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베타소스로부터 전류를 생성하는 적층형 베타전지 및 그 제작방법

  • 기술번호 : KST2014045126
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 베타소스로부터 전류를 생성하는 적층형 베타전지 및 그 제작방법이 개시된다. 기판의 일면에 소정의 패턴이 형성된 산화막 마스크를 형성하는 단계; 상기 산화막 마스크가 도포되지 않은 상기 기판을 식각하여 복수의 홈을 형성하는 단계; 상기 산화막 마스크를 제거하고, 상기 기판상에 PN 접합층을 형성하는 단계; 상기 PN 접합층 상에 제1 전극을 형성하고, 상기 기판의 타면에 제2 전극을 형성하는 단계; 및 상기 PN 접합층 상에 베타선을 방출하는 방사성 동위 원소층을 적층하여 단위 모듈을 생성하는 단계를 포함하는 베타전지 제작 방법은 단층의 베타전지 구조에 비해 단위면적당 효율을 적층한 PN-접합의 수만큼 향상시킬 수 있으며, DRIE 를 이용한 기공형성 공정에 비해 공정이 단순하고 제작비용과 시간을 줄일 수 있는 효과가 있다.
Int. CL H01M 14/00 (2006.01)
CPC G21H 1/06(2013.01) G21H 1/06(2013.01)
출원번호/일자 1020100132907 (2010.12.22)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0071241 (2012.07.02) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.05.22)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최병건 대한민국 대구광역시 수성구
2 김정범 대한민국 대전광역시 유성구
3 임인기 대한민국 대전광역시 유성구
4 형창희 대한민국 대전광역시 유성구
5 박형일 대한민국 대전광역시 유성구
6 박경환 대한민국 대전광역시 유성구
7 강태영 대한민국 서울특별시 용산구
8 김성은 대한민국 서울특별시 송파구
9 황정환 대한민국 대전광역시 유성구
10 강태욱 대한민국 대전광역시 유성구
11 김경수 대한민국 대전광역시 서구
12 강성원 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2010-0850086-02
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2015.05.22 수리 (Accepted) 1-1-2015-0494062-38
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.06.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0416611-79
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.07.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0740286-42
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.07.29 수리 (Accepted) 1-1-2016-0740287-98
7 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2016.11.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-1128520-77
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.11.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0851749-07
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번호 청구항
1 1
기판의 일면에 소정의 패턴이 형성된 산화막 마스크를 형성하는 단계;상기 산화막 마스크가 도포되지 않은 상기 기판의 영역을 식각하여 복수의 홈을 형성하는 단계;상기 산화막 마스크를 제거하고, 상기 기판상에 PN 접합층을 형성하는 단계;상기 PN 접합층 상에 제1 전극을 형성하고, 상기 기판의 타면에 제2 전극을 형성하는 단계; 및상기 PN 접합층 상에 베타선을 방출하는 방사성 동위 원소층을 적층하여 단위 모듈을 생성하는 단계를 포함하는 베타전지 제작 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 PN 접합층 형성 단계는,p-타입의 상기 기판에 n-타입 불순물 이온을 주입하여 상기 PN 접합층을 형성하는 것을 특징으로 하는 베타전지 제작 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 생성된 복수의 단위 모듈을 상기 홈이 대향되도록 적층하는 단계를 더 포함하는 베타전지 제작 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 기판에 형성된 홈의 단면은 삼각형인 것을 특징으로 하는 베타전지 제작 방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 기판에 형성된 홈은 역피라미드 형태인 것을 특징으로 하는 베타전지 제작 방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 단위 모듈 생성 단계에서,상기 방사성 동위 원소층은 평면 형태로 상기 PN 접합층 상에 적층되는 것을 특징으로 하는 베타전지 제작 방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 단위 모듈 생성 단계에서,상기 방사성 동위 원소층은 상기 기판에 형성된 홈의 표면에 적층되는 것을 특징으로 하는 베타전지 제작 방법
8 8
산화막 마스크를 이용하여 식각된 복수의 홈이 일면에 형성된 기판;상기 홈이 형성된 기판의 일면에 형성된 PN 접합층;상기 PN 접합층 상에 형성된 제1 전극;상기 기판의 타면에 형성된 제2 전극; 및상기 PN 접합층 상에 적층되어 베타선을 방출하는 방사성 동위 원소층을 포함하는 단위 모듈을 포함하되,상기 복수의 단위 모듈은 상기 홈이 대향되도록 적층되는 것을 특징으로 하는 베타전지
9 9
제8항에 있어서, 상기 기판에 형성된 홈은 역피라미드 형태인 것을 특징으로 하는 베타전지
10 10
제8항에 있어서, 상기 방사성 동위 원소층은 상기 기판에 형성된 홈의 표면에 적층되는 것을 특징으로 하는 베타전지
지정국 정보가 없습니다
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1 US20120161575 US 미국 FAMILY

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1 US2012161575 US 미국 DOCDBFAMILY
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