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아미노기를 갖는 이산화티타늄 및 아미노기를 갖는 이산화규소를 첨가한 제 2용매에 베어입자를 첨가한 후, 분산시켜 반응준비용액을 제조하는 반응준비단계; 및상기 반응준비용액에 염산 및 글루타르알테하이드를 첨가하여 반응시키는 입자표면처리단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 1항에 있어서, 상기 반응준비단계에서, 상기 아미노기를 갖는 이산화티타늄 및 상기 아미노기를 갖는 이산화규소는,이산화티타늄 또는 이산화규소를 300 내지 500℃에서 15 내지 30시간동안 열처리하여 정제시키는 정제단계; 및제 1용매에 상기 이산화티타늄 또는 이산화규소를 첨가하여 반응시켜 아미노기를 갖는 이산화규소를 제조하는 아미노기치환단계;를 통해 제조되는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 반응준비단계에서, 상기 제 2용매는 이소프로필 알코올(Isopropyl Alcohol)인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 반응준비단계에서, 상기 베어입자는, 모노머, 중합개시제 및 이온성모노머를 합성하여 제조되며, 상기 이온성 모노머는 스티렌설폰산(Styrene sulfonic acid) 또는 [2-(메타크릴옥시)에틸]트리메틸 암모늄 클로라이드 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 4항에 있어서, 상기 모노머는 메틸메타크릴레이트, 에틸렌테레프탈레이트, 스티렌술포네이트, 비닐아세트테이트, 메틸스티렌, 아크릴산, 부틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 또는 N-비닐카프로락탐 중 적어도 하나이며, 상기 중합개시제는 퍼옥시드화합물 또는 아조화합물 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 반응준비단계에서, 상기 제 2용매 100중량부에 대하여, 상기 아미노기를 갖는 이산화티타늄은 0
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 입자표면처리단계에서, 상기 제 2용매 100중량부에 대하여, 상기 염산 및 글루타르알테하이드는 각각 60 내지 90중량부를 첨가하는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 입자표면처리단계는, 상기 반응준비용액을 10 내지 30℃에서 마그네틱바를 사용하여 교반하면서, 상기 염산 및 글루타르알테하이드를 첨가하는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 입자표면처리단계에서, 반응시간은 1 내지 3시간인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 2항에 있어서, 상기 아미노기치환단계에서, 상기 제 1용매는 톨루엔인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 2항에 있어서, 상기 아미노기치환단계는, 상기 제 1용매에 상기 이산화규소를 첨가한 후, 분산시켜 반응용액을 제조하는 반응용액 제조단계;상기 반응용액을 질소분위기하에서 가열하는 가열단계; 상기 반응용액에 (3-아민프로필)트리에톡시실란((3-aminopropyl) triethoxysilane)을 첨가하는 에톡시실란 첨가단계; 및상기 반응용액을 교반시키는 교반단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 11항에 있어서, 상기 반응용액 제조단계에서, 상기 제 1용매 100중량부에 대하여, 상기 이산화규소는 20 내지 50중량부인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 11항에 있어서, 상기 가열단계는, 상기 반응용액의 온도를 60℃ 내지 90℃의 온도로 유지시키는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 11항에 있어서, 상기 에톡시실란첨가단계에서, 상기 제 1용매 100중량부에 대하여, 상기 (3-아민프로필)트리에톡시실란은 20 내지 50중량부인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 11항에 있어서,상기 교반단계는, 상기 반응용액을 60℃ 내지 90℃의 온도하에서 15 내지 30시간동안 교반시키는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 및 이산화규소를 이용한 전자종이용 입자의 복합표면처리방법
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제 1항, 제 2항 및 제 10항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 복합표면처리된 전자종이용 입자
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