요약 | 본 발명은 반도체 발광 소자를 위한 반도체 기판의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 반도체 기판 제조방법은, i) 실리콘 기판 위에 산화물층을 형성하는 단계; ii) 상기 산화물층 위에 나노 패턴을 가지는 금속 나노 입자층을 형성하는 단계; iii) 상기 금속 나노 입자층을 마스크로 이용하여 상기 산화물층을 나노 패턴으로 식각하는 단계; 및 iv) 나노 패턴으로 식각된 상기 산화물층 위에 버퍼층을 형성하는 단계를 포함한다. |
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Int. CL | H01L 33/20 (2014.01) H01L 33/22 (2014.01) H01L 33/12 (2014.01) |
CPC | H01L 33/0079(2013.01) H01L 33/0079(2013.01) H01L 33/0079(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020100130538 (2010.12.20) |
출원인 | 한국전자통신연구원 |
등록번호/일자 | |
공개번호/일자 | 10-2012-0069128 (2012.06.28) 문서열기 |
공고번호/일자 | |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 취하 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | N |
심사청구항수 | 1 |