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이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리 방법 및 이를 이용하여 제조된 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자

  • 기술번호 : KST2014049801
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법 및 이를 이용하여 제조된 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자에 관한 것으로서, 아미노기를 갖는 이산화규소를 첨가한 제 2용매에 베어입자를 첨가한 후, 분산시켜 반응준비용액을 제조하는 반응준비단계; 및 상기 반응준비용액에 염산 및 글루타르알테하이드를 첨가하여 반응시키는 입자표면처리단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.본 발명에 의하면, 종래와 달리, 용액흡착방식을 이용함으로써, 보다 정량적이고 균일하게 입자에 외첨제를 흡착시킬 수 있을 뿐만 아니라, 화학적 결합에 의하므로, 내구성을 현저히 향상시킬 수 있으며, 용액흡착방식으로 염산, 글루타르알테하이드 및 아미노기가 형성된 이산화규소와 입자를 최적의 함량비율로 반응시킴으로써, 입자의 내구성 및 유동성을 현저히 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
Int. CL C09C 1/30 (2006.01) C01B 33/18 (2006.01) G02F 1/167 (2006.01) C09C 3/08 (2006.01)
CPC C09C 3/08(2013.01) C09C 3/08(2013.01) C09C 3/08(2013.01) C09C 3/08(2013.01)
출원번호/일자 1020110014198 (2011.02.17)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1248014-0000 (2013.03.21)
공개번호/일자 10-2012-0094747 (2012.08.27) 문서열기
공고번호/일자 (20130327) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.02.17)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이상국 대한민국 경기도 용인시 수지구
2 최경호 대한민국 경기도 화성시
3 신교직 대한민국 경기도 화성
4 김은경 대한민국 대전광역시 대덕구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 나승택 대한민국 서울특별시 서초구 양재천로**길 **, *층 (양재동, 대화빌딩)(무일국제특허법률사무소)
2 조영현 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(도곡동, 은하수빌딩) *층(특허사무소시선)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 충청남도 천안시 서북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.02.17 수리 (Accepted) 1-1-2011-0114976-93
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.01.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.02.20 수리 (Accepted) 9-1-2012-0014524-45
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.09.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0520598-86
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.11.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0907264-16
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.11.05 수리 (Accepted) 1-1-2012-0907243-68
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
10 등록결정서
Decision to grant		 2013.02.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0114766-27
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
12 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)		 2016.08.05 수리 (Accepted) 1-1-2016-0761137-95
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
아미노기를 갖는 이산화규소를 첨가한 제 2용매에 베어입자를 첨가한 후, 분산시켜 반응준비용액을 제조하는 반응준비단계; 및상기 반응준비용액에 염산 및 글루타르알테하이드를 첨가하여 반응시키는 입자표면처리단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 반응준비단계에서, 상기 아미노기를 갖는 이산화규소는,이산화규소를 300 내지 500℃에서 15 내지 30시간동안 열처리하여 정제시키는 정제단계; 및제 1용매에 상기 이산화규소를 첨가하여 반응시켜 아미노기를 갖는 이산화규소를 제조하는 아미노기치환단계;를 통해 제조되는 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
3 3
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 반응준비단계에서, 상기 제 2용매는 이소프로필 알코올(Isopropyl Alcohol)인 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
4 4
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 반응준비단계에서, 상기 베어입자는, 모노머, 중합개시제 및 이온성모노머를 합성하여 제조되며, 상기 이온성 모노머는 스티렌설폰산(Styrene sulfonic acid) 또는 [2-(메타크릴옥시)에틸]트리메틸 암모늄 클로라이드 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
5 5
제 4항에 있어서, 상기 모노머는 메틸메타크릴레이트, 에틸렌테레프탈레이트, 스티렌술포네이트, 비닐아세트테이트, 메틸스티렌, 아크릴산, 부틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 또는 N-비닐카프로락탐 중 적어도 하나이며, 상기 중합개시제는 퍼옥시드화합물 또는 아조화합물 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
6 6
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 반응준비단계에서, 상기 제 2용매 100중량부에 대하여, 상기 아미노기를 갖는 이산화규소는 0
7 7
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 반응준비단계에서, 상기 제 2용매 100중량부에 대하여, 상기 베어입자는 1 내지 5중량부를 첨가하는 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
8 8
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 입자표면처리단계에서, 상기 제 2용매 100중량부에 대하여, 상기 염산 및 글루타르알테하이드는 각각 60 내지 90중량부를 첨가하는 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
9 9
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 입자표면처리단계는, 상기 반응준비용액을 10 내지 30℃에서 마그네틱바를 사용하여 교반하면서, 상기 염산 및 글루타르알테하이드를 첨가하는 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
10 10
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 입자표면처리단계에서, 반응시간은 1 내지 3시간인 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
11 11
제 2항에 있어서, 상기 아미노기치환단계에서, 상기 제 1용매는 톨루엔인 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
12 12
제 2항 또는 제 11항에 있어서, 상기 아미노기치환단계는, 상기 제 1용매에 상기 이산화규소를 첨가한 후, 분산시켜 반응용액을 제조하는 반응용액 제조단계;상기 반응용액을 질소분위기하에서 가열하는 가열단계; 상기 반응용액에 (3-아민프로필)트리에톡시실란((3-aminopropyl) triethoxysilane)을 첨가하는 에톡시실란 첨가단계; 및상기 반응용액을 교반시키는 교반단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
13 13
제 12항에 있어서, 상기 반응용액 제조단계에서, 상기 제 1용매 100중량부에 대하여, 상기 이산화규소는 20 내지 50중량부인 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
14 14
제 12항에 있어서, 상기 가열단계는, 상기 반응용액의 온도를 60℃ 내지 90℃의 온도로 유지시키는 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
15 15
제 12항에 있어서, 상기 에톡시실란첨가단계에서, 상기 제 1용매 100중량부에 대하여, 상기 (3-아민프로필)트리에톡시실란은 20 내지 50중량부인 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
16 16
제 12항에 있어서, 상기 교반단계는, 상기 반응용액을 60℃ 내지 90℃의 온도하에서 15 내지 30시간동안 교반시키는 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자의 표면처리방법
17 17
제 1항 또는 제 2항 중 어느 한 항의 표면처리방법에 의하여 표면처리된 것을 특징으로 하는 이산화규소 외첨제를 이용한 전자종이용 입자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.