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반도체 레이저 다이오드 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2014048500
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 이온 주입 공정을 통해 질화물 반도체층의 표면에 선택적으로 보호층을 형성하여 우수한 열 방출 특성을 가지는 보호층을 얻을 수 있는 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
Int. CL H01S 5/20 (2006.01) H01S 5/028 (2006.01)
CPC H01S 5/0281(2013.01) H01S 5/0281(2013.01) H01S 5/0281(2013.01) H01S 5/0281(2013.01)
출원번호/일자 1020120075555 (2012.07.11)
출원인 순천대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1337486-0000 (2013.11.29)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20131206) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.07.11)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 순천대학교 산학협력단 대한민국 전라남도 순천시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 곽준섭 대한민국 전라남도 순천시 중앙로
2 황성주 대한민국 전라남도 순천시 중앙로
3 박민주 대한민국 전라남도 순천시 중앙로

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 안준형 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층(역삼동, 청보빌딩)(아인특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 순천대학교 산학협력단 전라남도 순천시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.07.11 수리 (Accepted) 1-1-2012-0554460-89
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.02.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.03.11 수리 (Accepted) 9-1-2013-0017742-41
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2013-5083728-15
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.08.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0586848-65
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.10.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0942105-76
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.10.18 수리 (Accepted) 1-1-2013-0942110-05
8 등록결정서
Decision to grant
2013.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0798817-11
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.18 수리 (Accepted) 4-1-2014-5021788-47
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번호 청구항
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기판 상부에 n형 반도체층을 포함하는 제1질화물 반도체층을 형성하는 단계;상기 제1질화물 반도체층 상부에 활성층을 형성하는 단계;상기 활성층 상부에 p형 질화물 반도체층을 포함하는 제2질화물 반도체층을 형성하는 단계;상기 제2질화물 반도체층과 활성층 및 제1질화물 반도체층을 식각하여 상기 n형 반도체층의 상면을 노출시키는 단계;상기 노출된 제1질화물 반도체층의 n형 반도체층 및 상기 제2질화물 반도체층의 p형 질화물 반도체층 상부에 각각 제1전극 및 제2전극을 형성하는 단계;상기 p형 질화물 반도체층의 중앙 부분이 그 주변 부분보다 돌출된 리지 구조를 갖도록 상기 제2전극 및 상기 p형 질화물 반도체층을 식각하는 단계; 및상기 제1전극, 제2전극, 리지 구조의 p형 질화물 반도체층을 포함하는 제2질화물 반도체층, 및 상기 제1질화물 반도체층에 대해 이온 주입을 수행하여 보호층을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 보호층은 이온 주입 시에 상기 제1전극 및 제2전극의 표면을 제외한 제1질화물 반도체층 및 상기 제2질화물 반도체층의 노출된 표면에만 선택적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 다이오드 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 제1질화물 반도체층을 형성하는 단계는,상기 기판 상부에 n형 반도체층을 형성하는 단계;상기 n형 반도체층 상부에 n형 클래드층을 형성하는 단계; 및상기 n형 클래드층 상부에 n형 웨이브가이드층을 순차적으로 형성하는 단계;를 포함하는 반도체 레이저 다이오드 제조 방법
11 11
제 9 항에 있어서,상기 제2질화물 반도체층을 형성하는 단계는,상기 활성층 상부에 p형 웨이브가이드층을 형성하는 단계;상기 p형 웨이브가이드층 상부에 p형 클래드층을 형성하는 단계; 및상기 p형 클래드층 상부에 p형 질화물 반도체층을 순차적으로 형성하는 단계;를 포함하는 반도체 레이저 다이오드 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 제2전극은 상기 리지 구조의 돌출된 p형 질화물 반도체층 상부에 형성하는 반도체 레이저 다이오드 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 보호층은 유전체층으로 이루어진 반도체 레이저 다이오드 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 보호층은 N2, H2 및 O2 중에서 선택된 어느 하나를 포함하는 이온으로 표면처리 하여 형성하는 반도체 레이저 다이오드 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 보호층을 형성하는 단계 후, 상기 제1전극 및 제2전극에 각각 전류를 인가하는 제1컨택 전극 및 제2컨택 전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 반도체 레이저 다이오드 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 광주 광기술원(KOPTI) 산업원천기술개발 사업 모바일 융합기기용 5W급 풀칼라 (R.G.B.) 레이저 다이오드 및 모듈 개발
2 지식경제부 순천대학교 지역혁신센터(RIC)사업 차세대 전략산업용 희유자원 실용화 센터 사업