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하기 구조식 1로 표시되는 금속-유기 다공성 물질에서 용매 분자를 제거하는 단계, 및상기 용매 분자가 제거된 금속-유기 다공성 물질을 유기 용매에 녹아 있는 하기 구조식 2로 표시되는 키랄 분자와 반응시키는 단계를 포함하는 키랄 금속-유기 다공성 물질의 제조방법:003c#구조식 1003e#상기 구조식 1에서, M은 금속이온이고, L1 내지 L5는, 서로 독립적으로, 다른 금속이온과 연결되는 리간드로서 루이스 염기를 포함하는 기, 음전하 이온을 포함하는 기, 황산염, 질산염, 할로겐, 인산염, 아민, 및 이들의 조합; 단일 고리 방향족 고리, 여러 고리 방향족 고리, 1 내지 10개의 탄소를 가지는 지방족 반응기, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되고, Sol은 금속 이온에 배위할 수 있는 용액으로서 하이드록시기를 포함하는 기, 아민을 포함하는 기, 아마이드를 포함하는 기, 탄산염, 질산염, 할로겐, 인산염 및 이들의 조합; 단일 고리 방향족 고리, 여러 고리 방향족 고리, 1 내지 10개의 탄소를 가지는 지방족 반응기, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군 및 물을 포함하고, n은 101 내지 1012의 정수이고,003c#구조식 2003e#상기 구조식 2에서, *A는 키랄 탄소를 함유하는 단위로서 피롤리딘 유도체, 프롤린, 2차 아민 또는 이들의 조합을 포함하고,B는 키랄 탄소를 함유하지 않는 나머지 단위로서 -CO2-, 2차 아민, 피리딘 유도체 또는 이들의 조합을 포함한다
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제1항에 있어서, 상기 M이 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Ru, Os, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Hg, Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, As, Sb, 및 Bi로 이루어지는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 키랄 분자가 하기 구조식 3 또는 구조식 4로 표시되는 것을 특징으로 하는 제조방법:003c#구조식 3003e# 003c#구조식 4003e#
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제1항에 있어서, 상기 유기 용매가 CHCl3, CH2Cl2 또는 톨루엔으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 키랄 금속-유기 다공성 물질이 하기 구조식 5로 표시되는 것을 특징으로 하는 제조방법:003c#구조식 5003e#상기 구조식 5에서, M은 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Ru, Os, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Hg, Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, As, Sb, 및 Bi로 이루어지는 군에서 선택되고, L1 내지 L5는, 서로 독립적으로, 다른 금속이온과 연결되는 리간드로서 루이스 염기를 포함하는 기, 음전하 이온을 포함하는 기, 황산염, 질산염, 할로겐, 인산염, 아민, 및 이들의 조합; 단일 고리 방향족 고리, 여러 고리 방향족 고리, 1 내지 10개의 탄소를 가지는 지방족 반응기, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되고,n은 101 내지 1012의 정수이고,*A는 키랄 탄소를 함유하는 단위로서 피롤리딘 유도체, 프롤린, 2차 아민 또는 이들의 조합을 포함하고,B는 키랄 탄소를 함유하지 않는 나머지 단위로서 -CO2-, 2차 아민, 피리딘 유도체 또는 이들의 조합을 포함한다
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제6항에 있어서, 상기 키랄 금속-유기 다공성 물질이 [Cr3O(CHEM-1)1
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제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항의 제조방법에 의하여 얻어진 것을 특징으로 하는 키랄 금속-유기 다공성 물질
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제8항의 키랄 금속-유기 다공성 물질을 함유하는 비대칭 합성용 촉매
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제8항의 키랄 금속-유기 다공성 물질을 함유하는 키랄 물질 흡착제
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