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내부가 진공상태로 된 공정 챔버(10) 내부에서 발생된 입자 및 부산물을 배기하는 배기관(20)에 설치되며 상기 배기관(20)으로 배기되는 입자 및 부산물을 통한 공정진단이 가능하도록 상기 배기관(20) 내부로 빔이 입사되도록 하는 입사창(30)과, 상기 배기관(20)에 설치되며 상기 입사창(30)으로 입사된 빔이 입자 및 부산물에 의해 굴절 및 산란되어 굴절 및 산란된 빔이 출사되도록 하는 출사창(40)과, 상기 입사창(30)에 빔을 입사되도록 하는 광학센서(50)와 상기 출사창(40)으로 출사되는 빔을 검출하는 검출기(60)로 이루어져 진공공정에서 발생하는 입자 및 부산물을 분석하는 분석장치에서,
상기 입사창(30) 및 상기 출사창(40)의 내부 또는 외부에 각각 설치되되 상기 입사창(30)의 빔이 입사되는 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 빔이 출사되는 출사영역(41) 외곽에 설치되는 음파 발생기(70);
하면이 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽과 각각 접하며, 상면에 상기 음파 발생기(70)를 경사지게 지지하는 경사면(81)이 구비되어 발생된 음파를 상기 입사창(30) 및 출사창(40)과 각각 일정각도를 이루어 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 및 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽 내부로 전달되도록 하여 전달된 음파로 인해 상기 입사창(30) 및 출사창(40)을 진동시켜 상기 입사창(30) 및 출사창(40) 내측에 입자 및 부산물이 흡착되는 것을 방지하도록 하는 웨지부(80);
를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치
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제 1 항에 있어서,
상기 음파 발생기(70) 및 웨지부(80)는 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽 일측에 구비되거나, 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽에 환형으로 구비되는 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치
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제 1 항에 있어서,
상기 음파 발생기(70)를 상기 입사창(30)의 빔이 입사되는 입사영역(31) 및 상기 출사창(40)의 빔이 출사되는 출사영역(41) 외곽 주위로 회전시키는 회전수단이 더 구비된 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치
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제 1 항에 있어서,
상기 음파 발생기(70)는 가진기, 압전 초음파 소자, 자기 변형 트랜스듀서, 음성 코일 구동기(voice cole actuator)로부터 선택되는 어느 하나로 된 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치
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제 1 항에 있어서,
상기 음파 발생기(70) 및 웨지부(80)는 다수개로 되어 상기 입사창(30)의 입사영역(31) 외곽 및 상기 출사창(40)의 출사영역(41) 외곽 일측에 일렬 또는 방사형으로 설치되는 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치
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6
제 1 항에 있어서,
상기 음파 발생기(70)로부터 발생된 음파가 상기 입사창(30) 및 출사창(40) 내부 전체 또는 내부 표면 부위로 전달되는 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치
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삭제
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제 1 항에 있어서,
상기 음파 발생기(70)로부터 발생되는 음파의 주파수는 10kHz ~ 1 MHz 인 것을 특징으로 하는 진공 공정에서 발생하는 입자 및 부산물로부터의 표면오염방지장치
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