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탄소나노튜브와 소결성 바인더 및 휘발성 용매를 혼합하여 탄소나노튜브 페이스트를 제조하는 단계(단계 1);침상 음극 기판과 이격되도록 페이스트 지지 기판을 구비하는 단계(단계 2); 상기 단계 1에서 제조된 탄소나노튜브 페이스트를 상기 단계 2의 침상 음극 기판과 페이스트 지지 기판의 이격된 공간에 액상 방울로 떨어뜨려, 침상 음극 기판을 코팅하는 단계(단계 3); 및 상기 단계 3에서 탄소나노튜브 페이스트가 코팅된 침상 음극 기판을 건조하고 소결하는 단계(단계 4)를 포함하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 탄소나노튜브는 구경이 1 내지 50 nm이고, 길이가 1 내지 50 μm인 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 소결성 바인더는 에틸 메타아크릴레이트(Ethyl methacrylate), n-부틸 메타아크릴레이트(n-Butyl methacrylate) 또는 메틸/n-부틸 메타아크릴레이트 공중합체(Methyl/n-butyl Methacrylate copolymer)인 탄소기반 고분자 바인더로 이루어지는 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 소결성 바인더는 마그네슘, 알루미늄, 인듐, 납, 주석 및 아연 분말로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 소결성 바인더는 금, 은, 구리, 망간, 니켈, 철 및 티타늄 분말로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 소결성 바인더는 알루미늄, 금, 구리, 철, 인듐, 니켈, 주석 및 티타늄 분말로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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7
제1항에 있어서, 상기 단계 1의 탄소나노튜브 및 소결성 바인더는 휘발성 용매에 대하여 각각 0
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 탄소나노튜브와 소결성 바인더는 1 : 2 ~ 1 : 4인 몰비로 혼합되고, 탄소나노튜브와 소결성 바인더의 총 함량은 용매에 대하여 4 중량%인 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 탄소나노튜브 페이스트의 점도는 0
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10
제1항에 있어서, 상기 단계 2의 침상 음극 기판은 직경이 0
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제1항에 있어서, 상기 단계 2의 침상 음극 기판의 재질은 텅스텐, 철, 니켈, 티타늄, 은, 구리, 및 코바(kovar)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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12
제1항에 있어서, 상기 단계 2의 침상 음극 기판은 수평 또는 수직방향으로 설치되는 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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13
제1항에 있어서, 상기 단계 2의 침상 음극 기판과 페이스트 지지 기판의 이격된 거리는 0
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14
제3항에 있어서, 상기 단계 4의 소결은 50 내지 200 ℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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15
제4항에 있어서, 상기 단계 4의 소결은 200 내지 600 ℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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16
제5항에 있어서, 상기 단계 4의 소결은 600 내지 1200 ℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 단계 4의 소결은 10-1 ~ 10-7 torr의 진공상태에서 200 내지 1200 ℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 4의 소결이 수행된 후 소결된 음극 기판 표면을 플라즈마 이온 에칭 또는 접착테이프를 통하여 정결(淨潔)시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터의 제조방법
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제1항의 제조방법으로 제조되어 표면에 탄소나노튜브 전계방출원이 코팅된 전계방출형 전자빔 에미터
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제19항에 있어서, 전계방출형 전자빔 에미터는 소형 전자총 제조에 이용되는 것을 특징으로 하는 전계방출형 전자빔 에미터
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