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하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 폴리(바이페닐렌 옥사이드)
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제 1항의 폴리(바이페닐렌 옥사이드)를 제조하기 위한, 하기 화학식 8로 표시되는 단량체
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다음의 단계를 포함하는 제1항의 화학식 1의 폴리(바이페닐렌 옥사이드)를 제조하는 방법:(a) 제2항의 화학식 8의 단량체를 극성 비양성자성 용매에 용해시킨 후, 상기 용액에 탄산칼륨을 첨가하고, 80~150℃에서 교반하여 페녹사이드 염을 생성시키는 단계; 및 (b) 상기 염이 생성된 용액의 온도를 80~190℃로 승온시켜 교반하는 단계
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제3항에 있어서, 상기 극성 비양성자성 용매는 N-메틸피롤리돈, 다이메틸 술폭사이드, N,N-다이메틸아세트아마이드, N,N-다이메틸포름아마이드, 다이페닐술폰, 술폴레인, 1,3-다이메틸테트라히드로피리미딘-2(1H)-온 및 헥사메틸포스포라마이드로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 폴리(바이페닐렌 옥사이드)를 제조하는 방법
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하기 화학식 11로 표시되는 반복단위를 포함하는 폴리(바이페닐렌 옥사이드) 공중합체
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다음의 단계를 포함하는 제5항의 화학식 11의 폴리(바이페닐렌 옥사이드) 공중합체를 제조하는 방법:(a) 하기 화학식 9의 단량체 및 하기 화학식 10의 단량체를 100:1 내지 1:100의 비율로 극성 비양성자성 용매에 용해시킨 후, 상기 용액에 탄산칼륨을 첨가하고, 80~150℃ 에서 교반하여 페녹사이드 염을 생성시키는 단계; 및 (b) 상기 염이 생성된 용액의 온도를 80~190℃로 승온시켜 교반하는 단계
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제6항에 있어서, 상기 극성 비양성자성 용매는 N-메틸피롤리돈, 다이메틸 술폭사이드, N,N-다이메틸아세트아마이드, N,N-다이메틸포름아마이드, 다이페닐술폰, 술폴레인, 1,3-다이메틸테트라히드로피리미딘-2(1H)-온 및 헥사메틸포스포라마이드로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 폴리(바이페닐렌 옥사이드) 공중합체를 제조하는 방법
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