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전자파를 이용한 무전극 플라즈마를 이용하여 라디칼을 발생시키는 라디칼 발생부;상기 라디칼 발생부와 유체 소통가능하게 연결되어 있으며, 상기 플라즈마의 영역을 확대하고, 발생된 라디칼을 이송하는 라디칼 이송관; 및상기 라디칼 이송관과 유체 소통가능하게 연결되어 있으며, 상기 이송된 라디칼의 유체 흐름이 층류 흐름으로 전환되어 분배되도록 구성된 라디칼 분배부를 포함하는,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치로서,상기 라디칼 이송관은 관형이며, 상기 라디칼 발생부의 하단에 위치하고, 상기 라디칼 발생부와 유체 소통 가능하게 연결되어 있으며, 상기 라디칼 이송관의 외면 중 상기 라디칼 발생부 측 상부면에 전자석 코일이 감겨져 있고, 상기 전자석 코일의 작동에 의해 상기 라디칼 이송관 내에 상기 라디칼 이송관의 종방향의 자기장을 형성하고, 상기 라디칼 이송관의 외면 중 상기 라디칼 분배부 측 하부면에 냉각수 코일이 감겨져 있으며, 상기 라디칼 분배부는 상기 이송관의 하단에 위치하며, 상기 라디칼 이송관과 유체 소통 가능하게 연결되어 있는 다수의 관통 개구를 포함하고, 상기 라디칼 분배부는 냉각수가 관통하는,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 1항에 있어서,상기 라디칼 발생부는 방전관 및 도파관을 포함하며,상기 방전관은 상기 도파관을 관통하여 위치하고,상기 방전관으로 라디칼 발생 전구물질을 포함하는 플라즈마 가스가 공급되며,상기 도파관을 통해 전자파가 방전관으로 전송되며, 상기 전자파에 의해 상기 방전관 내에 자기장이 발생하여, 상기 방전관 내에 플라즈마 및 상기 플라즈마에 의한 라디칼이 발생하는, 라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 2항에 있어서,상기 라디칼 발생 전구물질이 플로린화합물인,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 3항에 있어서,상기 플로린화합물은 NF3, SF6, CH4, C2F6 및 C3F6로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 화합물인, 라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 라디칼은 플로린화합물의 플라즈마에 의한 분리 및 여기에 의한 자유라디칼 및 여기된 라디칼인,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 플라즈마 발생부는 1기압 이하의 저압을 유지하도록 하는 실링부 및 진공펌프를 포함하는,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 1항에 있어서,상기 라디칼 분배부의 관통 개구는 상기 라디칼의 진행 방향에 따라 연장된 세장형인,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 1항에 있어서,상기 라디칼 분배부의 관통 개구의 관통 방향은 상기 라디칼의 진행 방향에 대해 0도 내지 90도의 각을 이루는,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 3항에 있어서,상기 도파관에 관통되어 있는 방전관은 상기 도파관의 관통된 두 외면위에 놓이도록 구성된, 상기 방전관의 외면에 외측으로 돌출된 두 개의 환형 디스크를 포함하는,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 13항에 있어서,상기 환형 디스크와 상기 도파관이 접하는 면에 실링을 위한 진공 실링 오링을 포함하는,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 13항에 있어서,상기 도파관은 두 개의 관의 단축 단면이 결합되어 있으며, 상기 단축 단면이 결합된 위치에, 상기 방전관은 관통되어 있는,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 15항에 있어서,상기 두 관의 단축 단면의 결합은 플랜지에 의해 이뤄진,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 라디칼 발생부, 상기 라디칼 이송관 및 상기 라디칼 분배부는 플로린 화합물 내성 재료로 이뤄진,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 전자파의 발진 주파수가 902-928 MHz, 886-906 MHz, 또는 2
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제 18항에 있어서,상기 전자파의 발진 주파수가 915 MHz 또는 896 MHz의 주파수인,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 층류 흐름이 레이놀즈 수(Reynolds number) 2200 이하인,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 층류 흐름이 레이놀즈 수 1100 이하인,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 2항에 있어서,상기 방전관 내로 공급되는 가스는 스월가스(Swirl Gas)로 유입되어, 방전관내 플라즈마의 축방향으로의 안정화를 유지하는,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 22항에 있어서,상기 방전관 내로 공급되는 가스의 유입 속도를 높여, 상기 방전관내 플라즈마의 안정화 유지를 제공하는,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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제 22항에 있어서,상기 방전관 내로 공급되는 가스의 축방향에 대한 주입각도를 높여, 상기 방전관내 플라즈마의 안정화 유지를 제공하는,라디칼 발생, 이송 및 분배 장치
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