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전자빔 발생장치 및 전자빔 발생방법

  • 기술번호 : KST2014043043
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 공진공동 내측의 전기장의 대칭성이 유지되는 전자빔 발생장치에 대한 것이다. 이를 위하여 내측에 공진공동이 마련된 원통형의 하우징과, 하우징에 전자기파를 입사시키기 위하여 하우징의 외주부에 결합되며 커플링홀을 통하여 공진공동과 연통되는 웨이브가이드와, 하우징의 외주부상에서 웨이브가이드의 반대편에 결합되고 제1펌핑홀을 통하여 공진공동과 연통되는 제1펌핑포트를 포함하며, 레이저빔이 내측으로 입사되는 입사홀과 레이저빔에 의하여 발생되는 전자빔이 외측으로 배출되는 배출홀이 하우징의 중심축방향의 일면에만 마련된 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01J 23/20 (2006.01) H01J 23/06 (2006.01)
CPC H01J 3/02(2013.01) H01J 3/02(2013.01) H01J 3/02(2013.01) H01J 3/02(2013.01) H01J 3/02(2013.01)
출원번호/일자 1020090077796 (2009.08.21)
출원인 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1041271-0000 (2011.06.07)
공개번호/일자 10-2011-0020085 (2011.03.02) 문서열기
공고번호/일자 (20110614) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.08.21)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박용운 대한민국 전라남도 장흥군
2 박성주 대한민국 경상북도 포항시 남구
3 홍주호 대한민국 경상북도 포항시 남구
4 문성익 대한민국 경상북도 포항시 남구
5 고인수 대한민국 경상북도 포항시 남구
6 김창범 대한민국 경상북도 포항시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 양문옥 대한민국 서울(특허법인 퇴사후 사무소변경 미신고)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 박용운 경상북도 포항시 남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.08.21 수리 (Accepted) 1-1-2009-0513668-80
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0056938-65
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2011-0234068-32
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.03.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0234069-88
5 등록결정서
Decision to grant		 2011.05.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0288655-79
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025573-58
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5024386-11
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
내측에 공진공동이 마련된 원통형의 하우징; 상기 하우징에 전자기파를 입사시키기 위하여 상기 하우징의 외주부에 결합되며 커플링홀을 통하여 상기 공진공동과 연통되는 웨이브가이드; 및 상기 하우징의 외주부상에서 상기 웨이브가이드의 반대편에 결합되고 제1펌핑홀을 통하여 상기 공진공동과 연통되는 제1펌핑포트;를 포함하며, 레이저빔이 내측으로 입사되는 입사홀과 상기 레이저빔에 의하여 발생되는 전자빔이 외측으로 배출되는 배출홀이 상기 하우징의 중심축방향의 일면에만 마련된 전자빔 발생장치
2 2
내측에 공진공동이 마련된 원통형의 하우징; 상기 하우징에 전자기파를 입사시키기 위하여 상기 하우징의 외주부에 결합되며 커플링홀을 통하여 상기 공진공동과 연통되는 웨이브가이드; 및 상기 하우징의 외주부상에서 상기 웨이브가이드의 반대편에 결합되고 제1펌핑홀을 통하여 상기 공진공동과 연통되는 제1펌핑포트;를 포함하며, 상기 하우징에는 레이저빔이 내측으로 입사되는 입사홀과, 상기 레이저빔에 의하여 발생되는 전자빔이 외측으로 배출되는 배출홀이 마련되고, 상기 제1펌핑홀은 상기 커플링홀과 다른 형상으로 마련된 전자빔 발생장치
