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n형 반도체층, 활성층 및 p형 반도체층이 적층된 질화갈륨계 반도체 적층 구조;상기 p형 반도체층 상에 형성되고, 서로 분리된 복수의 마이크로 오픈부들을 갖는 투명전극; 및상기 투명전극 및 상기 n형 반도체층 상에 각각 접속하는 p형 전극 및 n형 전극;을 포함하며,상기 p형 반도체층은 제1영역과 상기 제1영역 사이에 다수의 나노 구조체를 구비한 서로 분리된 복수의 제2영역들을 포함하고,상기 복수의 마이크로 오픈부 영역과 상기 복수의 제2영역들은 서로 대응되는 반도체 발광 소자
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제 1 항에 있어서,상기 복수의 마이크로 오픈부들은 서로 일정한 간격을 유지한 형태로 형성된 반도체 발광 소자
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제 1 항에 있어서,상기 복수의 마이크로 오픈부들은 원형, 삼각형, 사각형, 사다리꼴형 및 마름모꼴형 중 어느 하나의 형상으로 이루어진 반도체 발광 소자
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제 1 항에 있어서,상기 복수의 마이크로 오픈부들의 면적은 상기 투명전극 전체 면적의 10∼50%로 구성된 반도체 발광 소자
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제 1 항에 있어서,상기 n형 반도체층은 노출된 표면에 다수의 나노 구조체가 형성된 반도체 발광 소자
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제 1 항 또는 제 7 항에 있어서,상기 다수의 나노 구조체는 포토닉 크리스탈 구조인 반도체 발광 소자
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n형 반도체층, 활성층 및 p형 반도체층이 적층으로 이루어진 질화갈륨계 반도체 적층 구조를 형성하는 단계;상기 질화갈륨계 반도체 적층 구조의 p형 반도체층 상에 투명전극을 형성하는 단계;상기 투명전극과 p형 반도체층 및 상기 활성층을 식각하여 상기 n형 반도체층의 일부를 노출시키는 단계;상기 투명전극 상에 마이크로 패터닝 마스크를 형성하는 단계;상기 마이크로 패터닝 마스크를 이용하여 상기 p형 반도체층 상면을 노출시키는 서로 분리된 복수의 마이크로 오픈부를 형성하는 단계;상기 복수의 마이크로 오픈부 영역내의 상기 노출된 p형 반도체층 상에 나노 패터닝 마스크를 형성하는 단계; 및상기 나노 패터닝 마스크를 이용하여 상기 복수의 마이크로 오픈부 영역내의 상기 노출된 p형 반도체층에 다수의 나노 구조체를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광 소자 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 복수의 마이크로 오픈부들은 서로 일정한 간격을 유지한 형태로 형성하는 반도체 발광 소자 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 복수의 마이크로 오픈부들은 원형, 삼각형, 사각형, 사다리꼴형 및 마름모꼴형 중 어느 하나의 형상으로 이루어진 반도체 발광 소자 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 복수의 마이크로 오픈부들의 면적은 상기 투명전극 전체 면적의 10∼50%로 구성된 반도체 발광 소자 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 노출된 n형 반도체층 상면에 나노 패터닝 마스크를 형성하는 단계; 및상기 나노 패터닝 마스크를 이용하여 상기 n형 반도체층의 상부 표면에 다수의 나노 구조체를 형성하는 단계;를 더 포함하는 반도체 발광 소자 제조 방법
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제 13 항에 있어서,상기 n형 반도체층에 형성된 다수의 나노 구조체는 상기 p형 반도체층에 형성된 다수의 나노 구조체와 동시에 형성하는 반도체 발광 소자 제조 방법
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제 9 항 또는 제 13 항에 있어서,상기 다수의 나노 구조체는 포토닉 크리스탈 구조로 형성하는 반도체 발광 소자 제조 방법
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