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레이저 간섭 리소그라피 장치

  • 기술번호 : KST2014050033
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 레이저 간섭 리소그라피 장치는, 광원부, 반사 미러, 빔 스플리터 및 공간필터를 포함하는 레이저 간섭 리소그라피 장치에 있어서, 수평으로 놓인 기판의 상부에 마련되며 상기 공간 필터로부터 수평으로 출력되는 좌측광 및 우측광을 각각 반사하여 상기 기판에 수직으로 조사되도록 광 경로를 변경하는 조절 미러와; 상기 기판을 안착하고, 소정 방향으로 이동하여 상기 기판에 입사되는 광의 입사각을 조절하는 이동 스테이지를 포함하는 점에 그 특징이 있다. 본 발명에 따르면, 수평으로 배치된 광학계를 통해 출력되는 광을 수평으로 놓인 기판에 입사되도록 기판 상단에 미러를 배치하여 광 경로를 변경하고, 이동 스테이지와 미러의 각도를 조절함으로써 입사각을 조절하여 기판에 원하는 패턴을 형성할 수 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01)
출원번호/일자 1020110135235 (2011.12.15)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1318941-0000 (2013.10.10)
공개번호/일자 10-2013-0068255 (2013.06.26) 문서열기
공고번호/일자 (20131016) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.12.15)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김종석 대한민국 경기 안산시 단원구
2 이성호 대한민국 대전광역시 유성구
3 이상호 대한민국 서울특별시 관악구
4 강경태 대한민국 서울특별시 서초구
5 정일규 대한민국 경기도 안산시 상록구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인리온 대한민국 서울특별시 서초구 사평대로 ***, *층(반포동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.12.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0997178-96
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.12.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.01.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0001683-26
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.04.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0271490-14
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.06.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0526898-06
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.06.13 수리 (Accepted) 1-1-2013-0526841-15
10 등록결정서
Decision to grant		 2013.10.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0686767-88
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
레이저 간섭 리소그라피 장치에 있어서, 광원부에서 출력된 레이저 광을 반사하여 소정 방향으로 광 경로를 변경하는 반사 미러와;상기 반사 미러에서 반사되는 광을 서로 다른 경로를 가지는 두 개의 광으로 분리하여 출력하는 빔 스플리터와;상기 빔 스플리터에서 분리된 두 개의 광을 각 경로에서 광을 확대시켜 출력하는 공간 필터와; 수평으로 놓인 기판의 상부에 마련되며 상기 공간 필터로부터 수평으로 출력되는 좌측광 및 우측광을 각각 반사하여 상기 기판에 수직으로 조사되도록 광 경로를 변경하는 조절 미러; 및 상기 기판을 안착하고, 소정 방향으로 이동하여 상기 기판에 입사되는 광의 입사각을 조절하는 이동 스테이지를 포함하고, 상기 이동 스테이지는 X축 스테이지, Y축 스테이지, Z축 스테이지 및 회전 스테이지를 포함하고, 상기 X축 스테이지, 상기 Y 축 스테이지 또는 상기 Z축 스테이지를 구동하여 상기 기판에 입사되는 광의 입사각도를 조절하여 상기 기판에 영역별로 형성되는 패턴의 크기를 조절하는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그라피 장치
2 2
제 1항에 있어서,상기 광원부에서 출력되는 광을 투과 또는 차단하는 셔터와;상기 셔터의 구동을 스테이지 구동과 연계하여 제어하는 셔터 구동부와;상기 조절 미러의 구동을 제어하는 미러 제어부와; 상기 이동 스테이지의 구동을 제어하는 스테이지 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그라피 장치
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
제 1항에 있어서,상기 회전 스테이지는 대상물을 회전하면서 대상물의 패턴 형성 방향을 조정하는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그라피 장치
6 6
제 1항에 있어서,상기 조절 미러는 상기 공간 필터부에서 출력되는 좌측광을 반사하는 좌측 미러, 우측광을 반사하는 우측 미러가 상기 기판의 상부에 각각 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그라피 장치
7 7
제 1항 또는 제 6항에 있어서, 상기 조절 미러는 0도 내지 90 도 이내에서 상기 기판상에 입사광이 조사되도록 각도를 조절하는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그라피 장치
8 8
제 1항에 있어서,상기 공간 필터는 집광 렌즈 및 핀홀을 포함하고, 상기 빔 스플리터에서 두 개로 분할된 광을 확대하는 것을 특징으로 하는 레이저 간섭 리소그라피 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국생산기술연구원 국가플랫폼 기술개발사업 유무기 복합 나노구조체 제작기술