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복수의 공급액 유입관이 구비된 노즐이 설치되되, 상기 노즐에 진동을 가해 구형 액적을 형성하는 진동 노즐부;상기 구형 액적이 낙하하며 이동하되, 상기 구형 액적에 가스를 공급하여 구형 액적의 표면을 경화시킨 후 반응액과 반응시켜 겔 입자를 형성하는 서브 겔화 컬럼;외주 측면에 연결되어 상기 반응액을 내부로 유입시키는 반응액 유입관과, 내주면 상부에 구비되어 상기 서브 겔화 컬럼을 상부에서 지지하는 상부 지지판과, 내주면 하부에 구비되어 상기 서브 겔화 컬럼을 하부에서 지지하되 내부에 상기 반응액을 상하부로 이동시키는 복수의 반응액 유동홀이 형성된 하부 지지판 및 외주 하면에 연결되어 상기 반응액과 서브 겔화 컬럼으로부터 배출되는 겔 입자를 외부로 배출하는 복합 유출관이 구비된 메인 겔화 컬럼을 포함하되,상기 서브 겔화 컬럼은,외주면에서 내주면으로 관통되어 상기 메인 겔화 컬럼 내의 반응액을 내부로 유출입시키는 복수의 반응액 유출입홀과, 외주 측면에 연결되어 내부의 가스를 외부로 배출시키는 복수의 가스 유출관 및 외주 하면에 연결되어 상기 겔 입자를 상기 메인 겔화 컬럼으로 배출하는 겔 입자 유출관이 구비된 외장 하우징;상기 외장 하우징의 내부에 구비되되, 외부의 가스를 내부로 유입시키는 가스 유입관이 외주 측면에 연결된 제 1가스 저장 탱크;상기 제 1가스 저장 탱크의 내부에 구비되되, 외주면에서 내주면으로 관통되어 상기 제 1가스 저장 탱크 내의 가스를 내부로 유입시키는 복수의 가스 유입홀이 형성된 제 2가스 저장 탱크;상기 제 2가스 저장 탱크의 내부에 구비되되, 외주면에서 내주면으로 관통되어 상기 제 2가스 저장 탱크 내의 가스를 내부로 균일하게 공급시키는 복수의 가스 공급홀이 형성되어 내부를 이동하는 상기 구형 액적의 표면을 경화시키는 가스 공급 조절부;상기 외장 하우징의 내부에 구비되되, 상기 외장 하우징의 내부를 폐쇄하여 상기 겔 입자를 적층하고, 회전에 의해 외장 하우징의 내부를 개방하여 상기 겔 입자를 상기 겔 입자 유출관으로 이동시키며 겔 입자의 배출량을 조절하는 배출량 조절부재; 및상기 배출량 조절부재에 연결되되, 상기 메인 겔화 컬럼 외부로 노출되어 상기 외장 하우징의 내부 개폐를 조절하는 개폐 레버를 포함하는 것을 특징으로 하는 반응액 출입가능형 겔화 장치
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제 1항에 있어서,상기 배출량 조절부재는 상기 외장 하우징 내의 반응액을 상하부로 이동시키는 복수의 반응액 유동홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 반응액 출입가능형 겔화 장치
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제 1항에 있어서,상기 복합 유출관과 반응액 유입관에 연결되는 반응액 순환관; 및상기 반응액 순환관에 연결되어 상기 복합 유출관 내의 반응액을 상기 메인 겔화 컬럼 내부로 유입시키는 순환 펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반응액 출입가능형 겔화 장치
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제 3항에 있어서,상기 반응액 순환관에 연결되어 상기 반응액 순환관 내부로 반응액을 공급하는 반응액 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반응액 출입가능형 겔화 장치
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제 1항에 있어서,상기 메인 겔화 컬럼 내의 반응액을 외부로 배출시키는 반응액 유출관을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반응액 출입가능형 겔화 장치
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제 1항에 있어서,상기 복합 유출관에 연결되어 상기 복합 유출관 내의 겔 입자를 저장하여 외부로 배출시키는 겔 입자 저장부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반응액 출입가능형 겔화 장치
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제 1항에 있어서,상기 공급액 유입관은 상기 노즐에 서로 180도 이격되어 구비되는 것을 특징으로 하는 반응액 출입가능형 겔화 장치
