1 |
1
인듐(In)을 포함하는 3원소 화합물로 이루어지며, 인듐의 함량을 증가시키면서 성장시켜 기판 상에 다단 버퍼층을 형성하고, 상기 다단 버퍼층의 최상부 조정과 동일하게 유지하며 성장시켜 타겟 버퍼층을 형성하여 버퍼층을 형성하는 단계; 상기 버퍼층 상에 희생층을 형성하는 단계; 상기 희생층 상에 태양 전지 구조체를 형성하는 단계; 상기 태양 전지 구조체 상에 지지막을 형성하는 단계; 상기 희생층을 선택적으로 식각하여 태양 전지 구조체를 기판과 분리하는 단계; 및 분리된 태양 전지 구조체를 이종의 호스트 기판에 접합시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 화합물 반도체 태양 전지의 제조 방법
|
2 |
2
제 1항에 있어서, 상기 버퍼층은 InGaAs, InAlAs 및 InAlP 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 화합물 반도체 태양 전지의 제조 방법
|
3 |
3
제 1항에 있어서, 상기 희생층은 상기 타겟 버퍼층과 격자 부정합인 것을 특징으로 하는 화합물 반도체 태양 전지의 제조 방법
|
4 |
4
제 3항에 있어서, 상기 희생층의 두께는 3nm 내지 5㎚인 것을 특징으로 하는 화합물 반도체 태양 전지의 제조 방법
|
5 |
5
제 1항에 있어서, 상기 희생층은 AlxGa1-xAs(0
|
6 |
6
제 1항에 있어서, 상기 태양 전지 구조체는 다중 접합 태양 전지인 것을 특징으로 하는 화합물 반도체 태양 전지의 제조 방법
|
7 |
7
제 6항에 있어서, 상기 태양 전지 구조체는 0
|
8 |
8
제 1항에 있어서, 상기 태양 전지 구조체는 0
|
9 |
9
제 1항에 있어서, 상기 지지막을 형성하는 단계는 상기 태양 전지 구조체 상에 점착성을 용이하게 하는 폴리머층을 형성하는 단계; 및 상기 폴리머층 상에 상기 태양 전지 구조체를 지지하는 지지층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 화합물 반도체 태양 전지의 제조 방법
|
10 |
10
제 1항에 있어서, 분리된 태양 전지 구조체를 이종의 호스트 기판에 접합시키는 단계는 상기 태양 전지 구조체 및 이종의 호스트 기판 사이의 반데르 발스 힘을 이용하는 것을 특징으로 하는 화합물 반도체 태양 전지의 제조 방법
|
11 |
11
제 1항에 있어서, 상기 분리된 태양 전지 구조체를 호스트 기판에 접합시킨 후, 상기 지지막을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화합물 반도체 태양 전지의 제조 방법
|
12 |
12
기판 상에 성장 방향으로 상기 기판과 격자 부정합 정도가 증가하는 버퍼층을 형성하는 단계; 상기 버퍼층 상에 상기 버퍼층의 최상부와 격자 정합인 희생층을 형성하는 단계; 상기 희생층 상에 다중 접합 태양 전지로 이루어지는 태양 전지 구조체를 형성하는 단계; 상기 태양 전지 구조체 상에 지지막을 형성하는 단계; 상기 희생층을 선택적으로 식각하여 태양 전지 구조체를 기판과 분리하는 단계; 및 분리된 태양 전지 구조체를 이종의 호스트 기판에 접합시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 화합물 반도체 태양 전지의 제조 방법
|
13 |
13
제 12항에 있어서, 상기 버퍼층을 형성하는 단계는 최하부가 상기 기판과 격자 정합을 이루며, 상부로 갈수록 격자 상수가 증가하여 격자 부정합 정도가 증가하도록 성장하는 다단 버퍼층을 형성하는 단계; 및 상기 다단 버퍼층의 최상부와 동일한 격자상수를 가지는 타겟 버퍼층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화합물 반도체 태양 전지의 제조 방법
|
14 |
14
제 13항에 있어서, 상기 희생층은 상기 타겟 버퍼층과 격자상수가 다르며, 알루미늄을 함유하는 3원소 화합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 화합물 반도체 태양 전지의 제조 방법
|
15 |
15
제 14항에 있어서, 상기 희생층의 두께는 3nm 내지 5㎚인 것을 특징으로 하는 화합물 반도체 태양 전지의 제조 방법
|
16 |
16
제 12항에 있어서, 상기 태양 전지 구조체는 0
|