3 3
내측에 공진공동이 마련된 원통형의 하우징; 상기 하우징에 전자기파를 입사시키기 위하여 상기 하우징의 외주부에 결합되며 커플링홀을 통하여 상기 공진공동과 연통되는 웨이브가이드; 및 상기 하우징의 외주부상에서 상기 웨이브가이드의 반대편에 결합되고 제1펌핑홀을 통하여 상기 공진공동과 연통되는 제1펌핑포트;를 포함하며, 상기 하우징에는 레이저빔이 내측으로 입사되는 입사홀과, 상기 레이저빔에 의하여 발생되는 전자빔이 외측으로 배출되는 배출홀이 마련되고, 상기 제1펌핑홀은 일방향으로 연장된 홀의 형상으로 마련된 전자빔 발생장치
4 4
내측에 제1공진공동이 마련된 원통형의 제1하우징; 상기 제1하우징에 결합되며 내측에 마련된 제2공진공동이 상기 제1공진공동과 연통되는 원통형의 제2하우징; 상기 제1하우징에 전자기파를 입사시키기 위하여 상기 제1하우징의 외주부에 결합되며 커플링홀을 통하여 상기 제1공진공동과 연통되는 웨이브가이드; 및 상기 제1하우징의 외주부상에서 상기 웨이브가이드의 반대편에 결합되고 제1펌핑홀을 통하여 상기 제1공진공동과 연통되는 제1펌핑포트;를 포함하며, 레이저빔이 내측으로 입사되는 입사홀과 상기 레이저빔에 의하여 발생되는 전자빔이 외측으로 배출되는 배출홀이 상기 제1하우징의 중심축방향의 일면에만 마련된 전자빔 발생장치
5 5
내측에 제1공진공동이 마련된 원통형의 제1하우징; 상기 제1하우징에 결합되며 내측에 마련된 제2공진공동이 상기 제1공진공동과 연통되는 원통형의 제2하우징; 상기 제1하우징에 전자기파를 입사시키기 위하여 상기 제1하우징의 외주부에 결합되며 커플링홀을 통하여 상기 제1공진공동과 연통되는 웨이브가이드; 및 상기 제1하우징의 외주부상에서 상기 웨이브가이드의 반대편에 결합되고 제1펌핑홀을 통하여 상기 제1공진공동과 연통되는 제1펌핑포트;를 포함하며, 상기 제1하우징에는 레이저빔이 내측으로 입사되는 입사홀과, 상기 레이저빔에 의하여 발생되는 전자빔이 외측으로 배출되는 배출홀이 마련되고, 상기 제1펌핑홀은 상기 커플링홀과 다른 형상으로 마련된 전자빔 발생장치
6 6
내측에 제1공진공동이 마련된 원통형의 제1하우징; 상기 제1하우징에 결합되며 내측에 마련된 제2공진공동이 상기 제1공진공동과 연통되는 원통형의 제2하우징; 상기 제1하우징에 전자기파를 입사시키기 위하여 상기 제1하우징의 외주부에 결합되며 커플링홀을 통하여 상기 제1공진공동과 연통되는 웨이브가이드; 및 상기 제1하우징의 외주부상에서 상기 웨이브가이드의 반대편에 결합되고 제1펌핑홀을 통하여 상기 제1공진공동과 연통되는 제1펌핑포트;를 포함하며, 상기 제1하우징에는 레이저빔이 내측으로 입사되는 입사홀과, 상기 레이저빔에 의하여 발생되는 전자빔이 외측으로 배출되는 배출홀이 마련되고, 상기 제1펌핑홀은 일방향으로 연장된 홀의 형상으로 마련된 전자빔 발생장치
7 7
내측에 공진공동이 마련된 원통형의 하우징; 상기 하우징에 전자기파를 입사시키기 위하여 상기 하우징의 외주부에 결합되며 커플링홀을 통하여 상기 공진공동과 연통되는 웨이브가이드; 및 상기 하우징의 외주부상에서 상기 웨이브가이드의 반대편에 결합되고 제1펌핑홀을 통하여 상기 공진공동과 연통되는 제1펌핑포트;를 포함하며, 상기 하우징의 중심축방향의 일면에는 입사홀이 형성되고, 레이저빔이 상기 하우징 내측으로 상기 입사홀을 통하여 입사되며 상기 레이저빔에 의하여 발생되는 전자빔이 상기 입사홀을 통하여 외측으로 배출되는 전자빔 발생장치
8 8
내측에 제1공진공동이 마련된 원통형의 제1하우징; 상기 제1하우징에 결합되며 내측에 마련된 제2공진공동이 상기 제1공진공동과 연통되는 원통형의 제2하우징; 상기 제1하우징에 전자기파를 입사시키기 위하여 상기 제1하우징의 외주부에 결합되며 커플링홀을 통하여 상기 제1공진공동과 연통되는 웨이브가이드; 및 상기 제1하우징의 외주부상에서 상기 웨이브가이드의 반대편에 결합되고 제1펌핑홀을 통하여 상기 제1공진공동과 연통되는 제1펌핑포트;를 포함하며, 상기 제1하우징의 중심축방향의 일면에는 입사홀이 형성되고, 레이저빔이 상기 제1하우징 내측으로 상기 입사홀을 통하여 입사되며 상기 레이저빔에 의하여 발생되는 전자빔이 상기 입사홀을 통하여 외측으로 배출되는 전자빔 발생장치
9 9
