임(120); 및1㎛ 이상 내지 10㎝ 이하 너비의 내부 유로(210)가 형성되며, 상기 내부 유로(210)를 통과하는 유체가 상기 그라핀 나노 필터 망(110)을 통과하도록 상기 그라핀 프레임(120)의 외면 둘레가 내벽상에 결합, 고정되는 필터채널(200);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 그라핀 나노 필터
3 3
제2항에 있어서, 상기 그라핀 프레임(120)과 필터채널(200)은,PDMS(polydimethylsiloxane)와 같은 폴리머 재질로 구성되는 것을 특징으로 하는 그라핀 나노 필터
4 4
제2항에 있어서, 상기 필터채널(200)은,상기 그라핀 프레임(120)의 외면 둘레를 끼워 고정가능하도록 내벽상에 함몰형성된 조립홈(221);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 그라핀 나노 필터
5 5
제2항에 있어서,외부의 유체가 인렛포트(inlet port)를 통해 상기 필터채널의 내부 유로(210)로 인입가능한 통로를 제공하는 인렛포트 결합홀(230); 및상기 필터채널의 내부 유로(210)를 통과하며 필터링(filtering)된 유체가 아웃렛포트(outlet port)를 통해 상기 필터채널(200) 외부로 배출가능한 통로를 제공하는 아웃렛포트 결합홀(240);을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 그라핀 나노 필터
6 6
탄소 원자가 0
7 7
제6항에 있어서, 상기 그라핀 생성단계(S1-A)는,화학 증착법(CVD, chemical vapor deposition technique) 또는 기계적 박리법에 의해 1㎛ 이상 내지 10㎝ 이하 너비의 모노레이어(mono-layer), 바이레이어(bi-layer), 또는 트리플레이어(triple-layer) 이상의 적층구조를 가지는 그라핀(111)을 생성하는 것을 특징으로 하는 그라핀 나노 필터 제작방법
8 8
제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 그라핀 식각단계(S2)는,바이레이어(bi-layer) 또는 트리플레이어(triple-layer) 이상의 적층구조를 가지는 그라핀(111)의 양측에 각각 독립적인 패턴의 공극(112)을 형성하여, 양측에 형성된 패턴의 위치, 형태의 일치정도에 따라 공극(112)의 형태와 크기를 조정, 제어하는 것을 특징으로 하는 그라핀 나노 필터 제작방법
9 9
제6항에 있어서, 상기 그라핀 식각단계(S2)는,상기 그라핀(111)을 실리콘 기판(10)상에 이송, 안착시키는 그라핀 준비단계(S2-1);상기 그라핀(111)에 직경 1㎚ 이상 내지 100㎚ 이하 사이즈의 홀이 패터닝된 상기 마스크(20)를 씌우는 마스크 준비단계(S2-2); 및플라즈마(plasma)를 상기 마스크(20)측으로 분사하여, 상기 마스크(20)에 형성된 홀을 통과한 플라즈마에 의해 그라핀(111)을 구성하는 탄소원자간의 공유 결합을 끊으면서 직경 1㎚ 이상 내지 100㎚ 이하 사이즈의 미세 공극(112)을 형성하는 플라즈마 식각단계(S2-3);를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 그라핀 나노 필터 제작방법
10 10
제6항 또는 제9항에 있어서,상기 그라핀 식각단계(S2) 이전에, 실리콘(Silicon) 기판에 직경 2㎚ 이상 내지 200㎚ 이하 사이즈의 홀을 가공하고, 실리콘 옥사이드(Silicon oxide)로 산화시키는 것에 의해, 부피를 1
11 11
제6항에 있어서, 상기 그라핀 식각단계(S2)는,식각 시간에 따라 상기 공극(112) 사이즈를 확대 또는 축소 조정하는 것을 특징으로 하는 그라핀 나노 필터 제작방법
12 12
제6항에 있어서,상기 그라핀 식각단계(S2)를 거친 상기 그라핀(111)의 가장자리 둘레에, 상기 그라핀(111)을 일정한 형태로 고정, 유지가능한 강성을 가지는 그라핀 프레임(120)을 연속하여 결합시키는 프레임 결합단계(S3); 및1㎛ 이상 내지 10㎝ 이하 너비의 내부 유로(210)가 형성된 필터채널(200)의 내벽상에 상기 그라핀 프레임(120)의 외면 둘레를 결합, 고정시키는 필터채널 조립단계(S4);를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 그라핀 나노 필터 제조방법
13 13
제12항에 있어서, 상기 필터채널 조립단계(S4)는,상기 필터채널의 내부 유로(210)의 길이방향을 따라 다수의 상기 그라핀(111) 및 그라핀 프레임(120)을 배치시키는 것을 특징으로 하는 그라핀 나노 필터 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.