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광경화성 디안히드로헥산헥솔 유도체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 광경화성 조성물

  • 기술번호 : KST2014049870
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 광경화성 이소소르비드 유도체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 광경화성 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 바이오매스 유래 이소소르비드 즉, 1,4:3,6-Dianhydro-hexane-1,2,3,4,5,6-hexol (DHH) 화합물을 최적의 반응조건하에서 반응시켜 제조한 2-히드록시프로필 메타크릴레이트 (2-hydroxypropyl methacrylate, HPM) 관능기가 결합된 구조의 친환경적인 바이오매스 유래 광경화성 화합물, 이의 제조방법, 및 상기 광경화성 화합물을 포함하는 광경화성 조성물에 관한 것이다.
Int. CL B01J 31/02 (2006.01) C07D 493/04 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020110047396 (2011.05.19)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1272840-0000 (2013.06.03)
공개번호/일자 10-2012-0129253 (2012.11.28) 문서열기
공고번호/일자 (20130610) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.05.19)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조진구 대한민국 경기도 용인시 기흥구
2 김백진 대한민국 충청남도 천안시 서북구
3 김상용 대한민국 충청남도 천안시 서북구
4 신승한 대한민국 서울특별시 용산구
5 정재원 대한민국 서울특별시 성북구
6 김보라 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손민 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, *층(문정동)(특허법인한얼)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 충청남도 천안시 서북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.05.19 수리 (Accepted) 1-1-2011-0374296-85
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.09.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.10.24 수리 (Accepted) 9-1-2012-0078898-83
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.03.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0164892-88
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.04.26 수리 (Accepted) 1-1-2013-0373319-48
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.04.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0373320-95
10 등록결정서
Decision to grant
2013.05.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0347029-05
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는 화합물:[화학식 1]
2 2
하기 단계를 포함하는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법:하기 화학식 2로 표시되는 화합물과 에피브로모히드린을 수산화염 존재 하에 반응시켜 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 제조하는 단계(단계 1); 및상기 화학식 3으로 표시되는 화합물과 메타크릴산을 반응시켜 화학식 1로 표시되는 화합물을 제조하는 단계(단계 2):[화학식 1][화학식 2][화학식 3]
3 3
제2항에 있어서, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 탄수화물 고분자로부터 유래된 것인, 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
4 4
제2항에 있어서, 상기 단계 1)은 용매로서 비양성자 극성용매를 사용하여 수행되는, 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
5 5
제4항에 있어서, 상기 비양성자 극성용매는 DMSO, DMF, DMA 및 NMP로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 것인, 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
6 6
제2항에 있어서, 상기 수산화염은 LiOH, NaOH 및 KOH로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인, 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
7 7
제2항에 있어서, 상기 단계 1)의 화학식 2로 표시되는 화합물과 에피브로모히드린의 중량비는 화학식 2로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여 에피브로모히드린 200 내지 800 중량부인, 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
8 8
제2항에 있어서, 상기 단계 1)의 화학식 2로 표시되는 화합물과 수산화염의 중량비는 화학식 2로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여 수산화염 300 내지 1000 중량부인, 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
9 9
제2항에 있어서, 상기 단계 1)의 반응 시간은 0
10 10
제2항에 있어서, 상기 단계 1)의 반응 온도는 4 내지 80 ℃인, 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
11 11
제2항에 있어서, 상기 단계 2)는 반응 촉매로서 트리에틸아민을 사용하여 수행되는, 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
12 12
제2항에 있어서, 상기 단계 2)의 화학식 3으로 표시되는 화합물과 메타크릴산의 중량비는 화학식 3으로 표시되는 화합물 100 중량부에 대하여 메타크릴산 300 내지 2000 중량부인, 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
13 13
제2항에 있어서, 상기 단계 2)의 반응 시간은 3 내지 16시간인, 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
14 14
제2항에 있어서, 상기 단계 2)의 반응 온도는 80 내지 120 ℃인, 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
15 15
제1항 기재의 화합물 및 벤조페논, 벤조인, 아세토페논, 벤질, 벤질 케탈, 안트라퀴논, 트라이페닐포스핀, 벤조일포스핀 옥사이드, 티오잔톤, 잔톤, 1-페닐-1,2-프로페인다이온-2-O-벤조일옥심, 1-아미노페닐 케톤, 1-하이드록시페닐 케톤, 트라이아진 화합물 및 캄포퀴논으로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 자유라디칼 광개시제를 포함하는 광경화성 조성물
16 16
제15항에 있어서, 상기 광경화성 조성물이 무용매형인, 광경화성 조성물
17 17
삭제
18 18
제15항에 있어서, 상기 제1항 기재의 화합물과 자유라디칼 광개시제의 중량비는 제1항 기재의 화합물 100 중량부에 대하여 자유라디칼 광개시제 0
19 19
제15항에 있어서, 무기충전제를 추가로 포함하는 광경화성 조성물
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN103619848 CN 중국 FAMILY
2 US09156851 US 미국 FAMILY
3 US20140073716 US 미국 FAMILY
4 WO2012157832 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN103619848 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN103619848 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 US2014073716 US 미국 DOCDBFAMILY
4 US9156851 US 미국 DOCDBFAMILY
5 WO2012157832 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
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