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일정한 동작 반복률을 갖고 솔리톤 펄스(solition pulse)를 발생시키는 입력 펄스 레이저; 상기 입력 펄스들을 PC(Photo Coupler)를 통하여 가변 분산 조절기에 연결시켜 주는 서큘레이터(circulator); 상기 서큘레이터를 통과하는 입력펄스의 반복률을 시간축 탈봇효과에 의해 조절하는 가변 분산 조절기; 상기 서큘레이터를 통과한 유사 주파수 체배된 광펄스를 실제의 고주파 광펄스로 변환하는 고 비선형 광섬유 기반의 비선형 광소자; 상기 실제의 고주파 광펄스의 중심파장을 조절하는 가변 파장 레이저; 및 상기 가변 파장 레이저에 의해 조절된 실제의 고주파 광펄스의 컨트롤 신호를 제거하는 대역투과 필터; 를 포함하는 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치
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청구항 1에 있어서, 상기 가변 분산 조절기는 단주기 또는 첩 광섬유 격자, 마이크로 전기기계 장치(MEMS) 중에서 어느 하나를 이용한 소자로 제조하는 것을 특징으로 하는 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치
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청구항 1에 있어서, 상기 비선형 광소자는 광섬유 기반의 교차위상변조 또는 4광파 혼합(four wave mixing)을 이용하는 것을 특징으로 하는 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치
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청구항 1에 있어서, 상기 고 비선형 광섬유 기반의 비선형 광소자에 입력되는 펄스들의 유사 반복률 채배를 이루기 위하여 광커플러를 사용하는 것을 특징으로 하는 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치
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청구항 1에 있어서, 상기 고 비선형 광섬유는 분산천이 광섬유(DSF), 고 비선형 광섬유(HNLF), 포토닉 크리스탈 광섬유인 것을 특징으로 하는 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치
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청구항 3에 있어서, 고 비선형 광섬유 기반의 비선형 광소자는 비선형 광루프 방식을 사용하는 것을 특징으로 하는 체배된 유사 광펄스 반복률을 실제의 광펄스 반복률로 변환하는 장치
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입력 펄스 레이저가 동작 반복률을 갖고 솔리톤 펄스를 발생시키는 제1단계; 서큘레이터가 상기 입력 펄스들을 PC를 통하여 가변 분산 조절기에 연결시켜 주는 제2단계; 가변 분산 조절기가 시간축 탈봇효과를 사용하여 상기 서큘레이터를 통과하는 입력펄스의 반복률을 정수배로 조절하는 제3단계; 고 비선형 광섬유 기반의 비선형 광소자가 상기 서큘레이터를 통과한 유사 반복률 체배된 광펄스를 실질적인 반복률을 갖는 광펄스로 변환하는 제4단계; 가변 파장 레이저가 상기 실제의 고주파 광펄스의 중심파장을 조절하는 제5단계; 대역 투과 필터가 상기 가변 파장 레이저에 의해 조절된 실제의 고주파 광펄스의 컨트롤 신호를 제거하는 제6단계; 를 포함하는 체배된 유사 광펄스 주파수를 실제의 광펄스 주파수로 변환하는방법
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입력 펄스 레이저가 동작 반복률을 갖고 솔리톤 펄스를 발생시키는 제1단계; 서큘레이터가 상기 입력 펄스들을 PC를 통하여 가변 분산 조절기에 연결시켜 주는 제2단계; 가변 분산 조절기가 시간축 탈봇효과를 사용하여 상기 서큘레이터를 통과하는 입력펄스의 반복률을 정수배로 조절하는 제3단계; 고 비선형 광섬유 기반의 비선형 광소자가 상기 서큘레이터를 통과한 유사 반복률 체배된 광펄스를 실질적인 반복률을 갖는 광펄스로 변환하는 제4단계; 가변 파장 레이저가 상기 실제의 고주파 광펄스의 중심파장을 조절하는 제5단계; 대역 투과 필터가 상기 가변 파장 레이저에 의해 조절된 실제의 고주파 광펄스의 컨트롤 신호를 제거하는 제6단계; 를 포함하는 체배된 유사 광펄스 주파수를 실제의 광펄스 주파수로 변환하는방법
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