| 1 |
1
프로세스 챔버,상기 프로세스 챔버의 내부에 제공되며 타깃이 고정되는 스테이지,상기 챔버의 내부에 진공을 형성시키는 진공 펌프,이종의 증착용 분말이 각각 수용되는 에어로졸 챔버들,상기 에어로졸 챔버들에 각각 제공되며 상기 에어로졸 챔버들에 수용된 에어로졸을 배출시키는 배출관로들,상기 복수의 배출관로들에 설치되어 에어로졸 배출량을 조절하는 복수의 배출량 컨트롤 밸브,상기 배출관로들에 연결되어 상기 프로세스 챔버로 에어로졸을 공급하는 공급관로,상기 챔버의 내부에 설치되며 상기 공급관로에 연결되어 에어로졸을 상기 타깃에 분사하는 분사노즐,상기 공급관로에 제공되며 상기 프로세스 챔버에 에어로졸을 공급하거나 차단하는 차단 밸브, 그리고상기 에어로졸 챔버들에 각각 캐리어 가스 공급관로로 연결되며 캐리어 가스가 수용된 캐리어 가스 챔버를 포함하며,상기 스테이지를 구동하는 구동원, 상기 진공펌프, 상기 배출량 컨트롤 밸브, 그리고 상기 차단밸브는 컨트롤러에 전기적으로 연결되어 상기 컨트롤러에 의해 제어되는 에어로졸을 이용한 분말 증착장치
|
| 2 |
2
청구항 1에 있어서,상기 스테이지는구동원에 의해 3축으로 이동되는 3축 이동 스테이지로 이루어지며, 상기 타깃을 고정하는 고정수단이 제공되는 에어로졸을 이용한 분말 증착장치
|
| 3 |
3
청구항 1에 있어서,상기 스테이지 또는 상기 프로세스 챔버에는구동원에 의해 구동되며 상기 분사노즐에서 분사되는 에어로졸이 상기 타깃에 전달되거나 차단할 수 있는 셔터가 제공되는 에어로졸을 이용한 분말 증착장치
|
| 4 |
4
청구항 1에 있어서,상기 배출관로들에는상기 프로세스 챔버로 공급되는 에어로졸을 필터링하는 필터들이 제공되는 에어로졸을 이용한 분말 증착장치
|
| 5 |
5
청구항 1에 있어서,상기 배출량 컨트롤 밸브 또는 상기 차단 밸브는에어로졸의 유량을 조절할 수 있는 유량조절밸브로 이루어지는 에어로졸을 이용한 분말 증착장치
|
| 6 |
6
삭제
|
| 7 |
7
청구항 3에 있어서,상기 셔터는 상기 셔터를 구동하는 구동원을 포함하고, 상기 구동원은 컨트롤러에 의해 제어되어 상기 셔터의 개폐가 이루어지는 에어로졸을 이용한 분말 증착장치
|
