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멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2014048502
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조방법에 관한 것으로, 멀티 칩 구조로 반도체 레이저 다이오드를 형성하고, 전압공급 컨트롤러 및 복수의 광 파이버를 구비한 광 파이버포커스를 형성함으로써, 광의 세기 및 광 효율을 향상시킬 수 있는 고출력의 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드를 제조하는 것에 관한 것이다.
Int. CL H01S 5/40 (2006.01)
CPC H01S 5/4037(2013.01) H01S 5/4037(2013.01) H01S 5/4037(2013.01) H01S 5/4037(2013.01)
출원번호/일자 1020120012266 (2012.02.07)
출원인 순천대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1334205-0000 (2013.11.22)
공개번호/일자 10-2013-0091043 (2013.08.16) 문서열기
공고번호/일자 (20131129) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.02.07)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 순천대학교 산학협력단 대한민국 전라남도 순천시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 곽준섭 대한민국 전라남도 순천시 중앙로
2 박민주 대한민국 전라남도 순천시 중앙로
3 황성주 대한민국 전라남도 순천시 중앙로

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 안준형 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층(역삼동, 청보빌딩)(아인특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 순천대학교 산학협력단 전라남도 순천시
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.02.07 수리 (Accepted) 1-1-2012-0098630-70
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.09.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.10.24 수리 (Accepted) 9-1-2012-0080781-43
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0341526-45
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2013-5083728-15
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.07.12 수리 (Accepted) 1-1-2013-0629611-58
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.07.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0629603-93
8 등록결정서
Decision to grant
2013.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0739890-17
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.18 수리 (Accepted) 4-1-2014-5021788-47
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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삭제
2 2
삭제
3 3
서로 이격하면서 형성된 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역들을 구비하고, 상기 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역들을 절연시키기 위해 상기 반도체 레이저 다이오드 영역들 사이와 노출된 면에 형성된 절연층을 포함하고, 상기 반도체 레이저 다이오드 영역은 홀이 구비되며, N-반도체층, 활성층 및 P-반도체층의 적층으로 이루어진 적층 구조물과, 상기 홀 내에 매립 형태로 형성되어 상기 N-반도체층 부분과 컨택되는 N-전극 및 상기 N-전극과 수평방향으로 형성되어 상기 P-반도체층과 컨택되는 P-전극이 포함된 수평형 적층 구조물로 구성되는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
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서로 이격하면서 형성된 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역들을 구비하고, 상기 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역들을 절연시키기 위해 상기 반도체 레이저 다이오드 영역들 사이와 노출된 면에 형성된 절연층을 포함하며, 상기 반도체 레이저 다이오드 영역은 P-전극, P-반도체층, 활성층, N-반도체층 및 N-전극이 순차적으로 적층된 수직형 적층 구조물로 구성되고, 상기 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역과 본딩되는 상부에 다수의 서브마운트 기판용 P-전극이 형성된 서브마운트 기판을 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
5 5
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,상기 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역과 각각 커플링되는 복수의 광 파이버와 상기 복수의 광 파이버를 하나의 광 파이버로 모아주는 광 파이버포커스를 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
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제 5 항에 있어서,상기 복수의 광 파이버는 상기 반도체 레이저 다이오드 영역의 활성층 부분과 각각 연결되는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
