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(a) 무기물(Inorganic)로 이루어진 세라믹 기판 위에 중간물질(Intermediator)로서 비표면적이 큰 감마타입의 알루미나 또는 실리카를 코팅하는 제1단계 공정; (b) 상기 제1단계 공정에서 코팅된 감마타입의 알루미나 또는 실리카 표면 위에 4Å의 기공을 갖는 NaA 타입의 제올라이트를 코팅시키는 제2단계 공정; (c) 상기 제2단계 공정에서 코팅된 4Å의 기공을 갖는 NaA 타입의 제올라이트에 나트륨보다 원자의 반경이 크거나 작은 금속(Metal)의 염(salts)으로 이온교환시켜, 제올라이트가 촉매의 기능을 갖게 하고, 제올라이트의 기공(Pore) 크기를 다양하게 하는 제3단계 공정; (d) 상기 제3단계 공정에서 이온교환된 금속 이외의 불순물을 제거하기 위하여 용매로 세척하는 제4단계 공정; 및(e) 상기 제4단계 공정에서 사용된 용매를 제거하기 위하여 건조하는 제5단계 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 이온 교환방법에 의한 액체 및 기체의 선택적 분리용 무기막 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 세라믹 기판은 알루미나(Alumina), 티타니아(Titania), 지르코니아(Zirconia), 이산화규소(Silica), 탄화규소(Silicon carbide), 질화규소(Silicon nitride), 탄화텅스텐(Tungstan carbide), 질화텅스텐(Tungstan nitride), 맥반석, 황토석, 감람석(Olivine), 고령토(Kaolin), 규조토(Diatomite), 규회석(Wollastonite), 납석(Pyrophyllite), 돌로마이트(Dolomite), 리튬광물(Lithium Minerals), 마그네사이트(Magnesite), 보크사이트(Bauxite), 벤토나이트(Bentonite), 부석(Pumice), 붕산염광물(Borate), 사문석(Serpentine), 산성백토(Acid clay), 산화철(Iron Oxide), 석류석(Garnet), 탄산광물(Carbonate Minerals), 애타풀자이트(Attapulgite), 세피오라이트(Sepiolite), 연옥(Nephrite), 인회석(Apatite), 일라이트-운모(Illite-Mica), 장석(Feldspar), 진주암(Perlite), 질석(Vermiculite), 중정석(Barite), 활석(Talc), 규조토(diatomaceous earth), 흑연(Graphite), 헥토라이트(Hectorite), 점토광물(Clay Minerals), 투어마린(Tourmaine; 전기석), 흄실리카(Fume silica), 에어로겔(Aerogel), 플라이애시(Fly ash) 및 고로슬래그(Furnace slag)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 2종 이상의 세라믹 성분으로 구성되는 것을 특징으로 하는 이온 교환방법에 의한 액체 및 기체의 선택적 분리용 무기막 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 제1단계 공정은 알루미나 또는 실리카 고형분의 함량이 0
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청구항 1에 있어서,상기 제2단계 공정은 pH가 10 이상에서 화학양론적으로 2몰에 해당하는 이산화규소(SiO2)와 1몰에 해당하는 산화알루미늄(Al2O3)과 5몰에 해당하는 산화나트륨(Na2O)을 함께 섞어주는 혼합단계;상기 혼합단계에서 생성된 비정질의 알루민산규산나트륨(Sodium aluminosilicate)의 슬러리(Slurry)상태의 용액을 비표면적이 큰 감마타입의 알루미나 또는 실리카가 코팅된 세라믹 기판과 접촉시키는 접촉단계; 및상기 비정질의 알루민산규산나트륨을 75 내지 130 ℃의 온도 및 30 kg/cm2 이하의 가압 조건에서 가열하여 세라믹 기판 위에 제공된 비정질의 알루민산규산나트륨의 입자를 성장시키기 위한 결정 성장단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 이온 교환방법에 의한 액체 및 기체의 선택적 분리용 무기막 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 제3단계 공정은 NaA 타입 제올라이트 구조에 구성되어 있는 나트륨의 몰 수보다 많은 몰 수의 금속의 염이 용해된 수용액을 세라믹 기판의 상위층에 코팅된 NaA 타입의 제올라이트와 이온교환시키고,상기 금속의 염은 리튬(Li), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 칼륨(K), 칼슘(Ca), 스칸듐(Sc), 티타늄(Ti), 바나듐(V), 크롬(Cr), 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 구리(Cu), 아연(Zn), 갈륨(Ga), 게르마늄(Ge), 비소(As), 셀레늄(Se), 스트론튬(Sr), 이티륨(Y), 지르코늄(Zr), 니오븀(Nb), 몰리브덴(Mo), 테크네튬(Tc), 파라듐(Pd), 은(Ag), 카드늄(Cd), 인듐(In), 주석(Sn), 안티몬(Sb), 바륨(Ba), 텅스텐(W), 백금(Pt), 금(Au), 납(Pb) 및 비스무스(Bi)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 2종 이상의 금속의 황산염(Sulfate), 질산염(Nitrate), 염화염(Chloride), 불화염(Fluoride) 또는 카르복실염(Carboxylate)인 금속의 염(Matal salts)인 것을 특징으로 하는 이온 교환방법에 의한 액체 및 기체의 선택적 분리용 무기막 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 제4단계 공정은 수중 조건에서 침적, 와류 또는 초음파에 의한 세척단계인 것을 특징으로 하는 이온 교환방법에 의한 액체 및 기체의 선택적 분리용 무기막 제조방법
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청구항 3에 있어서,상기 건조공정은 15 ℃ 내지는 185 ℃의 온도범위에서 근적외선 가열방법, 적외선가열방법, 극초단파에 의한 가열방법, 오븐(Oven)에 의한 열풍 가열방법, 열판 직접가열방법, 상온 훈풍 가열방법 중 어느 하나의 가열방법에 의하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 이온 교환방법에 의한 액체 및 기체의 선택적 분리용 무기막 제조방법
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청구항 3에 있어서,상기 하소(Calcination)공정은 400 ℃ 내지 850 ℃의 온도에서 30 분 내지 12시간 가열하는 것을 특징으로 하는 이온 교환방법에 의한 액체 및 기체의 선택적 분리용 무기막 제조방법
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청구항 3에 있어서,상기 알루미나의 비표면적이 80 내지 250 m2/g인 것을 특징으로 하는 이온 교환방법에 의한 액체 및 기체의 선택적 분리용 무기막 제조방법
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청구항 3에 있어서,상기 알루미나 졸 용액은 스핀코팅(Spin coating), 침지코팅(Dip coating), 분사코팅(Spray coating), 롤 코팅(Roll coating) 중 선택되어지는 코팅방법에 의하여 세라믹 기판 위에 코팅되어지는 것을 특징으로 하는 이온 교환방법에 의한 액체 및 기체의 선택적 분리용 무기막 제조방법
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청구항 1의 제조방법에 의하여 제조되는 것을 특징으로 하는 이온 교환방법에 의한 액체 및 기체의 선택적 분리용 무기막
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