제 1 전극(51), 그라운드 전극(52)과 제 2 전극(53)은 평행하게 일정거리 이격되어 기판(50)에 고정되어 있고;

상기 제 1 전극(51)과 그라운드 전극(52)에 제 1 아치바(54)가 연장되어 있고;

상기 제 2 전극(53)과 그라운드 전극(52)에 제 2 아치바(55)가 연장되고;

상기 제 1 아치바(54)와 제 2 아치바(55)에 제 3 아치바(56)가 연장되어 있고;

상기 제 3 아치바(56)의 중심부(57)에는 선단부(58)가 연장되어 있으며;

상기 제 1 내지 3 아치바(54,55,56)는 상기 기판(50)으로부터 부상되어 있으며,

상기 제 1 전극(51)으로부터 연장된 제 1 아치바의 연장부(54a)의 길이(A)와 제 2 전극(53)으로부터 연장된 제 2 아치바의 연장부(55b)의 길이(D)는,

상기 그라운드 전극(52)으로부터 연장된 제 1 아치바의 연장부(54b)의 길이(B)와 제 2 아치바의 연장부(55a)의 길이(C)보다 각각 긴 것, 즉, A＞B, D＞C인 것을 특징으로 하는 변위 증폭이 가능한 열 마이크로 구동기

제 1 항에 있어서,

상기 기판(50)은 글래스 기판이며,

상기 제 1 전극(51), 그라운드 전극(52) 및 제 2 전극(53) 각각과 상기 기판(50)의 사이에는 실리콘 산화막이 개재되어 있는 것을 특징으로 하는 변위 증폭이 가능한 열 마이크로 구동기

삭제

글래스 기판(60)의 상부에 실리콘 산화막(61), 실리콘층(62)과 포토레지스트층(63)을 순차적으로 형성하는 제 1 단계와;

상기 포토레지스트층(63)을 사진식각공정을 수행하여 제거한 다음, 남아있는 포토레지스트층(63')으로 실리콘층(62)을 제거하여 개구(64)를 형성하고, 실리콘층(62)에 열 마이크로 구동기의 몰드패턴을 형성한 다음, 상기 포토레지스트층(63')을 제거하는 제 2 단계와;

상기 열 마이크로 구동기의 몰드패턴이 형성된 실리콘층(62')의 개구(64')에 메탈을 증착하여 메탈층(65)을 형성하는 제 3 단계와;

상기 실리콘층(62')을 제거하여 실리콘 산화막(61)의 상부에 메탈층(65)으로 열 마이크로 구동기 형상을 형성하는 제 4 단계와;

상기 메탈층(65) 중 전극부분은 남겨놓고, 실리콘 산화막(61)의 일부를 제거하여 아치부들과 선단부를 부상시키는 제 5 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 변위 증폭이 가능한 열 마이크로 구동기의 제조방법