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미세패턴 제조장치에 있어서, 제1특정폭을 갖는 레이저빔을 발생시키는 레이저 발생부;발생된 상기 레이저빔이 입사되어 일부를 반사시켜 제1레이저빔을 출사시키고, 나머지는 투과시켜 제2레이저빔을 출사시키는 편광빔스플리터로 구성된 빔스플리터;상기 빔스플리터에서 출사된 제1레이저빔을 반사시켜 상기 빔스플리터로 다시 입사시키는 평면미러;상기 빔스플리터에서 출사된 제2레이저빔을 반사시켜 제1특정폭보다 작은 제2특정폭을 갖는 제2레이저빔을 상기 빔스플리터로 다시 입사시키는 구면미러;상기 제1특정폭을 갖는 제1레이저빔과 상기 제2특정폭을 갖는 제2레이저빔이 입사되는 검광기; 상기 검광기를 투과한 상기 제1레이저빔과 상기 제2레이저빔을 투과시켜 기판에 코팅된 감광막에 상기 제1레이저빔과 상기 제2레이저빔이 간섭된 간섭레이저빔을 주사시키는 노광렌즈;상기 레이저발생부와 상기 편광빔스플리터 사이에 구비되어 상기 레이저발생부에서 발생된 레이저빔이 투과되어 편광방향이 서로 수직인 S파 및 P파로 편광시키는 편광판; 및상기 편광빔스플리터와 상기 평면미러 사이 및 상기 편광빔스플리터와 상기 구면미러 사이 각각에 구비되어 입사되는 광을 45°만큼 편광시키는 쿼터파장판;를 포함하고, 기판에 코팅된 상기 감광막은 2 이상이 적층된 다중층으로 구성되고, 상기 노광렌즈의 초점부근에서 상기 제1레이저빔과 상기 제2레이저빔이 높이방향의 간섭무늬방향을 갖도록 간섭되는 것을 특징으로 하는 레이저 주사방식에서 간섭을 이용한 미세패턴 제조장치
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제 1항에 있어서, 내부에 상기 빔스플리터, 상기 평면미러, 상기 구면미러, 상기 검광기 및 상기 노광렌즈가 설치되는 노광헤드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 주사방식에서 간섭을 이용한 미세패턴 제조장치
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제 6항에 있어서, 상기 노광헤드를 평면방향의 일축인 X축 방향으로 이동시키는 X 스테이지; 상기 기판이 설치되는 기판 설치부; 및평면방향이고 상기 X축과 수직인 Y축 방향으로 상기 기판설치부를 이동시키는 Y스테이지를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 주사방식에서 간섭을 이용한 미세패턴 제조장치
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제 7항에 있어서, 상기 기판 설치부를 수직축인 Z 축 중심으로 회전시키는 회전스테이지를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 주사방식에서 간섭을 이용한 미세패턴 제조장치
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제 8항에 있어서, 상기 X 스테이지, Y스테이지 및 회전 스테이지 중 적어도 어느 하나를 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 주사방식에서 간섭을 이용한 미세패턴 제조장치
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제 1항에 있어서, 상기 노광렌즈와 상기 감광막 사이의 간격을 조절하여 상기 노광렌즈의 초점을 조절하는 초점조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 주사방식에서 간섭을 이용한 미세패턴 제조장치
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제1항의 미세패턴 제조장치를 이용한 미세패턴 제조방법에 있어서, 레이저발생부에서 제1특정폭을 갖는 레이저빔이 발생되는 단계; 상기 레이저발생부에서 발생된 상기 레이저빔이 빔스플리터에 입사되어 일부는 반사되어 제1레이저빔을 출사되고, 나머지는 투과되어 제2레이저빔으로 출사되는 단계; 상기 빔스플리터에서 출사된 제1레이저빔이 평면미러에 반사되어 상기 빔스플리터로 다시 입사되며, 상기 빔스플리터에서 출사된 제2레이저빔이 구면미러에 반사되어 제1특정폭보다 작은 제2특정폭을 갖는 제2레이저빔으로 상기 빔스플리터로 다시 입사되는 단계;상기 제1레이저빔과 상기 제2레이저빔이 검광기에 입사되어 편광방향이 일치되는 단계;상기 제1레이저 빔과 상기 제2레이저 빔이 노광렌즈에 투과되는 단계; 상기 제1레이저빔과 상기 제2레이저빔이 초점부근에서 간섭되어 높이방향으로 간섭무뉘방향을 갖는 간섭레이저빔이 형성하여 상기 간섭레이저빔이 기판에 코팅된 감광막에 주사되는 단계; 및상기 간섭레이저빔이 주사된 감광막의 물성이 변형되고, 상기 간섭레이저빔이 주사되는 않은 감광막을 제거하여 미세패턴을 형성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 주사방식에서 간섭을 이용한 미세패턴 제조방법
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제 11항에 있어서, 상기 발생되는 단계 후에,편광판에 상기 레이저빔이 투과되어 편광방향이 서로 수직인 S파 및 P파로 편광되는 단계를 더 포함하고, 상기 출사되는 단계 및 상기 입사되는 단계는, 상기 빔스플리터는 편광빔스플리터로 구성되어, 상기 편광판을 투과한 S파는 상기 편광빔스플리터에 반사되어 제1쿼터 파장판을 투과하여 상기 평면미러에 반사되어 다시 제1쿼터 파장판을 투과하여 P파로 변형되어 상기 편광빔스플리터를 투과하여 제1특정폭을 갖는 제1레이저빔으로 출사되고, 상기 편광판을 투과한 P파는 상기 편광빔스플리터에 투과되어 제2쿼터 파장판을 투과하여 상기 구면미러에 반사되어 다시 제2쿼터 파장판을 투과하여 S파로 변형되어 제1특정폭보다 작은 제2특정폭을 갖는 제2레이저빔으로서 상기 편광빔스플리터에서 출사되는 것을 특징으로 하는 레이저 주사방식에서 간섭을 이용한 미세패턴 제조방법
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제 11항에 있어서, 상기 기판이 설치되는 기판 설치부; 및내부에 상기 빔스플리터, 상기 평면미러, 상기 구면미러, 상기 검광기 및 상기 노광렌즈가 설치되는 노광헤드를 구비하며, 상기 노광헤드를 평면방향 일축인 X축 방향으로 이동시키는 X 스테이지, 상기 기판설치부를 평면방향이고 상기 X축과 수직인 Y축 방향으로 이동시키는 Y스테이지 및 상기 기판 설치부를 수직축인 Z 축 중심으로 회전시키는 회전스테이지를 더 포함하고, 제어부가 X스테이지를 구동하여 이동속도를 조절하며 상기 노광헤드를 X축방향으로 이동시키는 단계, 상기 제어부가 Y스테이지를 구동하여 이동속도를 조절하며 상기 기판설치부를 Y축방향으로 이동시키는 단계 및 제어부가 상기 회전스테이지를 구동하여 회전속도를 조절하며 상기 기판설치부를 회전시키는 단계 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 주사방식에서 간섭을 이용한 미세패턴 제조방법
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