| 1 |
1
반응조, 침전조와 상기 침전조로부터 배출된 반송수를 상기 반응조로 반송하는 반송 펌프를 갖춘, 인과 질소의 제거가 가능한 하폐수의 고도 처리 장치에 있어서, 상기 반응조는 반응조 내에 설치된 적어도 1개 이상의 격막에 의하여 구획들로 나뉘고, 상기 구획들 중에는하폐수가 유입되고, 상기 반송 펌프와 연결되어 반송수를 받아들이는, 반응조 전단에 위치하는 무산소 구획,상기 무산소 구획으로부터 하폐수와 반송수를 받아들이며, 처리한 하폐수와 반송수를 상기 침전조로 유월시키는, 반응조 말단에 위치하는 혐기성 구획이 포함되며,상기 침전조는 반응조로부터 처리수를 받아들여 연속적으로 여과하기 위한 침지형 분리막과 상기 침지형 분리막에 공기를 공급하는 블로워를 포함하며, 받아들인 처리수의 일부를 상기 반송 펌프로 보내는 것을 특징으로 하는,기존 활성 슬러지 공법의 하수 처리 장치를 개선한 고도 처리 장치
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서, 상기 격막은 상기 반응조 내에 적어도 2개 이상 설치되는 것을 특징으로 하는 고도 처리 장치
|
| 3 |
3
제 1 항에 있어서, 상기 침지형 분리막은 평막형, 중공사막형, 관형의 정밀 여과막 또는 한외 여과막인 것을 특징으로 하는 고도처리장치
|
| 4 |
4
구획된 반응조로부터 유출된 처리수를 침전조로 유입시키고 상기 침전조로부터 배출된 반송수를 상기 구획된 반응조로 반송시키는 고도 처리 방법에 있어서, 상기 반응조 내에 설치된 하나 이상의 격막에 의하여 구획된 반응조의 전단부 무산소 구획으로 하폐수의 유입수 및 상기 반송수를 보내어 상기 격막에 의한 플러그 흐름을 유도하고, 유입수 및 반송수가 상기 무산소 구획을 거쳐 상기 반응조 내의 말단부 혐기성 구획 방향으로 이동하면서 산소가 고갈되는 단계 (S1); 및 산소가 고갈된 상기 유입수 및 상기 반송수가 상기 반응조내의 무산소 구획에서 혐기성 구획 방향으로 이동하면서 탈질 작용을 일으켜 질산성 질소가 제거되는 단계 (S2);상기 무산소 구획으로부터 받아들인 상기 유입수 및 반송수 속 미생물이 상기 혐기성 구획 내에서 인을 방출하고 처리된 유입수 및 반송수는 처리수로서 상기 침전조로 이동하는 단계 (S3);폭기조를 통하여 호기성 조건이 된 상기 침전조 내에서 상기 유입수, 반송수 및 반응조 속 미생물의 인 과잉섭취를 유도하여 처리수 내 인을 제거하고 상기 유입수 속 암모니아성 질소를 호기성 조건하에서 질산성 질소로 질산화하는 한편, 침전조 내에서 처리수를 침지형 분리막으로 연속적으로 흡인 여과하여 고액분리를 통하여 최종 방류수를 배출하고, 상기 인을 과잉섭취한 미생물과 질산성 질소를 상기 반송수에 포함시켜 상기 반응조의 무산소 구획으로 이동시키는 단계 (S4) 및 상기 침전조에서 인이 과잉섭취된 잉여 슬러지의 일부를 외부로 인발하여 최종적으로 인을 제거하는 단계(S5)를 포함하는 것을 특징으로 하는,기존 활성 슬러지 공법의 하수 처리 공정을 개선한 고도 처리 방법
|
| 5 |
5
제 4 항에 있어서, 상기 S4 단계에서 상기 침지형 분리막을 이용한 막여과시 흡인 여과를 위하여 흡인 펌프를 이용하거나 수두차에 의한 자연적 흡인압을 이용하는 것을 특징으로 하는 고도 처리 방법
|
