요약 | 본 발명은 터널링 전계효과 트랜지스터에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 소스에서 드레인으로 가며 활성영역의 폭이 점차 증가하도록 비대칭적으로 형성함으로써, 소스와 채널 사이에는 전계가 집중되어 터널링 전류를 증가시키고, 반대로 드레인과 채널 사이에는 전계가 완화되어 ambipolar 특성을 억제할 수 있는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터에 관한 것이다. |
---|---|
Int. CL | H01L 29/78 (2006.01) H01L 21/336 (2006.01) |
CPC | H01L 29/0895(2013.01) H01L 29/0895(2013.01) H01L 29/0895(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020100127357 (2010.12.14) |
출원인 | 서강대학교산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-1169464-0000 (2012.07.23) |
공개번호/일자 | 10-2012-0066150 (2012.06.22) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20120730) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2010.12.14) |
심사청구항수 | 8 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 서강대학교산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 마포구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
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1 | 최우영 | 대한민국 | 서울특별시 동작구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 권오준 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠*차 ****호 (역삼동)(소중한특허법률사무소) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 서강대학교산학협력단 | 서울특별시 마포구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2010.12.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0821670-87 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2011.08.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2011.09.20 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0077820-20 |
4 | 등록결정서 Decision to grant |
2012.05.11 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0276185-20 |
5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.01.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5005781-67 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.01.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5014626-89 |
번호 | 청구항 |
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1 |
1 반도체 기판과, 상기 반도체 기판 상에 게이트 절연막을 사이에 두고 형성된 게이트와, 상기 게이트 밑에 위치한 상기 반도체 기판을 채널영역으로 하고, 상기 채널영역을 사이에 두고 상기 반도체 기판 양측에 형성된 P+ 영역과 N+ 영역을 포함하여 구성된 터널링 전계효과 트랜지스터에 있어서,상기 P+ 영역, 상기 채널영역 및 상기 N+ 영역으로 이루어진 활성영역은 상기 P+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 일단에서 상기 N+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 타단으로 가며 상기 활성영역의 폭이 점차 증가하는 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터 |
2 |
2 제 1 항에 있어서,상기 채널영역은 진성영역(intrinsic region) 또는 P형 불순물이 상기 P+ 영역보다 약하게 도핑된 영역인 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터 |
3 |
3 반도체 기판과, 상기 반도체 기판 상에 게이트 절연막을 사이에 두고 형성된 게이트와, 상기 게이트 밑에 위치한 상기 반도체 기판을 채널영역으로 하고, 상기 채널영역을 사이에 두고 상기 반도체 기판 양측에 형성된 N+ 영역과 P+ 영역을 포함하여 구성된 터널링 전계효과 트랜지스터에 있어서,상기 N+ 영역, 상기 채널영역 및 상기 P+ 영역으로 이루어진 활성영역은 상기 N+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 일단에서 상기 P+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 타단으로 가며 상기 활성영역의 폭이 점차 증가하고,상기 채널영역은 N형 불순물이 상기 N+ 영역보다 약하게 도핑된 영역인 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터 |
4 |
4 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 반도체 기판은 SOI(Silicon-On-Insulator) 기판인 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터 |
5 |
5 반도체 기판에 형성된 N+ 영역과, 상기 N+ 영역 상부에 형성된 적층된 채널영역과, 상기 채널영역 상부에 형성된 P+ 영역으로 수직 적층된 활성영역과;상기 채널영역 상에 게이트 절연막을 사이에 두고 형성된 게이트를 포함하여 구성되되,상기 활성영역의 수직단면은 상기 P+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 상부에서 상기 N+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 하부로 가며 수직단면의 폭이 점차 증가하는 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터 |
6 |
6 제 5 항에 있어서,상기 채널영역은 진성영역(intrinsic region) 또는 P형 불순물이 상기 P+ 영역보다 약하게 도핑된 영역인 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터 |
7 |
7 반도체 기판에 형성된 P+ 영역과, 상기 P+ 영역 상부에 형성된 적층된 채널영역과, 상기 채널영역 상부에 형성된 N+ 영역으로 수직 적층된 활성영역과;상기 채널영역 상에 게이트 절연막을 사이에 두고 형성된 게이트를 포함하여 구성되되,상기 활성영역의 수직단면은 상기 N+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 상부에서 상기 P+ 영역을 이루는 상기 활성영역의 하부로 가며 수직단면의 폭이 점차 증가하고,상기 채널영역은 N형 불순물이 상기 N+ 영역보다 약하게 도핑된 영역인 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터 |
8 |
8 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 게이트는 상기 채널영역의 적어도 일면 상에 형성되거나 전면을 감싸며 형성된 것을 특징으로 하는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
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순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 교육과학기술부 | 서강대학교산학협력단 | 나노원천기술개발사업 | 고에너지 효율의 IC 구현을 위한 차세대 녹색 터널링 트랜지스터 개발 |
2 | 지식경제부 | 서강대학교산학협력단 | 대학 IT연구센터 육성지원사업 (ITRC) | 차세대 융복합 시스템용 아날로그 IP 핵심설계기술 개발 |
특허 등록번호 | 10-1169464-0000 |
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표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20101214 출원 번호 : 1020100127357 공고 연월일 : 20120730 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20120511 청구범위의 항수 : 8 유별 : H01L 29/78 발명의 명칭 : 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터 존속기간(예정)만료일 : 20180724 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 서강대학교산학협력단 서울특별시 마포구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 178,500 원 | 2012년 07월 24일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 151,200 원 | 2015년 07월 22일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 151,200 원 | 2016년 07월 21일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 151,200 원 | 2017년 07월 03일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2010.12.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0821670-87 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2011.08.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2011.09.20 | 수리 (Accepted) | 9-1-2011-0077820-20 |
4 | 등록결정서 | 2012.05.11 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0276185-20 |
5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.01.11 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5005781-67 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.01.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5014626-89 |
기술번호 | KST2014046453 |
---|---|
자료제공기관 | NTB |
기술공급기관 | 서강대학교 |
기술명 | 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터 |
기술개요 |
본 발명은 터널링 전계효과 트랜지스터에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 소스에서 드레인으로 가며 활성영역의 폭이 점차 증가하도록 비대칭적으로 형성함으로써, 소스와 채널 사이에는 전계가 집중되어 터널링 전류를 증가시키고, 반대로 드레인과 채널 사이에는 전계가 완화되어 ambipolar 특성을 억제할 수 있는 비대칭 활성영역을 갖는 터널링 전계효과 트랜지스터에 관한 것이다. |
개발상태 | 기술개발진행중 |
기술의 우수성 | |
응용분야 | 트랜지스터 |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | 라이센스 |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1345122542 |
---|---|
세부과제번호 | 2009-0082439 |
연구과제명 | 고에너지 효율의 IC 구현을 위한 차세대 녹색 터널링 트랜지스터 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 서강대학교 산학협력단 |
성과제출연도 | 2010 |
연구기간 | 200906~201205 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1415109684 |
---|---|
세부과제번호 | C1090-1001-0003 |
연구과제명 | 아날로그 IP 설계기술 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
연구주관기관명 | 서강대학교산학협력단 |
성과제출연도 | 2010 |
연구기간 | 201006~201312 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기타 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1415123314 |
---|---|
세부과제번호 | H0301-12-1007 |
연구과제명 | 차세대 융·복합 시스템용 아날로그IP 핵심설계기술개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 (NIPA) |
연구주관기관명 | 서강대학교산학협력단 |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 201006~201312 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기타 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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