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비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터

  • 기술번호 : KST2014046453
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 터널링 전계효과 트랜지스터에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 소스에서 드레인으로 가며 활성영역의 폭이 점차 증가하도록 비대칭적으로 형성함으로써, 소스와 채널 사이에는 전계가 집중되어 터널링 전류를 증가시키고, 반대로 드레인과 채널 사이에는 전계가 완화되어 ambipolar 특성을 억제할 수 있는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터에 관한 것이다.
Int. CL H01L 29/78 (2006.01) H01L 21/336 (2006.01)
CPC H01L 29/0895(2013.01) H01L 29/0895(2013.01) H01L 29/0895(2013.01)
출원번호/일자 1020100127357 (2010.12.14)
출원인 서강대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1169464-0000 (2012.07.23)
공개번호/일자 10-2012-0066150 (2012.06.22) 문서열기
공고번호/일자 (20120730) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.12.14)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서강대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 마포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최우영 대한민국 서울특별시 동작구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 권오준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠*차 ****호 (역삼동)(소중한특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서강대학교산학협력단 서울특별시 마포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.12.14 수리 (Accepted) 1-1-2010-0821670-87
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.08.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.09.20 수리 (Accepted) 9-1-2011-0077820-20
4 등록결정서
Decision to grant
2012.05.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0276185-20
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.11 수리 (Accepted) 4-1-2017-5005781-67
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5014626-89
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번호 청구항
1 1
반도체 기판과, 상기 반도체 기판 상에 게이트 절연막을 사이에 두고 형성된 게이트와, 상기 게이트 밑에 위치한 상기 반도체 기판을 채널영역으로 하고, 상기 채널영역을 사이에 두고 상기 반도체 기판 양측에 형성된 P+ 영역과 N+ 영역을 포함하여 구성된 터널링 전계효과 트랜지스터에 있어서,상기 P+ 영역, 상기 채널영역 및 상기 N+ 영역으로 이루어진 활성영역은 상기 P+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 일단에서 상기 N+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 타단으로 가며 상기 활성영역의 폭이 점차 증가하는 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터
2 2
제 1 항에 있어서,상기 채널영역은 진성영역(intrinsic region) 또는 P형 불순물이 상기 P+ 영역보다 약하게 도핑된 영역인 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터
3 3
반도체 기판과, 상기 반도체 기판 상에 게이트 절연막을 사이에 두고 형성된 게이트와, 상기 게이트 밑에 위치한 상기 반도체 기판을 채널영역으로 하고, 상기 채널영역을 사이에 두고 상기 반도체 기판 양측에 형성된 N+ 영역과 P+ 영역을 포함하여 구성된 터널링 전계효과 트랜지스터에 있어서,상기 N+ 영역, 상기 채널영역 및 상기 P+ 영역으로 이루어진 활성영역은 상기 N+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 일단에서 상기 P+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 타단으로 가며 상기 활성영역의 폭이 점차 증가하고,상기 채널영역은 N형 불순물이 상기 N+ 영역보다 약하게 도핑된 영역인 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터
4 4
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 반도체 기판은 SOI(Silicon-On-Insulator) 기판인 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터
5 5
반도체 기판에 형성된 N+ 영역과, 상기 N+ 영역 상부에 형성된 적층된 채널영역과, 상기 채널영역 상부에 형성된 P+ 영역으로 수직 적층된 활성영역과;상기 채널영역 상에 게이트 절연막을 사이에 두고 형성된 게이트를 포함하여 구성되되,상기 활성영역의 수직단면은 상기 P+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 상부에서 상기 N+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 하부로 가며 수직단면의 폭이 점차 증가하는 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터
6 6
제 5 항에 있어서,상기 채널영역은 진성영역(intrinsic region) 또는 P형 불순물이 상기 P+ 영역보다 약하게 도핑된 영역인 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터
7 7
반도체 기판에 형성된 P+ 영역과, 상기 P+ 영역 상부에 형성된 적층된 채널영역과, 상기 채널영역 상부에 형성된 N+ 영역으로 수직 적층된 활성영역과;상기 채널영역 상에 게이트 절연막을 사이에 두고 형성된 게이트를 포함하여 구성되되,상기 활성영역의 수직단면은 상기 N+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 상부에서 상기 P+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 하부로 가며 수직단면의 폭이 점차 증가하고,상기 채널영역은 N형 불순물이 상기 N+ 영역보다 약하게 도핑된 영역인 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터
8 8
제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 게이트는 상기 채널영역의 적어도 일면 상에 형성되거나 전면을 감싸며 형성된 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 서강대학교산학협력단 나노원천기술개발사업 고에너지 효율의 IC 구현을 위한 차세대 녹색 터널링 트랜지스터 개발
2 지식경제부 서강대학교산학협력단 대학 IT연구센터 육성지원사업 (ITRC) 차세대 융복합 시스템용 아날로그 IP 핵심설계기술 개발