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광대역의 가간섭 광을 조사하는 발광부;적어도 하나의 미세홀을 구비하며, 상기 발광부로부터 입사되는 광을 상기 미세홀의 바닥면에서 반사하는 피측정물;상기 발광부로부터 입사되는 광을 반사하며, 상기 미세홀의 바닥면에서 반사된 광과 간섭을 일으키는 기준광을 형성하는 기준면;상기 미세홀의 바닥면 및 상기 기준면에서 반사된 광을 수광하여, 간섭 신호로부터 상기 미세홀의 깊이를 측정하는 광 검출기; 및광섬유 커플러 및 상기 광섬유 커플러에서 분기되는 제1 광섬유, 제2 광섬유, 제3 광섬유 및 제4 광섬유;를 포함하며,상기 제1 광섬유는 상기 발광부와 연결되며, 상기 발광부로부터 입사되는 광을 상기 광섬유 커플러를 통해 상기 제2 광섬유 및 상기 제3 광섬유에 전달하고,상기 제2 광섬유는 상기 제2 광섬유의 단부가 상기 기준면에 대응되도록 배치되어 상기 기준면에 광을 조사하여 상기 기준면에서 반사된 광을 수광하고,상기 제3 광섬유는 상기 제3 광섬유의 단부가 상기 미세홀에 대응되도록 배치되어 상기 미세홀에 광을 조사하여 상기 미세홀의 바닥면에서 반사되는 광을 수광하고,상기 제4 광섬유는 상기 광 검출기에 연결되며, 상기 제2 광섬유 및 상기 제3 광섬유로부터 입사되는 광을 상기 광섬유 커플러를 통해 상기 광 검출기에 전달하는 것을 특징으로 하는 미세홀 깊이 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 제2 광섬유 및 상기 제3 광섬유의 단부에는 각각 광을 집속하는 제1 렌즈 및 제2 렌즈가 배치된 미세홀 깊이 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 기준면은 상기 피측정물의 일면인 미세홀 깊이 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 기준면은 상기 피측정물과 이격되어 배치된 기준 거울의 일면인 미세홀 깊이 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 제1 광섬유로부터 상기 제3 광섬유에 전달되는 광량이 상기 제2 광섬유에 전달되는 광량보다 큰 미세홀 깊이 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 피측정물은 복수 개의 미세홀을 포함하고, 상기 제3 광섬유는 상기 복수 개의 미세홀에 각각 대응되도록 배치된 복수 개의 광섬유를 포함하는 미세홀 깊이 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 제2 광섬유 및 상기 제3 광섬유의 길이는 동일한 미세홀 깊이 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 제1 내지 제4 광섬유는 단일 모두 광섬유(single-mode optical fiber)인 미세홀 깊이 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 광대역의 가간섭 광은 복수 개의 주파수 성분을 포함하며, 상기 광 검출기는 상기 복수 개의 주파수 성분에 각각 대응되는 간섭광들을 검출하는 광 스펙트럼 분석기(optical spectrum analyzer)인 미세홀 깊이 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 피측정물은 복수 개의 미세홀을 구비하며, 상기 피측정물 또는 상기 제3 광섬유를 이동시키는 구동부를 더 구비하는 미세홀 깊이 측정 장치
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광대역의 가간섭 광을 조사하는 발광부;적어도 하나의 미세홀을 구비하며, 상기 발광부로부터 입사되는 광을 상기 미세홀의 바닥면에서 반사하는 피측정물;광섬유 커플러 및 상기 광섬유 커플러에서 분기되는 제1 광섬유, 단부에 광을 집속하는 제2 렌즈를 구비하는 제3 광섬유 및 제4 광섬유; 및상기 미세홀의 바닥면 및 상기 제3 광섬유에 구비된 제2 렌즈의 표면에서 반사되는 광을 수광하여, 간섭 신호로부터 상기 미세홀의 깊이를 측정하는 광 검출기;를 포함하며,상기 제1 광섬유는 상기 발광부와 연결되며, 상기 발광부로부터 입사되는 광을 상기 광섬유 커플러를 통해 상기 제3 광섬유에 전달하고,상기 제3 광섬유는 상기 제3 광섬유의 단부에 구비된 제2 렌즈의 표면에서 상기 제1 광섬유를 통해 전달받은 광의 일부를 반사하고, 상기 제2 렌즈를 투과한 광을 상기 미세홀에 광을 조사하여 상기 미세홀의 바닥면에서 반사되는 광을 수광하며,상기 제4 광섬유는 상기 광 검출기에 연결되며, 상기 제3 광섬유로부터 입사되는 광을 상기 광섬유 커플러를 통해 상기 광 검출기에 전달하는 것을 특징으로 하는 미세홀 깊이 측정 장치
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적어도 하나의 미세홀을 구비하는 피측정물; 및광섬유 커플러 및 상기 광섬유 커플러에서 분기되는 제1 광섬유, 제2 광섬유, 제3 광섬유 및 제4 광섬유;를 구비하는 미세홀 깊이 측정 장치를 이용한 미세홀 깊이 측정 방법에 있어서,광대역의 가간섭 광을 조사하는 발광부로부터 상기 발광부와 연결되어 있는 상기 제1 광섬유에 광이 입사되며, 상기 광섬유 커플러를 통해 상기 제2 광섬유 및 상기 제3 광섬유에 전달된 광을 각각 기준면 및 상기 미세홀에 조사하는 단계; 상기 기준면에서 반사된 광을 상기 제2 광섬유에 의해 수광하고, 상기 미세홀의 바닥면에서 반사된 광을 상기 제3 광섬유에 의해 수광하는 단계; 및상기 제2 광섬유 및 상기 제3 광섬유에 의해 수광된 광이 상기 광섬유 커플러를 통해 상기 제4 광섬유에 전달되며, 상기 제4 광섬유와 연결되어 있는 광 검출기에 의해 상기 피측정물의 상기 기준면 및 상기 미세홀의 바닥면에서 반사된 광에 의해 형성된 간섭광을 수광하는 단계;를 포함하는 미세홀 깊이 측정 방법
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제12 항에 있어서,상기 광을 조사하는 단계는, 복수 개의 주파수 성분을 포함하는 상기 광대역의 가간섭 광을 조사하는 단계를 포함하며,상기 광 검출기에 의해 간섭광을 수광하는 단계는, 광 스펙트럼 분석기(optical spectrum analyzer)에 의해 상기 복수 개의 주파수 성분에 각각 대응되는 간섭광들을 수광하는 단계를 포함하는 미세홀 깊이 측정 방법
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제12 항에 있어서,상기 피측정물은 복수 개의 상기 미세홀을 구비하며,상기 제2 광섬유 및 상기 제3 광섬유에 전달된 광을 각각 기준면 및 상기 미세홀에 조사하는 단계 전에, 상기 피측정물 또는 상기 제3 광섬유를 구동부에 의해 이동시키는 단계를 더 포함하는 미세홀 깊이 측정 방법
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제12 항에 있어서,상기 피측정물은 복수 개의 상기 미세홀을 구비하며,상기 제3 광섬유에 전달된 광을 상기 미세홀에 조사하는 단계는 복수 개의 상기 제3 광섬유에 전달된 광을 각각 복수 개의 상기 미세홀에 조사하는 단계를 포함하며, 상기 미세홀의 바닥면에서 반사된 광을 상기 제3 광섬유에 의해 수광하는 단계는 복수 개의 상기 미세홀의 바닥면에서 반사된 광을 각각 복수 개의 상기 제3 광섬유에 의해 수광하는 단계를 포함하는 미세홀 깊이 측정 방법
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