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바나듐염, 인산염, 불화염 및 착화제를 포함하는 전해액을 준비하는 단계;상기 전해액에 금속을 침지하는 단계; 및상기 금속을 양극으로 하여 전기화학적으로 표면을 처리하는 단계를 포함하는 금속의 표면처리 방법
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청구항 5에 있어서,상기 바나듐염은 메타바나듐산나트륨, 사염화바나듐, 옥시염화바나듐 및 바나듐산암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속의 표면처리 방법
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청구항 5에 있어서,상기 전해액에서 바나듐염의 농도는 0
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청구항 5에 있어서,상기 착화제는 시트르산, 타르타르산, 에틸렌다이아민테트라아세트산(EDTA) 및 글리신으로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속의 표면처리 방법
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청구항 5에 있어서,상기 전해액에서 착화제의 농도는 0
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청구항 5에 있어서, 상기 금속으로는 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 사용하는 금속의 표면처리 방법
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청구항 10에 있어서, 상기 알루미늄 합금으로 Al-Si을 사용하는 금속의 표면처리 방법
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12
청구항 10에 있어서,상기 전해액에는 수산화염과 규산염으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상이 더 포함되는 금속의 표면처리 방법
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13
청구항 10에 있어서,상기 전해액의 pH는 6~14인 금속의 표면처리 방법
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청구항 5에 있어서,상기 금속으로는 마그네슘 또는 마그네슘 합금을 사용하며, 상기 전해액에는 수산화염이 더 포함되는 금속의 표면처리 방법
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15
청구항 14에 있어서,상기 전해액에는 규산염이 더 포함되는 금속의 표면처리 방법
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청구항 14에 있어서,상기 전해액 pH는 12~14인 금속의 표면처리 방법
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청구항 5에 있어서,상기 인산염은 피로인산나트륨, 헥사메타인산염, 제이인산염 및 제삼인산염으로 이루어진 군으로부터 선택되며, 전해액에서 인산염의 농도는 0
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18
청구항 12 또는 청구항 14에 있어서,상기 수산화염은 수산화칼륨 또는 수산화나트륨이며, 전해액에서 수산화염의 농도는 0
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청구항 12 또는 청구항 15에 있어서,상기 규산염은 규산화칼륨 또는 규산화나트륨이며, 전해액에서 규산염의 농도는 0
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청구항 5에 있어서,상기 불화염은 불화칼륨, 불화나트륨 또는 불화암모늄이며, 전해액에서 불화염의 농도는 0
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청구항 5에 있어서, 상기 전기화학적으로 표면을 처리하는 방법이 플라즈마 전해 산화인 것을 특징으로 하는 금속의 표면처리 방법
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청구항 21에 있어서, 상기 플라즈마 전해 산화가 150~500V의 전압을 인가하여 수행되는 금속의 표면처리 방법
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청구항 21에 있어서, 표면처리 대상 금속을 양극으로 하고 스테인레스 스틸을 음극으로 하여 플라즈마 전해 산화가 수행되는 금속의 표면처리 방법
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청구항 21에 있어서,상기 플라즈마 전해 산화가 100~9000초 동안 수행되는 금속의 표면처리 방법
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