맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

플라즈몬 공명을 이용한 레이저 가공장치 및 가공방법

  • 기술번호 : KST2014047039
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 전도체, 전도체에 레이저를 조사하여 상기 전도체로부터 전기장을 발생시키도록 되어 있는 레이저 발생부를 포함하는 레이저 가공장치가 공개된다. 상기 전도체 근처에 배치되는 가공물의 전자가 상기 전기장에 의해 추출된다.
Int. CL B23K 26/40 (2014.01) B23K 26/70 (2014.01)
CPC B23K 26/702(2013.01) B23K 26/702(2013.01) B23K 26/702(2013.01) B23K 26/702(2013.01) B23K 26/702(2013.01) B23K 26/702(2013.01)
출원번호/일자 1020100100802 (2010.10.15)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1210654-0000 (2012.12.04)
공개번호/일자 10-2012-0039220 (2012.04.25) 문서열기
공고번호/일자 (20121211) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.10.15)
심사청구항수 12

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김승우 대한민국 대전광역시 유성구
2 김영진 대한민국 경상남도 창원시 진해구
3 김윤석 대한민국 광주광역시 서구
4 김승만 대한민국 인천광역시 남동구
5 유준호 대한민국 대전광역시 유성구
6 한승회 대한민국 대전광역시 동구
7 박상욱 대한민국 경상남도 김해시

