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진공챔버 내부에 구비된 전극 상측에 피처리물을 설치하는 피처리물설치단계와;상기 진공챔버 내부를 진공 분위기로 조성하는 진공형성단계와;상기 전극에 전원을 공급하여 플라즈마를 발생시키는 플라즈마발생단계와;상기 전극에 가해지는 전압 및 전원공급시간을 제어하여 상기 피처리물의 표면을 에칭하는 표면에칭단계와;상기 진공챔버 내부에 소수성부재를 유입시키고, 플라즈마를 이용하여 상기 피처리물의 표면에 상기 소수성부재를 결합시키는 소수화단계;를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 플라즈마 처리를 통한 초발수 표면 형성방법
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대기 분위기에서 전극에 부착된 유전체 하측에 피처리물을 설치하는 피처리물설치단계와;상기 전극에 전원을 공급하여 플라즈마를 발생시키는 플라즈마발생단계와;상기 전극에 가해지는 전압 및 전원공급시간을 제어하여 상기 피처리물의 표면을 에칭하는 표면에칭단계와;상기 피처리물 하측에 이격 설치된 다른 전극과 상기 피처리물 사이에 소수성부재를 유입시키고, 플라즈마를 이용하여 상기 피처리물의 표면에 상기 소수성부재를 결합시키는 소수화단계;를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 플라즈마 처리를 통한 초발수 표면 형성방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 소수성부재는,불소기, 메틸기 및 염소기 중 적어도 어느 하나를 포함한 가스 또는 분자임을 특징으로 하는 플라즈마 처리를 통한 초발수 표면 형성방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 표면에칭단계에서는,상기 피처리물의 에칭을 활성화하기 위한 반응가스가 선택적으로 부가됨을 특징으로 하는 플라즈마 처리를 통한 초발수 표면 형성방법
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제 4 항에 있어서, 상기 반응가스는,산소, 질소, 수분, 아르곤, 헬륨, 탄화불소, 탄화염소 중에서 적어도 어느 하나를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 플라즈마 처리를 통한 초발수 표면 형성방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 표면에칭단계는,롤러에 감긴 상기 피처리물을 다른 롤러에 권취하여 진행시킴으로써 상기 피처리물의 표면을 연속적으로 에칭하는 과정임을 특징으로 하는 플라즈마 처리를 통한 초발수 표면 형성방법
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