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제 1항에 있어서,상기 가스 유출관은 상기 외장 하우징에 서로 180도 이격되어 구비되는 것을 특징으로 하는 반응액 출입가능형 겔화 장치
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9
제 1항에 있어서,상기 가스 유입관은 제 1가스 저장 탱크에 서로 180도 이격되어 구비되는 것을 특징으로 하는 반응액 출입가능형 겔화 장치
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제 1항에 있어서,상기 가스는 암모니아로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반응액 출입가능형 겔화 장치
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제 1항에 있어서,상기 반응액은 암모니아수로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반응액 출입가능형 겔화 장치
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진동 노즐부에 구비된 노즐을 통해 구형 액적을 형성하는 구형 액적 형성단계;서브 겔화 컬럼 내부로 가스를 공급하여 낙하하는 상기 구형 액적의 표면을 경화시키는 액적 표면 경화단계;상기 서브 겔화 컬럼을 커버하는 메인 겔화 컬럼 내부로 반응액을 유입시키는 반응액 유입단계;상기 메인 겔화 컬럼으로부터 서브 겔화 컬럼 내부로 이동된 반응액을 상기 구형 액적과 반응시켜 겔 입자를 형성하는 겔 입자 형성단계;상기 서브 겔화 컬럼 내부를 폐쇄하여 상기 겔 입자를 서브 겔화 컬럼 내에 저장하는 겔 입자 저장단계;상기 서브 겔화 컬럼 내부를 개방하여 상기 겔 입자를 상기 메인 겔화 컬럼으로 배출시키는 겔 입자량 조절단계;상기 서브 겔화 컬럼 외부로 배출된 상기 겔 입자를 상기 메인 겔화 컬럼 내부에 적층하는 겔 입자 적층단계; 및상기 메인 겔화 컬럼 외부로 상기 겔 입자를 배출하는 겔 입자 유출단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 겔 입자 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 구형 액적 형성단계는,상기 진동 노즐부의 노즐에 공급액을 양방향으로 유입시키는 공급액 유입공정;상기 노즐에 진동을 가해 상기 공급액으로부터 액적을 형성하는 드로핑(dropping)공정; 및상기 액적이 공기층을 통과하며 구형의 액적을 형성하는 구형 형성공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 겔 입자 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 액적 표면 경화단계는,상기 서브 겔화 컬럼의 제 1가스 저장 탱크 내부로 외부의 가스를 양방향으로 유입시켜 가스를 1차적으로 저장하는 제 1가스 저장 공정;상기 제 1가스 저장 탱크 내부의 제 2가스 저장 탱크로 상기 가스를 유입시켜 가스를 2차적으로 저장하는 제 2가스 저장 공정; 및상기 제 2가스 저장 탱크 내부의 가스 공급 조절부로 상기 가스를 균일하게 공급시켜 상기 구형 액적의 표면을 경화시키는 액적 경화공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 겔 입자 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 반응액 유입단계는,상기 메인 겔화 컬럼 외부로 배출되는 반응액을 순환시켜 상기 메인 겔화 컬럼 내부로 재유입시키거나,반응액 공급부에서 공급되는 반응액을 상기 메인 겔화 컬럼 내부로 유입시키는 것을 특징으로 하는 겔 입자 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 구형 액적과 반응하고 남은 가스를 상기 서브 겔화 컬럼 외부로 양방향으로 배출시키는 가스 배출단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 겔 입자 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 메인 겔화 컬럼 내부의 반응액을 외부로 배출시키는 반응액 배출단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 겔 입자 제조방법
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