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다음 단계를 포함하는 항생물부착성 SSQ/PEG 네트워크의 제조방법:(a) 폴리에틸렌글리콜(PEG)과 광경화성 실세스퀴옥산(SSQ)을 혼합하는 단계; 및(b) 상기 (a) 혼합물을 UV 개시제의 존재하에 UV를 조사하여 경화시켜 SSQ/PEG 네트워크를 수득하는 단계
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제1항에 있어서, 상기 폴리에틸렌글리콜(PEG)은 폴리에틸렌글리콜 디메타크릴게이트(PEGDMA) 및 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트(PEGDA)로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 항생물부착성 SSQ/PEG 네트워크의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 광경화성 실세스퀴옥산(SSQ)은 메타크릴레이트 또는 아크릴레이트로 기능화된 것을 특징으로 하는 항생물부착성 SSQ/PEG 네트워크의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 UV 개시제는 2,2''-디메톡시-2-페닐아세토페논(DMPA, 2,2''-dimethoxy-2-phenylacetophenone), 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온(HMPP, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1-one), 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥사이드(2,4,6-Trimethylbenzoyl-diphenylphosphine Oxide) 및 디페닐 2,4,6-트리메틸벤조일 포스핀 옥사이드(Diphenyl 2,4,6 - trimethylbenzoyl phosphine oxide)로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 항생물부착성 SSQ/PEG 네트워크의 제조방법
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제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 SSQ/PEG 네트워크
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제5항에 있어서, 상기 SSQ/PEG 네트워크는 직접적인 나노패터닝이 가능한 것을 특징으로 하는 SSQ/PEG 네트워크
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제6항에 있어서, 직접적인 나노패터닝은 UV 나노임프린트(UV nanoimprint), UV 엠보싱(UV embossing) 및 UV 레플리카 몰딩(UV replica molding)으로 구성된 군에서 선택되는 어느 하나의 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 SSQ/PEG 네트워크
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제5항에 있어서, 상기 SSQ/PEG 네트워크는 다음과 같은 물성을 가지는 것을 특징으로 하는 SSQ/PEG 네트워크:(a) 365nm 이상의 파장에서 90% 이상의 UV 투과성;(b) 42
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제5항의 SSQ/PEG 네트워크를 이용하는 것을 특징으로 하는 나노패턴의 제작방법
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제9항에 있어서, 상기 나노패턴의 크기는 25nm 이하인 것을 특징으로 하는 나노패턴의 제작방법
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제9항의 방법에 의해 제작된 나노패턴을 포함하는 비특이적 흡착에 대해 높은 저항성을 가지는 나노디바이스
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제11항에 있어서, 상기 나노디바이스는 바이오메디컬 디바이스, 바이오센서, 진단배열, 이식 및 전달 시스템 및 랩온어칩으로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 나노디바이스
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