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미소전극어레이형 DNA칩 제조방법에 있어서, 금 전극 표면의 전처리로서 3N H2SO4 용액을 전극상에 적하하여 30분 반응시키고, 금 전극을 초순수로 세척하여 미소전극 어레이를 제작하는 단계; 마이크로피펫 또는 DNA어레이어를 사용하여 티올기를 수식한 probe DNA 용액을 전극상에 스폿하고, 10℃에서 12시간 반응시켜 금 전극상에 probe DNA를 고정화하는 단계; 고정화 반응후, 초순수로 전극을 세척하고, 비특이적으로 결합하여 있는 DNA를 제거한 후, 질소가스 건조시켜서 합성하는 단계; 유전자검출의 고감도화를 위하여 금 표면에서 자기조직화단분자막을 형성하는 MCH로 처리하면 비특이적 probe DNA 분자를 치환해서 제거하는 단계 및 전기화학 신호를 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미소전극어레이형 DNA칩 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 미소전극 어레이를 제작하는 단계는 유리기판 또는 베이크판을 적당 크기로 절단하여 세척한 후, 초순수에서 15분, 아세톤에서 15분, 초순수에서 15분의 순으로 초음파 세척하는 단계; 금전극은 진공증착 장치를 사용하여 약 10-6Torr의 진공상태에서 기판상에 증착층으로서 크롬을 약 200Å 증착하는 단계; 패턴 제작을 위한 포토마스크는 필름을 출력하여 직접 유리판에 고정해서 사용하고, 스핀코터를 사용하여 positive형 레지스터 OFPR 800을 기판상에 균일하게 도포하는 단계; 기판을 오븐에서 가열한 후, 미리 제작된 마스크패턴을 이용하여 노광하는 단계와 이를 에칭하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 미소전극어레이형 DNA칩 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 합성단계는 비특이적으로 결합하여 있는 probe DNA를 충분히 제거하여 합성의 효율을 향상시키기 위하여, 금 전극상에 MCH 용액을 적하하여 1시간 반응시키는 것을 특징으로 하는 미소전극어레이형 DNA칩 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 전기화학신호의 측정단계는 3 전극법으로 하고, 참조전극으로서는 은/염화은 전극을 사용하고, 비교전극으로 비교하며, cyclic-voltammetry(CV) 또는 linear sweep voltammetry(LSV)에 의하여 측정하는 것을 특징으로 하는 미소전극어레이형 DNA칩 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 전기화학신호의 측정단계는 3 전극법으로 하고, 참조전극으로서는 은/염화은 전극을 사용하고, 비교전극으로 비교하며, cyclic-voltammetry(CV) 또는 linear sweep voltammetry(LSV)에 의하여 측정하는 것을 특징으로 하는 미소전극어레이형 DNA칩 제조방법
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