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페이스트를 고온 소성시켜 금속 산화물층을 형성하고, 상기 형성된 금속 산화물층에 염료를 흡착시켜 형성된 염료 흡착 금속 산화물층과, 상기 염료 흡착 금속 산화물층에 접촉 형성된 제 1 투명 전도성막과, 상기 제 1 투명 전도성막에 접촉 형성된 투명 플라스틱층을 포함하는 산화물 반도체 전극과,전도성 플라스틱 기판 또는 금속 기판으로 형성되는 제 2 투명 전도성막과, 상기 제 2 투명 전도성막에 코팅되는 백금층을 포함하여 상기 산화물 반도체 전극과 대향되게 형성되는 대향 전극과,상기 산화물 반도체 전극 및 대향 전극 사이의 공간에 충진되는 산화/환원 전해질을 포함하는 염료 감응 태양 전지
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제 1 항에 있어서,상기 대향 전극과 상기 산화물 반도체 전극은 격벽을 통해 서로 대향되게 부착되는 염료 감응 태양 전지
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제 2 항에 있어서,상기 페이스트는, 테르피네올(terpineol)인염료 감응 태양 전지
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제 3 항에 있어서,상기 금속 산화물층은, 상기 페이스트를 고온 소성시킨 TiO2 층인염료 감응 태양 전지
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제 3 항에 있어서,상기 금속 산화물층은, TiO2 층 및 상기 페이스트를 도포한 후, 각각 별도로 고온 소성시키거나 혹은 동시에 고온 소성시켜 다층 구조로 형성되는염료 감응 태양 전지
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제 2 항에 있어서,상기 제 1 투명 전도성막은, ITO, FTO, ZnO, 도핑되지 않은 SnO2, Al이 도핑된 ZnO 중 어느 하나를 이용하여 형성되는염료 감응 태양 전지
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 투명 전도성막은, 스퍼터링, 일렉트로우리스(electroless) 증착, 진공 증착, CVD, 졸젤법에 따른 나노 파우더 사용, 페이스트 후 열처리 중 어느 하나의 방식을 이용하여 형성되는염료 감응 태양 전지
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제 2 항에 있어서,상기 투명 플라스틱층은, PET, PMMA, PEN, PANI, PC, PDMS, 전도성 고분자, 나노 튜브 네트워크, 금속 나노와이어 메쉬 중 어느 하나를 이용하여 형성되는염료 감응 태양 전지
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9
제 8 항에 있어서,상기 투명 플라스틱층은, 해당 고분자를 액체 상태로 가열한 후 부어 경화시키는 방식, 해당 고분자를 액체 상태로 가열한 후 경화제를 첨가하여 경화시키는 방식, 열경화성 고분자의 경우 액체 상태로 가열한 후 부어 열처리하는 방식 중 어느 하나를 이용하여 형성되는염료 감응 태양 전지
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기판 상에 페이스트를 도포한 후 고온 소성시켜 금속 산화물층을 형성하는 단계와,상기 형성된 금속 산화물층의 상부에 제 1 투명 전도성막을 형성하는 단계와,상기 형성된 제 1 투명 전도성막의 상부에 투명 플라스틱층을 형성하는 단계와,상기 기판, 금속 산화물층, 제 1 투명 전도성막 및 투명 플라스틱층이 형성된 결과물에서 상기 기판을 제거하는 단계와,상기 금속 산화물층에 염료를 흡착시켜 염료 흡착 금속 산화물층을 형성하여 산화물 반도체 전극을 형성하는 단계와,상기 형성된 산화물 반도체 전극에 대향되게 제2 투명 전도성막과 백금층으로 구성되는 대향 전극을 부착하는 단계와,상기 산화물 반도체 전극 및 대향 전극의 사이 공간에 산화/환원 전해질을 충진하는 단계를 포함하는염료 감응 태양 전지의 제조 방법
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제 11항에 있어서,상기 기판은, 유리 기판, NaCl, KBr, Nabr, NaF, NaOH, KOH 중 어느 하나의 염료 기판, 석회석, 대리석, 천연 암석 중 어느 하나의 암석 기판, 금속 기판, 실리콘 웨이퍼 중 어느 하나를 이용하여 형성되는염료 감응 태양 전지의 제조 방법
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제 11 항에 있어서,상기 페이스트는, 테르피네올(terpineol)인염료 감응 태양 전지의 제조 방법
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제 11 항에 있어서,상기 금속 산화물층은, 상기 페이스트를 고온 소성시킨 TiO2 층인염료 감응 태양 전지의 제조 방법
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제 11 항에 있어서,상기 금속 산화물층은, TiO2 층 및 상기 페이스트를 도포한 후, 각각 별도로 고온 소성시키거나 혹은 동시에 고온 소성시켜 다층 구조로 형성되는염료 감응 태양 전지의 제조 방법
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제 11 항에 있어서,상기 제 1 투명 전도성막은, ITO, FTO, ZnO, 도핑되지 않은 SnO2, Al이 도핑된 ZnO 중 어느 하나를 이용하여 형성되는염료 감응 태양 전지의 제조 방법
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제 16 항에 있어서,상기 제 1 투명 전도성막은, 스퍼터링, 일렉트로우리스(electroless) 증착, 진공 증착, CVD, 졸젤법에 따른 나노 파우더 사용, 페이스트 후 열처리 중 어느 하나의 방식을 이용하여 형성되는염료 감응 태양 전지의 제조 방법
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제 11 항에 있어서,상기 투명 플라스틱층은, PET, PMMA, PEN, PANI, PC, PDMS, 전도성 고분자, 나노 튜브 네트워크, 금속 나노와이어 메쉬 중 어느 하나를 이용하여 형성되는염료 감응 태양 전지의 제조 방법
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제 18 항에 있어서,상기 투명 플라스틱층은, 해당 고분자를 액체 상태로 가열한 후 부어 경화시키는 방식, 해당 고분자를 액체 상태로 가열한 후 경화제를 첨가하여 경화시키는 방식, 열경화성 고분자의 경우 액체 상태로 가열한 후 부어 열처리하는 방식 중 어느 하나를 이용하여 형성되는염료 감응 태양 전지의 제조 방법
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제 11 항에 있어서,상기 제 2 투명 전도성막은, 상기 산화물 반도체 전극에 대응하여 전도성 플라스틱 기판 또는 금속 기판으로 형성되는염료 감응 태양 전지의 제조 방법
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