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 한윤호 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **(삼성동) 명지빌딩, *층(선정국제특허법률사무소)
3 양기혁 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **(삼성동) 명지빌딩, *층(선정국제특허법률사무소)
4 박기원 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)(리앤목특허법인)
5 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.10.15 수리 (Accepted) 1-1-2010-0666976-05
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2010.10.22 수리 (Accepted) 1-1-2010-0684145-03
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.04.25 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.06.01 수리 (Accepted) 9-1-2012-0043688-93
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.06.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0342404-17
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.08.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0648926-80
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.08.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-0648925-34
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2012.08.13 무효 (Invalidation) 1-1-2012-0648036-60
9 보정요구서
Request for Amendment		 2012.08.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0105742-33
10 무효처분통지서
Notice for Disposition of Invalidation		 2012.09.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0116746-73
11 등록결정서
Decision to grant		 2012.12.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0734723-16
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
금속패턴 구조(300)와 레이저를 통과시키는 재질로 구성되어 있으며 가공물의 표면에 평행으로 배치된 금속패턴 구조층(204); 및상기 금속패턴 구조(300)에 레이저를 조사하여 상기 금속패턴 구조(300)로부터 전기장을 발생시키도록 되어 있는 레이저 발생부를 포함하며,상기 금속패턴 구조(300)의 근처에 존재하는 상기 가공물의 전자가 상기 전기장에 의해 추출되도록 되어 있고,상기 레이저의 초점은 상기 가공물의 표면 또는 내부에 존재하며, 상기 레이저의 일부는 상기 레이저를 통과시키는 재질을 통과하여 상기 가공물을 직접 가공하도록 되어 있는,레이저 가공장치
2 2
제1항에 있어서,상기 전기장은 상기 레이저의 조사에 따른 플라즈몬 공명(plasmon resonance) 현상에 의해 발생되는, 레이저 가공장치
3 3
제1항에 있어서,상기 전자의 추출에 의해 형성된 상기 가공물의 양성자들은, 상기 양성자들 간의 척력에 의해 플라즈마 상태로 상기 가공물로부터 분리되는, 레이저 가공장치
4 4
제1항에 있어서,상기 금속패턴 구조(300)의 일 단부는 뾰족한 형상을 갖는, 레이저 가공장치
5 5
제1항에 있어서,상기 금속패턴 구조(300)는 탐침 형상을 가지며, 상기 탐침 형상의 단부가 상기 가공물에 인접하도록 되어 있는, 레이저 가공장치
6 6
삭제
7 7
제1항에 있어서,상기 레이저는 펄스 레이저인, 레이저 가공장치
8 8
제7항에 있어서,상기 펄스 레이저의 펄스 폭은 10 ps 이하인, 레이저 가공장치
9 9
삭제
10 10
가공물을 장착 가능한 가공 스테이지;금속패턴 구조(300)와 레이저를 통과시키는 재질로 구성되어 있으며 가공물의 표면에 평행으로 배치되어 있고, 상기 가공 스테이지에 인접하여 배치되도록 되어 있는 금속패턴 구조층(204); 및상기 금속패턴 구조(300)에 레이저를 조사하여 상기 금속패턴 구조(300)로부터 전기장을 발생시키도록 되어 있는 레이저 발생부를 포함하며,상기 금속패턴 구조(300)의 근처에 존재하는 상기 가공물의 전자가 상기 전기장에 의해 추출되도록 되어 있고,상기 레이저의 초점은 상기 가공물의 표면 또는 내부에 존재하며, 상기 레이저의 일부는 상기 레이저를 통과시키는 재질을 통과하여 상기 가공물을 직접 가공하도록 되어 있는,레이저 가공장치
11 11
금속패턴 구조(300)와 레이저를 통과시키는 재질로 구성되어 있는 금속패턴 구조층(204)을 가공물의 표면에 평행으로 배치하는 단계; 및상기 금속패턴 구조층(204)에 레이저를 조사하는 단계를 포함하고,상기 금속패턴 구조(300)에 조사된 상기 레이저에 의해 플라즈몬 공명이 유발됨으로써 상기 금속패턴 구조(300)로부터 전기장이 형성되며, 상기 전기장에 의해 상기 가공물로부터 전자가 추출되고,상기 레이저의 초점은 상기 가공물의 표면 또는 내부에 존재하며, 상기 레이저의 일부는 상기 레이저를 통과시키는 재질을 통과하여 상기 가공물을 직접 가공하도록 되어 있는,레이저 가공방법
12 12
제11항에 있어서,상기 전자의 추출에 의해 상기 가공물에 형성된 양성자들은 플라즈마 상태로 변하여 상기 가공물로부터 분리되는, 레이저 가공방법
13 13
금속패턴 구조(300)와 레이저를 통과시키는 재질로 구성되어 있는 금속패턴 구조층(204)을 가공물의 표면에 평행으로 배치하는 단계; 및상기 금속패턴 구조(300)에 레이저를 조사하여 플라즈몬 공명을 유발함으로써 상기 금속패턴 구조(300)로부터 전기장을 형성하고, 상기 전기장에 의해 상기 가공물로부터 전자를 추출하고, 상기 전자의 추출에 의해 형성된 양성자들을 상기 양성자들 간의 척력에 의해 플라즈마로 형태로 상기 가공물로부터 분리하는 단계를 포함하며,상기 레이저의 초점은 상기 가공물의 표면 또는 내부에 존재하며, 상기 레이저의 일부는 상기 레이저를 통과시키는 재질을 통과하여 상기 가공물을 직접 가공하도록 되어 있는,레이저 가공방법
14 14
금속패턴 구조(300)와 레이저를 통과시키는 재질로 구성되어 있으며 가공물의 표면에 평행으로 배치된 금속패턴 구조층(204)의 상기 금속패턴 구조(300)에 레이저를 조사하여 플라즈몬 공명을 유발함으로써 상기 금속패턴 구조(300)의 일 단부에 전기장을 집속하는 단계; 및상기 집속된 전기장에 가공물을 배치하여 상기 가공물로부터 전자를 추출하고, 상기 전자의 추출에 의해 형성된 양성자들을 상기 양성자들 간의 척력에 의해 플라즈마로 형태로 상기 가공물로부터 분리하는 단계를 포함하며,상기 레이저의 초점은 상기 가공물의 표면 또는 내부에 존재하며, 상기 레이저의 일부는 상기 레이저를 통과시키는 재질을 통과하여 상기 가공물을 직접 가공하도록 되어 있고,상기 일 단부는 뾰족한 형상을 갖는,레이저 가공방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 우주개발사업 KAIST 우주기초원천 기술개발사업 지구관측 및 행성탐사를 위한 펨토초 레이저 기반 정밀 거리측정 및 분광기술 기초연구