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금속 박막상에 기설정된 패턴의 레지스트(resist)를 형성하는 단계;상기 레지스트를 이용하여 상기 금속 박막에 서로 나란하게 배치된 복수 개의 트렌치 구조를 형성하는 단계; 및상기 복수 개의 트렌치 구조 내부에 활물질을 채우는 단계;를 포함하며,상기 활물질의 상부 표면과 상기 복수 개의 트렌치 구조의 상부 표면은 함께 노출된 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 레지스트는, 상기 금속 박막 표면에 도포된 잉크 또는 토너인 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 레지스트는, 기설정된 간격으로 이격된 복수 개의 라인 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제3항에 있어서,상기 트렌치 구조를 형성하는 단계는,상기 복수 개의 라인 패턴 사이의 금속 박막 표면에 금속 물질을 성장시키는 단계; 및상기 레지스트를 제거하여, 상기 금속 물질로 이루어진 복수 개의 트렌치 구조를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 트렌치 구조를 형성하는 단계는,상기 복수 개의 트렌치 구조 각각의 내부 측면에 탄성 물질을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 금속 물질은,상기 금속 박막과 상이한 물질로 이루어지는 탄성 물질인 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 활물질을 채우는 단계는,상기 복수 개의 트렌치 각각의 바닥면에 상기 활물질을 박막 형태로 형성하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 활물질을 채우는 단계는,분말 형태의 활물질을 도전재 및 바인더와 함께 혼합하여 상기 복수 개의 트렌치 구조 내부에 삽입하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 활물질을 채우는 단계는,상기 트렌치 구조의 바닥면에 제1 활물질로 이루어진 중간막을 형성하는 단계; 및상기 중간막의 상부에 제2 활물질로 이루어진 전극 물질을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 활물질을 채우는 단계는,상기 중간막 및 상기 전극 물질을 열처리하여 상기 중간막 및 상기 전극 물질의 경계 영역에 결합층을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 트렌치 구조를 형성하는 단계는,화학기상증착(CVD), 물리기상증착(PVD), 전해 도금, 및 무전해 도금 중 적어도 하나의 방식에 따라 상기 복수 개의 트렌치 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제3항에 있어서,상기 트렌치 구조를 형성하는 단계는,상기 복수 개의 라인 패턴 사이의 금속 박막 표면을 식각하여 상기 복수 개의 트렌치 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 트렌치 구조를 형성하는 단계는,상기 복수 개의 트렌치 구조 각각의 내부의 측면에 탄성 물질을 형성하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 활물질을 채우는 단계는,상기 레지스트의 상부 표면 및 상기 식각된 금속 박막의 상부 표면에 상기 활물질을 채우고, 상기 활물질이 채워진 레지스트를 제거하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 활물질을 채우는 단계는,상기 복수 개의 트렌치 구조 각각의 바닥면에 상기 활물질을 박막 형태로 형성하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 활물질을 채우는 단계는,분말 형태의 활물질을 도전재 및 바인더와 함께 혼합하여 상기 복수 개의 트렌치 구조 내부에 삽입하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 활물질을 채우는 단계는,상기 복수 개의 트렌치 구조의 바닥면에 제1 활물질로 이루어진 중간막을 형성하는 단계; 및상기 중간막의 상부에 제2 활물질로 이루어진 전극 물질을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제17항에 있어서,상기 활물질을 채우는 단계는,상기 중간막 및 상기 전극 물질을 열처리하여 상기 중간막 및 상기 전극 물질의 경계 영역에 결합층을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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제15항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,상기 트렌치 구조를 형성하는 단계는,전해 에칭, 건식 에칭, 및 습식 에칭 중 적어도 하나의 방식에 따라 상기 복수 개의 트렌치 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 전극 제조 방법
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