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플라즈마 발생 장치를 이용하여 키토산을 도포하고자 하는 매체에 표면을 처리하고 처리된 매체를 한 개 이상의 키토산이 녹아있는 담지부에 담지하여 키토산을 코팅하여 한 개 이상의 건조 장치를 통하여 키토산을 도포 및 배출하는 키토산 도포 장치 및 도포된 매체
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마 발생 장치는 대기압 상태에서 플라즈마가 발생하는 플라즈마 발생 장치인 것인 키토산 도포 장치 및 도포된 매체
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 발생 장치에서 발생 전원은 AC, DC, 사인파(Sine wave), 구형파(Square wave), 펄스파(Pulse wave)로 이루어진 플라즈마 발생 전원인 것인 키토산 도포 장치 및 도포된 매체
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 발생 장치에서 플라즈마 발생을 위한 가스는 헬륨, 아르곤, 네온, 질소, 산소, 수소, 암모니아 및 이들 가스의 조합으로 이루어진 플라즈마 발생 가스에 의해서 발생되는 것인 키토산 도포 장치 및 도포된 매체
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제1항에 있어서,상기 키토산은 그 분자량이 적게는 100kDa 이하 크게는 500kDa 인 키토산
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제1항에 있어서,상기 키토산은 약산에 녹아있는 상태에서 담지 용기에 담겨진 키토산인 것인 키토산 도포 장치 및 도포된 매체
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제1항에 있어서,상기 키토산 도포 방법은 담지를 통한 담지를 포함한 스프레이 또는 에어로졸 형태로 분사가 가능한 키토산 도포 방법인 것인 키토산 도포 장치 및 도포된 매체
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제1항에 있어서,상기 키토산으로 도포된 매체는 인공 섬유 및 천연 섬유인 것인 키토산 도포 장치 및 도포된 매체
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제1항에 있어서, 상기 키토산으로 도포되어 활용되는 매체는 기저귀, 속옷, 외투, 의료용 거즈 및 밴드, 생리대를 포함한 착용 및 부착 가능한 섬유로 이루어진 키토산이 도포된 매체인 것인 키토산 도포 장치 및 도포된 매체
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