| 요약 |
본 발명에 의한 마이크로 패턴용 금형의 제작방법은, 금속판재(120)의 일측에 포토리소그래피법를 이용하여 패턴을 형성하는 패턴형성단계(100)와, 상기 패턴형성단계(100)를 거친 상기 금속판재(120)를 에칭하는 에칭단계(200)와, 상기 에칭단계(200)를 거친 상기 금속판재(120)에서 포토리지스트(PR,140)를 제거하는 포토리지스트제거단계(300)와, 상기 포토리지스트제거단계(300)를 거친 다수개의 금속판재(120)를 적층하는 적층단계(400)를 포함하여 구성되며, 상기 금속판재(120)는 알루미늄 합금, 구리 합금, 니켈 합금, 티타늄 합금, 철강재료 중 어느 하나이고, 상기 금속판재(120)의 두께는 1㎛ ~ 1㎜의 범위를 가짐을 특징으로 한다. 그리고, 상기 에칭단계(200)에서의 에칭깊이는 1㎛ ~ 1㎜이며, 상기 패턴형성단계(100), 에칭단계(200), 포토리지스트제거단계(300) 및 적층단계(400)를 거쳐 형성된 금형(420)은 수로의 형태, 실린더 구멍의 형태, 기둥의 형태 중 어느 하나임을 특징으로 한다. 이와 같은 본 발명에 의하면, 마이크로 패턴을 만들 수 있는 금형을 저렴하고 빠르게 제조할 수 있는 이점이 있다. 포토리소그래피, 포토리지스트(PR), 마이크로 패턴, 에칭, 적층, 금형
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