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이중 반사 방지막을 포함하는 태양 전지 형성 방법에 있어서,실리콘 기판 상에 에미터(emitter) 층을 형성하는 단계,상기 형성된 에미터 층 상에 전면 전극을 형성하는 단계,상기 에미터 층 상의 상기 전면 전극이 형성되지 않은 부분에 이중의 반사 방지막을 증착하는 단계, 및상기 전면 전극 및 상기 이중의 반사 방지막을 함께 열처리하는 단계를 포함하되, 상기 전면 전극은 니켈 도금막, 구리 도금막, 및 은 도금막을 포함하고,상기 이중의 반사 반지막은 불화마그네슘(MgF2) 층 및 황화아연(ZnS) 층을 포함하는 반사 방지막, 불화마그네슘(MgF2) 층 및 이산화타이타늄(TiO2) 층을 포함하는 반사 방지막, 이산화규소(SiO2) 층 및 질화규소(SiN) 층을 포함하는 반사 방지막, 불화마그네슘(MgF2) 층 및 산화세륨(CeO2) 층을 포함하는 반사 방지막 중 어느 하나인 태양 전지 형성 방법
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제 1 항에 있어서,상기 전면 전극을 형성하는 단계는,상기 에미터 층 상에 니켈 도금막을 형성하는 단계,상기 형성된 니켈 도금막 상에 구리 도금막을 형성하는 단계, 및상기 형성된 구리 도금막 상에 은 도금막을 형성하는 단계를 추가 포함하며,상기 열처리 단계는, 상기 니켈 도금막, 상기 구리 도금막, 상기 은 도금막 및 상기 이중 반사 방지막을 함께 열처리하는 것인, 태양 전지 형성 방법
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제 2 항에 있어서,상기 니켈 도금막을 형성하는 단계는, 상기 니켈 도금막을 무전해 도금법(electroless plating)을 이용하여 형성하며,상기 구리 도금막을 형성하는 단계는, 전해 도금법(electro plating)과 LIP(light-induced plating)법을 함께 이용하여 상기 구리 도금막을 형성하며,상기 은 도금막을 형성하는 단계는, LIP(light-induced plating)법을 이용하여 상기 은 도금막을 형성하는 것인, 태양 전지 형성 방법
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제 2 항에 있어서,상기 이중의 반사 방지막을 증착하는 단계는,황화아연(ZnS) 및 불화마그네슘(MgF2)을 진공 증착 방법으로 연속적으로 증착하는 것인, 태양 전지 형성 방법
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제 4 항에 있어서,상기 열처리 하는 단계는, 어닐링 로(Annealing furnace)를 이용하여, 370 ~ 390 ℃의 온도에서 25 ~ 35분 동안 0
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제 4 항에 있어서,상기 에미터 층을 형성하는 단계는, 상기 형성된 에미터 층 상에 산화막 층을 형성하는 단계를 추가 포함하며,상기 산화막은 250Å의 두께로 형성되고, 상기 황화아연(ZnS) 층은 560Å의 두께로 증착되며, 상기 불화마그네슘(MgF2) 층은 1060Å의 두께로 증착되는 것인, 태양 전지 형성 방법
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이중 반사 방지막을 갖는 태양 전지에 있어서,실리콘 기판,상기 실리콘 기판 상에 형성된 에미터 층,상기 에미터 층 상의 일부에 형성된 전면 전극, 및상기 에미터 층 상의 상기 전면 전극이 형성되지 않은 부분에 형성된 이중의 반사 방지막을 포함하되,상기 전면 전극은 니켈 도금막, 구리 도금막, 및 은 도금막을 포함하고,상기 이중의 반사 방지막은 불화마그네슘(MgF2) 층 및 황화아연(ZnS) 층을 포함하는 반사 방지막, 불화마그네슘(MgF2) 층 및 이산화타이타늄(TiO2) 층을 포함하는 반사 방지막, 이산화규소(SiO2) 층 및 질화규소(SiN) 층을 포함하는 반사 방지막, 불화마그네슘(MgF2) 층 및 산화세륨(CeO2) 층을 포함하는 반사 방지막 중 어느 하나인 것을 포함하며,상기 전면 전극 및 상기 이중의 반사 방지막은 하나의 공정에 의해 열처리된 것인, 이중 반사 방지막을 갖는 태양 전지
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제 7 항에 있어서,상기 전면 전극은 니켈 도금막, 구리 도금막 및 은 도금막을 포함하며, 상기 니켈 도금막, 상기 구리 도금막, 상기 은 도금막 및 상기 이중 반사 방지막은 함께 열처리된 것인, 이중 반사 방지막을 갖는 태양 전지
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제 8 항에 있어서,상기 이중의 반사 방지막은, 황화아연(ZnS) 및 불화마그네슘(MgF2)이 진공 증착 방법에 의해 연속적으로 증착된 것인, 이중 반사 방지막을 갖는 태양 전지
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제 9 항에 있어서,상기 전면 전극 및 상기 이중의 반사 방지막은, 어닐링 로(Annealing furnace)를 이용하여 370 ~ 390 ℃의 온도에서 25 ~ 35분 동안 0
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제 9 항에 있어서,상기 에미터 층과 상기 이중 반사 방지막 사이에 형성된 산화막을 더 포함하며,상기 산화막은 250Å의 두께로 형성되고, 상기 황화아연(ZnS) 층은 560Å의 두께로 형성되며, 불화마그네슘(MgF2) 층은 1060Å의 두께로 형성된 것인, 이중 반사 방지막을 갖는 태양 전지
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