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서로 이격하면서 형성된 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역들을 구비하고, 상기 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역들을 절연시키기 위해 상기 반도체 레이저 다이오드 영역들 사이와 노출된 면에 형성된 절연층을 포함하고, 상기 반도체 레이저 다이오드 영역은 홀이 구비되며, N-반도체층, 활성층 및 P-반도체층의 적층으로 이루어진 적층 구조물과, 상기 홀 내에 매립 형태로 형성되어 상기 N-반도체층 부분과 컨택되는 N-전극 및 상기 N-전극과 수평방향으로 형성되어 상기 P-반도체층과 컨택되는 P-전극이 포함된 수평형 적층 구조물로 구성되는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
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서로 이격하면서 형성된 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역들을 구비하고, 상기 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역들을 절연시키기 위해 상기 반도체 레이저 다이오드 영역들 사이와 노출된 면에 형성된 절연층을 포함하며, 상기 반도체 레이저 다이오드 영역은 P-전극, P-반도체층, 활성층, N-반도체층 및 N-전극이 순차적으로 적층된 수직형 적층 구조물로 구성되고, 상기 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역과 본딩되는 상부에 다수의 서브마운트 기판용 P-전극이 형성된 서브마운트 기판을 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
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제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,상기 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역과 각각 커플링되는 복수의 광 파이버와 상기 복수의 광 파이버를 하나의 광 파이버로 모아주는 광 파이버포커스를 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
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제 5 항에 있어서,상기 복수의 광 파이버는 상기 반도체 레이저 다이오드 영역의 활성층 부분과 각각 연결되는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
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제 5 항에 있어서,상기 반도체 레이저 다이오드 영역의 발진면에서 광 파이버와 커플링이 이루어지고, 상기 발진면 이외의 부분에는 반사층이 형성된 것을 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
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제 4 항에 있어서, 상기 N-전극들 사이에 개재되도록 상기 N-반도체층 상에 형성되어 양측에 형성된 N-전극과 와이어 본딩된 전압공급 컨트롤러를 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
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제 3 항에 있어서, 상기 다수의 반도체 레이저 다이오드 영역과 본딩되는 상부에 다수의 서브마운트 기판용 P-전극과 N-전극이 수평방향으로 형성된 서브마운트 기판을 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드
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사파이어 기판 상부에 N-반도체층, 활성층, P-반도체층을 순차적으로 형성하는 단계;상기 사파이어 기판이 노출되도록 상기 P-반도체층, 활성층, N-반도체층을 식각하여 상기 N-반도체층, 활성층 및 P-반도체층의 적층으로 이루어진 다수의 적층 구조물들을 서로 이격하면서 형성하는 단계;상기 적층 구조물들 사이 및 식각된 적층 구조물 부분에 절연층을 형성하는 단계;상기 절연층을 식각하여 상기 P-반도체층 상부를 노출시키는 단계;상기 노출된 P-반도체층 상에 P-전극을 형성하는 단계;상부에 서브마운트 기판용 P-전극이 형성된 서브마운트 기판을 준비하고, 상기 서브마운트 기판과 상기 적층 구조물의 P-전극을 본딩하는 단계;상기 N-반도체층으로부터 상기 사파이어 기판을 이탈시키는 단계; 및상기 사파이어 기판이 이탈된 N-반도체층 부분에 N-전극을 형성하여, 상기 P-전극, P-반도체층, 활성층, N-반도체층 및 N-전극으로 구성된 수직형 적층 구조물의 반도체 레이저 다이오드 영역을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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제 10 항에 있어서, 상기 서브마운트 기판은 본딩용 금속층을 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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제 11 항에 있어서, 상기 본딩용 금속층은 Cr, Ti, Pt, Au, Mo, Sn, Ag 및 In 중에서 적어도 2개 이상의 합금으로 이루어진 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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제 10 항에 있어서, 상기 N-전극 측면 부분에 전압공급 컨트롤러를 형성하는 단계; 및상기 전압공급 컨트롤러와 N-전극을 본딩하는 단계;를 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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제 13 항에 있어서, 상기 본딩은 와이어 본딩, 인쇄방법 및 패터닝 중 어느 하나의 방법으로 수행하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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제 10 항에 있어서, 복수의 광 파이버와 상기 복수의 광 파이버를 하나의 광 파이버로 모아주는 광 파이버포커스를 준비하고, 상기 복수의 광 파이버를 상기 반도체 레이저 다이오드 영역의 활성층 부분과 각각 연결시키는 단계;를 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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제 15 항에 있어서,상기 복수의 광 파이버는 반도체 레이저 다이오드 영역의 발진면에서 커플링을 이루고, 상기 발진면 이외의 부분에는 반사층을 형성하는 단계;를 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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사파이어 기판 상부에 N-반도체층, 활성층, P-반도체층을 순차적으로 형성하는 단계; 상기 P-반도체층, 활성층, N-반도체층을 식각하여 상기 N-반도체층 부분을 노출시키는 홀을 형성하고, 상기 N-반도체층, 활성층 및 P-반도체층의 적층으로 이루어진 다수의 적층 구조물을 서로 이격하면서 형성하는 단계;상기 적층 구조물들 사이 및 식각된 적층 구조물 부분에 절연층을 형성하는 단계;상기 절연층을 식각하여 상기 P-반도체층 상부와 상기 홀의 저면 부분을 노출시키는 단계;상기 노출된 P-반도체층 상에 P-전극을 형성함과 아울러 상기 노출된 홀의 저면 부분과 콘택되도록 상기 홀 내에 매립 형태의 N-전극을 상기 P-전극과 수평방향으로 형성하여 상기 N-반도체층, 활성층, P-반도체층의 적층 구조물과 P-전극 및 N-전극으로 구성된 수평형 적층 구조물의 반도체 레이저 다이오드 영역을 형성하는 단계;상부에 다수의 서브마운트 기판용 P-전극과 N-전극이 수평방향으로 서로 교차하면서 형성된 서브마운트 기판을 준비하고, 상기 서브마운트 기판과 상기 반도체 레이저 다이오드 영역의 P-전극 및 N-전극을 본딩하는 단계; 및상기 N-반도체층으로부터 상기 사파이어 기판을 이탈시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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제 17 항에 있어서, 상기 서브마운트 기판은 본딩용 금속층을 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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제 18 항에 있어서, 상기 본딩용 금속층은 Cr, Ti, Pt, Au, Mo, Sn, Ag 및 In 중에서 적어도 2개 이상의 합금으로 이루어진 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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제 17 항에 있어서, 복수의 광 파이버와 상기 복수의 광 파이버를 하나의 광 파이버로 모아주는 광 파이버포커스를 준비하고, 상기 복수의 광 파이버를 상기 반도체 레이저 다이오드 영역의 활성층 부분과 각각 연결시키는 단계;를 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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제 20 항에 있어서,상기 복수의 광 파이버는 반도체 레이저 다이오드 영역의 발진면에서 커플링을 이루고, 상기 발진면 이외의 부분에는 반사층을 형성하는 단계;를 더 포함하는 멀티 칩 반도체 레이저 다이오드 제조방법
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