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(a) 액상 공정(solution process)으로 투명전도성산화물로 이루어진 박막을 형성하는 단계;(b) 상기 투명전도성산화물로 이루어진 박막을 수소 플라즈마 처리하는 단계; 및(c) 상기 박막을 산성 용액으로 표면 처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명전도성산화물 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계 이후, 상기 (b) 단계 이전에 상기 박막을 열처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명전도성산화물 박막의 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 열처리는 RTA(rapid thermal annealing) 공정을 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 투명전도성산화물 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계는,상기 투명전도성산화물의 나노 분말을 유기 용매에 섞은 용액을 스핀 코팅함으로써 상기 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 투명전도성산화물 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 투명전도성산화물은 ITO, IGZO, IZO, IZTO, ZnO 중에서 선택된 하나 이상의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명전도성산화물 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (b) 단계는 유도결합 플라즈마(inductively coupled plasma) 장치를 이용하여 상기 박막을 반응 챔버에 넣고 수소 가스를 주입하면서 수행하는 것을 특징으로 하는 투명전도성산화물 박막의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 유도결합 플라즈마 장치를 이용한 수소 플라즈막 처리 시, 상기 반응 챔버의 압력을 20mTorr ~ 90mTorr로 하고, RF 파워를 150W ~ 750W로 하며, 처리 시간을 1분 ~ 10분으로 하는 것을 특징으로 하는 투명전도성산화물 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 산성 용액은 유기산 용액인 것을 특징으로 하는 투명전도성산화물 박막의 제조방법
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제 8 항에 있어서,상기 유기산 용액은 옥살산(oxalic acid)을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명전도성산화물 박막의 제조방법
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제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 의한 제조방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 투명전도성산화물 박막
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