제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 레이저빔은 상기 하우징의 중심축에 대하여 비스듬하게 상기 입사홀 내부로 입사되는 전자빔 발생장치
10 10
제4항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 레이저빔은 상기 제1하우징의 중심축에 대하여 비스듬하게 상기 입사홀 내부로 입사되는 전자빔 발생장치
11 11
제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 하우징의 외주부에서 상기 웨이브가이드와 상기 제1펌핑포트의 가운데에 결합되며 제2펌핑홀을 통하여 상기 공진공동과 연통되는 제2펌핑포트와, 상기 하우징의 외주부에서 상기 제2펌핑포트의 반대편에 결합되며 제3펌핑홀을 통하여 상기 공진공동과 연통되는 제3펌핑포트를 포함하는 전자빔 발생장치
12 12
제4항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 제1하우징의 외주부에서 상기 웨이브가이드와 상기 제1펌핑포트의 가운데에 결합되며 제2펌핑홀을 통하여 상기 제1공진공동과 연통되는 제2펌핑포트와, 상기 제1하우징의 외주부에서 상기 제2펌핑포트의 반대편에 결합되며 제3펌핑홀을 통하여 상기 제1공진공동과 연통되는 제3펌핑포트를 포함하는 전자빔 발생장치
13 13
제11항에 있어서, 상기 제2펌핑홀과 제3펌핑홀은 상기 커플링홀과 다른 형상으로 마련된 전자빔 발생장치
14 14
제12항에 있어서, 상기 제2펌핑홀과 상기 제3펌핑홀은 상기 커플링홀과 다른 형상으로 마련된 전자빔 발생장치
15 15
제11항에 있어서, 상기 제2펌핑홀과 상기 제3펌핑홀은 일방향으로 연장된 홀의 형상으로 마련된 전자빔 발생장치
16 16
제12항에 있어서, 상기 제2펌핑홀과 상기 제3펌핑홀은 일방향으로 연장된 홀의 형상으로 마련된 전자빔 발생장치
17 17
제11항에 있어서, 상기 제1펌핑홀, 제2펌핑홈 및 제3펌핑홀은 동일 형상으로 마련된 전자빔 발생장치
18 18
제12항에 있어서, 상기 제1펌핑홀, 제2펌핑홈 및 제3펌핑홀은 동일 형상으로 마련된 전자빔 발생장치
19 19
제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항의 전자빔 발생장치를 이용한 전자빔 발생방법에 있어서, (a) 상기 입사홀을 통하여 상기 전자빔 발생장치 내측으로 레이저빔이 입사되는 단계; 및 (b) 입사된 상기 레이저빔에 의하여 상기 전자빔 발생장치의 내측에서 발생된 전자빔이 상기 배출홀을 통하여 배출되는 단계;를 포함하는 전자빔 발생방법
20 20
제19항에 있어서, 상기 (b)단계는 상기 전자기파에 의하여 상기 전자빔을 가속시키면서 배출시키는 것을 특징으로 하는 전자빔 발생방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN102187422 CN 중국 FAMILY
2 JP05386588 JP 일본 FAMILY
3 JP24506122 JP 일본 FAMILY
4 US08736169 US 미국 FAMILY
5 US20120133281 US 미국 FAMILY
6 WO2011021802 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
7 WO2011021802 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 CN102187422 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN102187422 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 DE112010000022 DE 독일 DOCDBFAMILY
4 DE112010000022 DE 독일 DOCDBFAMILY
5 GB201106284 GB 영국 DOCDBFAMILY
6 GB2484763 GB 영국 DOCDBFAMILY
7 GB2484763 GB 영국 DOCDBFAMILY
8 JP2012506122 JP 일본 DOCDBFAMILY
9 JP5386588 JP 일본 DOCDBFAMILY
10 US2012133281 US 미국 DOCDBFAMILY
11 US8736169 US 미국 DOCDBFAMILY
12 WO2011021802 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
13 WO2011021802 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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