요약 |
본 발명은 고온에서 안정적으로 사용가능한 표면 피복용 경질 다층 박막에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 Ti1-xAlxN 막층(0≤x≤1, 이하 "TiAlN 막층")과 비정질의 Si-N 막층으로 구성된 박막 단위체를 하나 이상 포함하며, 상기 TiAlN 막층과 상기 비정질의 Si-N 막층이 교대로 적층되어 있는 표면 피복용 박막으로서, 상기 박막 단위체의 두께는 1.3 내지 12 nm이며, 상기 박막 단위체를 구성하는 TiAlN막층의 두께는 1 내지 10 nm이며, 상기 박막 단위체를 구성하는 비정질 Si-N 막층의 두께는 0.3 내지 0.7 nm이며, 상기 TiAlN막층 및 상기 비정질 Si-N 막층은 스퍼터링에 의해 증착된 것을 특징으로 하며, 이와 같은 표면 피복용 경질 다층 박막은 피복층의 경도, 인성(toughness), 내산화성, 열 안정성이 우수하여 절삭공구 및 미세 정밀부품의 표면강도 향상을 위하여 널리 적용될 수 있는 효과가 있다.경질 다층 박막, TiAlN, 비정질 Si-N, 금속질화물, 경도, 인성, 열 안정성
|