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제 5 항에 있어서,상기 반도체 레이저 다이오드 영역의 발진면에서 광 파이버와 커플링이 이루어지고, 상기 발진면 이외의 부분에는 반사층이 형성된 것을 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
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제 4 항에 있어서, 상기 N-전극들 사이에 개재되도록 상기 N-반도체층 상에 형성되어 양측에 형성된 N-전극과 와이어 본딩된 전압공급 컨트롤러를 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
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제 3 항에 있어서, 상기 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역과 본딩되는 상부에 다수의 서브마운트 기판용 P-전극과 N-전극이 수평방향으로 형성된 서브마운트 기판을 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
10 10
사파이어 기판 상부에 N-반도체층, 활성층, P-반도체층을 순차적으로 형성하는 단계;상기 사파이어 기판이 노출되도록 상기 P-반도체층, 활성층, N-반도체층을 식각하여 상기 N-반도체층, 활성층 및 P-반도체층의 적층으로 이루어진 다수의 적층 구조물들을 서로 이격하면서 형성하는 단계;상기 적층 구조물들 사이 및 식각된 적층 구조물 부분에 절연층을 형성하는 단계;상기 절연층을 식각하여 상기 P-반도체층 상부를 노출시키는 단계;상기 노출된 P-반도체층 상에 P-전극을 형성하는 단계;상부에 서브마운트 기판용 P-전극이 형성된 서브마운트 기판을 준비하고, 상기 서브마운트 기판과 상기 적층 구조물의 P-전극을 본딩하는 단계;상기 N-반도체층으로부터 상기 사파이어 기판을 이탈시키는 단계; 및상기 사파이어 기판이 이탈된 N-반도체층 부분에 N-전극을 형성하여, 상기 P-전극, P-반도체층, 활성층, N-반도체층 및 N-전극으로 구성된 수직형 적층 구조물의 반도체 레이저 다이오드 영역을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
11 11
제 10 항에 있어서, 상기 서브마운트 기판은 본딩용 금속층을 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
12 12
제 11 항에 있어서, 상기 본딩용 금속층은 Cr, Ti, Pt, Au, Mo, Sn, Ag 및 In 중에서 적어도 2개 이상의 합금으로 이루어진 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
13 13
제 10 항에 있어서, 상기 N-전극 측면 부분에 전압공급 컨트롤러를 형성하는 단계; 및상기 전압공급 컨트롤러와 N-전극을 본딩하는 단계;를 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
14 14
제 13 항에 있어서, 상기 본딩은 와이어 본딩, 인쇄방법 및 패터닝 중 어느 하나의 방법으로 수행하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
15 15
제 10 항에 있어서, 복수의 광 파이버와 상기 복수의 광 파이버를 하나의 광 파이버로 모아주는 광 파이버포커스를 준비하고, 상기 복수의 광 파이버를 상기 반도체 레이저 다이오드 영역의 활성층 부분과 각각 연결시키는 단계;를 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
16 16
제 15 항에 있어서,상기 복수의 광 파이버는 반도체 레이저 다이오드 영역의 발진면에서 커플링을 이루고, 상기 발진면 이외의 부분에는 반사층을 형성하는 단계;를 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
17 17
사파이어 기판 상부에 N-반도체층, 활성층, P-반도체층을 순차적으로 형성하는 단계; 상기 P-반도체층, 활성층, N-반도체층을 식각하여 상기 N-반도체층 부분을 노출시키는 홀을 형성하고, 상기 N-반도체층, 활성층 및 P-반도체층의 적층으로 이루어진 다수의 적층 구조물을 서로 이격하면서 형성하는 단계;상기 적층 구조물들 사이 및 식각된 적층 구조물 부분에 절연층을 형성하는 단계;상기 절연층을 식각하여 상기 P-반도체층 상부와 상기 홀의 저면 부분을 노출시키는 단계;상기 노출된 P-반도체층 상에 P-전극을 형성함과 아울러 상기 노출된 홀의 저면 부분과 콘택되도록 상기 홀 내에 매립 형태의 N-전극을 상기 P-전극과 수평방향으로 형성하여 상기 N-반도체층, 활성층, P-반도체층의 적층 구조물과 P-전극 및 N-전극으로 구성된 수평형 적층 구조물의 반도체 레이저 다이오드 영역을 형성하는 단계;상부에 다수의 서브마운트 기판용 P-전극과 N-전극이 수평방향으로 서로 교차하면서 형성된 서브마운트 기판을 준비하고, 상기 서브마운트 기판과 상기 반도체 레이저 다이오드 영역의 P-전극 및 N-전극을 본딩하는 단계; 및상기 N-반도체층으로부터 상기 사파이어 기판을 이탈시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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제 17 항에 있어서, 상기 서브마운트 기판은 본딩용 금속층을 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
19 19
제 18 항에 있어서, 상기 본딩용 금속층은 Cr, Ti, Pt, Au, Mo, Sn, Ag 및 In 중에서 적어도 2개 이상의 합금으로 이루어진 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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제 17 항에 있어서, 복수의 광 파이버와 상기 복수의 광 파이버를 하나의 광 파이버로 모아주는 광 파이버포커스를 준비하고, 상기 복수의 광 파이버를 상기 반도체 레이저 다이오드 영역의 활성층 부분과 각각 연결시키는 단계;를 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
21 21
제 20 항에 있어서,상기 복수의 광 파이버는 반도체 레이저 다이오드 영역의 발진면에서 커플링을 이루고, 상기 발진면 이외의 부분에는 반사층을 형성하는 단계;를 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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