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챔버 내에서 폴리카보네이트(polycarbonate(PC)), 폴리이미드(Polyimide(PI)), 폴리에틸렌(Polyethylene(PE)), 폴리메타크릴산메틸(Polymethylmethacrylate (PMMA)), 폴리스티렌(Polystyrene(PS)), 폴리락틱코글리코릭산(Polylactic-co-glycolic acid(PLGA)), 히드로겔(Hydrogel), 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate(PET)), 실리콘고무(Silicone rubber), 및 PDMS(Polydimethylsiloxane)로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 고분자 재료의 표면에 메탄가스, 아세틸렌가스, 에틸렌가스 및 벤젠가스를 포함하는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 탄소를 포함하는 가스를 이온건으로 이온화하여 분사함으로써 탄소 나노박막을 증착하되, 탄소 나노박막의 증착과 동시에 스퍼터를 통하여 실리콘, 티타늄, 구리, 및 텅스텐으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 금속물질을 증착하고, 증착시간 및 가속전압의 크기를 조절하여 고분자 재료 표면에 나노 크기의 엠보패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 탄소 나노 엠보패턴 표면을 갖는 고분자 소재의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 챔버 내 압력은 1
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제1항에 있어서, 탄소 나노박막의 증착을 위한 증착 시간은 1 초 내지 1 시간이고, 가속전압의 크기는 100 V 내지 100 kV인 것을 특징으로 하는 탄소 나노 엠보패턴 표면을 갖는 고분자 소재의 제조방법
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제1항의 방법으로 제조되어, 고분자 재료의 표면에 나노 크기의 엠보패턴을 형성하는 탄소 나노박막이 증착된 것을 특징으로 고분자 소재
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제9항에 있어서, 증착된 탄소 나노박막의 엠보패턴의 폭은 1 내지 1,000 나노미터이고, 길이는 1 내지 10,000 나노미터인 것을 특징으로 하는 고분자 소재
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제9항에 있어서, 상기 고분자 소재는 저마찰성, 내마모성, 점착방지성(anti-stiction), 내지문성을 갖는 것을 특징으로 하는 고분자 소재
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