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대면적 산화물 박막 형성장비의 샤워헤드

  • 기술번호 : KST2014051538
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 대면적 산화물 박막 형성장비의 샤워헤드에 관한 것으로, 다수개의 가스분배기(21)를 피라미드 형상으로 다단구성하여, 대면적의 기판(12)에 산화막을 형성시 가스주입관(23)으로 주입된 가스가 기판(12)의 상측에 분사될때는 기판(12)의 전면에 균일하게 분사되도록 함으로서, 형성되는 산화막의 두께 균일도를 향상시키는 효과가 있다.
Int. CL H01L 21/316 (2006.01)
CPC C23C 16/45565(2013.01)
출원번호/일자 1019990002743 (1999.01.28)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0348587-0000 (2002.07.30)
공개번호/일자 10-2000-0051987 (2000.08.16) 문서열기
공고번호/일자 (20020814) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1999.01.28)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이전국 대한민국 경기도 성남시 분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 아이에스티이 경기도 화성시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원서
Patent Application		 1999.01.28 수리 (Accepted) 1-1-1999-0006135-49
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2000.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2000-0242576-13
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2000.11.27 수리 (Accepted) 1-1-2000-0250650-91
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2000.12.27 보정각하 (Rejection of amendment) 1-1-2000-0281114-56
8 의견서
Written Opinion		 2000.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2000-0281118-38
9 보정각하결정서
Decision of Rejection for Amendment		 2001.06.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0155044-62
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2001.11.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0324432-94
11 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2002.01.25 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2002-0002168-54
12 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2002.02.01 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2002-7000109-25
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
14 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2002.03.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0086254-81
15 의견서
Written Opinion		 2002.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2002-0150355-83
16 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2002.05.16 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2002-0150349-19
17 등록결정서
Decision to grant		 2002.07.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0260288-60
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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공정 챔버의 내측에 히팅 척이 설치되어 있고, 그 히팅 척의 상부에 샤워헤드가 설치되어 있는 산화물 박막 형성장비에 있어서,

상기 샤워헤드는 제1단 가스분배기의 하부에 복수개를 분배통을 다단으로 배치하고, 하단으로 가면서 분사영역이 확장되도록 분배통 수를 증가시켜 배치하며, 각단의 분배기가 피라미드형태로 조립되어 구성된 것을 특징으로 하는 대면적 산화물 박막 형성장비의 샤워헤드

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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.