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자외선광을 발생시키는 광원부, 상기 광원부의 광경로 상에 마련되며 패턴이 형성되어 상기 광원부로부터 제공되는 자외선광을 선택적으로 투과시키는 스탬프, 일면이 상기 스탬프의 단면에 접합되며 음의 굴절률을 가지는 렌즈부, 상기 렌즈부의 타면에 접합되는 보호층을 포함하는 노광모듈;상기 노광모듈과 접촉한 상태에서 상기 광원부로부터 상기 노광모듈을 통과한 자외선광에 반응하는 광반응층이 도포되는 기판부;상기 노광모듈이 상기 기판부와 접촉 또는 접촉해제 되도록 상기 노광모듈을 이동시키는 이동부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 접촉형 임프린팅 시스템
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제1항에 있어서,상기 기판부에 상기 노광모듈 접촉시 상기 이동부는 상기 보호층이 상기 기판부에 밀착되도록 상기 노광모듈을 상기 기판부측으로 가압하는 것을 특징으로 하는 접촉형 임프린팅 시스템
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제2항에 있어서,상기 광반응층의 광반응 특성이 향상되도록 상기 보호층과 접촉한 상태에서 상기 광반응층을 전처리하는 전처리부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 접촉형 임프린팅 시스템
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제3항에 있어서,상기 전처리부는 상기 기판부의 하방에 마련되어 상기 광반응층 쪽으로 적외선광을 조사하는 것을 특징으로 하는 접촉형 임프린팅 시스템
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제4항에 있어서,상기 기판부는,상기 광반응층의 하측에 마련되는 기판; 상기 노광모듈의 접촉상태 해제시 상기 기판으로부터 상기 광반응층이 이탈되는 것이 방지되도록 상기 기판과 상기 광반응층의 사이에 개재되는 접합층;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 접촉형 임프린팅 시스템
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제3항 내지 제5항 중 어느 한 항의 접촉형 임프린팅 시스템을 이용하는 방법에 있어서,상기 이동부를 이용하여 상기 노광모듈을 상기 기판부에 접촉시키는 접촉단계;상기 전처리부를 통하여 상기 광반응층을 전처리하는 전처리 단계;상기 광원부를 동작시켜 상기 스탬프를 통과한 자외선광에 의하여 상기 광반응층을 노광하는 노광단계;상기 이동부를 이용하여 상기 기판부로부터 상기 노광모듈을 접촉해제하는 해제단계;상기 광반응층을 현상하는 현상단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 접촉형 임프린팅 방법
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제6항에 있어서,상기 접촉단계는 상기 노광모듈을 상기 기판부의 광반응층 상에 배치하는 배치단계; 상기 노광모듈이 상기 광반응층에 밀착되도록 상기 노광모듈을 상기 광반응층 측으로 가압하는 가압단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 접촉형 임프린팅 방법
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제1항 내지 제5항 중 어느 한 항의 상기 스탬프를 제조하는 방법에 있어서,돌출부와 함몰부가 형성되는 광투과성 재질의 마스크를 제작하는 단계;상기 함몰부 내의 영역에 광차단성 재질의 충진부를 충진하는 단계;상기 충진부를 포함하는 상기 마스크의 면을 평탄화하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 접촉형 임프린트 시스템용 스탬프 제조방법
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