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기판(110), 제1 전극(120), 정공전달층(130), 광활성층(140) 또는 발광층(141), 및 제2 전극(150)이 적층된 구조를 가지는 유기전자소자를 제조하는 방법에 있어서,상기 유기전자소자의 모든 층 또는 일부 층의 패터닝이 가능하도록 리포지셔너블 접착제(repositionable adhesive)가 도포된 마스크(mask)를 이용한, 브러쉬 코팅 공정을 적용한 것을 특징으로 하는 유기전자소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 마스크(mask)는 스테인레스 스틸(Stainless steal, STS)인 것을 특징으로 하는 유기전자소자의 제조방법
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제 2항에 있어서,상기 스테인레스 스틸(STS)은 0
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제 1항 또는 제 2 항에 있어서,상기 패터닝에 사용되는 마스크(mask)는 세정하여 리포지셔너블 접착제(repositionable adhesive)를 스프레이 도포하고, 상온 내지 50℃에서 10분 내지 60분간 건조한 후, 제 1 전극 위에 고정하여 표면 개질을 실시하는 것을 특징으로 하는 유기전자소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 기판(110)은 PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylene naphthelate), PP(polypropylene), PI(polyimde), PC(polycarbonate), PS(polystylene), POM(polyoxyethylene), AS 수지, ABS 수지, TAC(triacetyl cellulose), 유리, 또는 석영판에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기전자소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 제1 전극(120)은 ITO(indium tin oxide), 금, 은, 플로린이 도핑된 틴 옥사이드(fluorine doped tin oxide, FTO), 알루미늄이 도핑된 징크 옥사이드(aluminum doped zink oxide, AZO), IZO(indium zink oxide), ZnO-Ga2O3, ZnO-Al2O3 , ATO(antimony tin oxide), PEDOT:PSS, 또는 탄소나노튜브에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기전자소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 정공수송층(130)은 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)/폴리(4-스티렌설포네이트)[PEDOT:PSS]를 20 ~ 60 ㎚ 두께로 브러쉬 코팅하여 도입하는 것을 특징으로 하는 유기전자소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 광활성층(140)은 P3HT와 PCBM을 1 : 0
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제 1항에 있어서,상기 발광층(141)은 폴리(1,4-페닐렌비닐렌)[PPV], 폴리알킬플루오린[PAF], 및 폴리(파라-페닐렌)[PPP]에서 선택되는 1종 이상을 유기용매에 0
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제 1항에 있어서,상기 제2 전극(150)은 상기 광활성층(140) 또는 발광층(141)이 도입된 상태에서 불화리튬/알루미늄, 불화리튬/칼슘/알루미늄, 칼슘/알루미늄, 불화바륨/알루미늄, 불화바륨/바륨/알루미늄, 바륨/알루미늄, 알루미늄, 금, 은, 마그네슘:은, 또는 리튬:알루미늄에서 선택되는 어느 하나를 5×10-7 torr 이하의 진공도를 보이는 열증착기 내부에서 증착하여 도입하는 것을 특징으로 하는 유기전자소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 유기전자소자는 유기태양전지 또는 고분자 발광다이오드인 것을 특징으로 하는 유기전자소자의 제조방법
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