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플라스틱판, 세라믹판 및 금속판으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 기판에 대하여 광경화성 접착제 또는 코팅용으로 사용하기 위한, 화학식 2로 표시되는 플로로글루시놀계 아크릴레이트를 포함하는 접착제 조성물
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제1항에 있어서, 상기 플로로글루시놀계 아크릴레이트는, 트리니트로톨루엔을 산화시켜 2,4,6-트리니트로벤조산(2,4,6-trinitrobenzoic acid)을 제조하는 단계(a);2,4,6-트리니트로벤조산을 환원시켜 2,4,6-트리아미노벤조산(2,4,6-triaminobenzoic acid)을 제조하는 단계(b);2,4,6-트리아미노벤조산을 히드록시기 치환반응으로 플로로글루시놀(phloroglucinol)을 제조하는 단계(c); 및플로로글루시놀에 화학식 1로 표시되는 화합물을 투입하고 반응시켜 상기 화학식 2로 표시되는 플로로글루시놀계 아크릴레이트를 제조하는 단계(d);를 포함하는 플로로글루시놀계 아크릴레이트의 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 접착제 조성물
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제2항에 있어서, 트리니트로톨루엔은 군사용 또는 산업용 탄약으로 제조된 후 폐기된 것임을 특징으로 하는 접착제 조성물
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제2항에 있어서, 화학식 1 또는 화학식 2에서 R1은 수소원자이거나 탄소수 1 내지 3의 알킬기이고, R2는 수소원자이거나 탄소수 1 내지 3의 알킬기인 것을 특징으로 하는 접착제 조성물
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제2항에 있어서, 단계(a)는 트리니트로톨루엔을 HNO3와 NaClO3를 사용하여 산화시켜 2,4,6-트리니트로벤조산(2,4,6-trinitrobenzoic acid)을 제조하는 단계인 것을 특징으로 하는 접착제 조성물
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제5항에 있어서, 단계(a)는 70 내지 110℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 접착제 조성물
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제2항에 있어서, 단계(b)는 2,4,6-트리니트로벤조산을 HCl과 Sn을 사용하여 환원시켜 2,4,6-트리아미노벤조산(2,4,6-triaminobenzoic acid)을 제조하는 단계인 것을 특징으로 하는 접착제 조성물
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제7항에 있어서, 단계(b)는 60 내지 110℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 접착제 조성물
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제2항에 있어서, 단계(c)는 2,4,6-트리아미노벤조산을 염기를 사용하여 히드록시기 치환반응으로 플로로글루시놀(phloroglucinol)을 제조하는 단계인 것을 특징으로 하는 접착제 조성물
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제9항에 있어서, 단계(c)는 60 내지 110℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 접착제 조성물
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제2항에 있어서, 단계(d)는 플로로글루시놀에 화학식 1로 표시되는 화합물과 삼차아민을 투입하고 반응시켜 화학식 2로 표시되는 플로로글루시놀계 아크릴레이트를 제조하는 단계인 것을 특징으로 하는 접착제 조성물
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제11항에 있어서, 단계(d)는 -10 내지 10℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 접착제 조성물
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