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산소를 포함하는 비정질 산화물 반도체 물질을 포함하는 비정질 산화물 반도체 층; 및상기 비정질 산화물 반도체 층에 포함되고, 상기 산소 사이의 결합을 방지함으로써, 광 또는 전기장에 의하여 야기되는 불안정성을 방지하는 안정화 첨가물;을 포함하고,상기 안정화 첨가물은 론-페어(lone-pair) s-궤도를 가지고,상기 안정화 첨가물은 상기 산소와 spσ 혼성전자궤도 및 spσ* 혼성전자궤도를 형성하고,상기 안정화 첨가물은 안티몬(Sb), 비스무트(Bi), 및 납(Pb) 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 박막 트랜지스터
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제 1 항에 있어서,상기 안정화 첨가물은 상기 산소에 의한 과산화물(peroxide, O22-) 형성을 방지하는, 박막 트랜지스터
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제 1 항에 있어서,상기 안정화 첨가물은 0
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제 1 항에 있어서,상기 안정화 첨가물은 0
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제 1 항에 있어서,상기 안정화 첨가물의 첨가되는 최소 함량은 1
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제 1 항에 있어서,상기 안정화 첨가물은 3 at% 초과 내지 6 at% 미만의 범위의 함량으로 첨가되는, 박막 트랜지스터
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제 1 항에 있어서,상기 비정질 산화물 반도체 물질은 인듐-갈륨-아연-산화물(In-Ga-Zn-O, IGZO), 인듐-주석-아연-산화물(In-Sn-Zn-O, ISZO), 인듐-알루미늄-아연-산화물(In-Al-Zn-O, IAZO), 주석-알루미늄-아연-산화물(Sn-Al-Zn-O, SAZO), 및 주석-아연-산화물(Sn-Zn-O, SZO) 중의 적어도 어느 하나를 포함하는, 박막 트랜지스터
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기판;상기 기판 상에 위치하고, 산소를 포함하는 비정질 산화물 반도체 물질, 및 상기 산소 사이의 결합을 방지함으로써 광 또는 전기장에 의하여 야기되는 불안정성을 방지하는 안정화 첨가물을 포함하는 채널층;상기 채널층의 양 단부에 각각 위치한 소스 전극 및 드레인 전극;상기 채널층 상에 위치한 게이트 절연층; 및 상기 게이트 절연층 상에 위치한 게이트 전극;을 포함하고, 상기 안정화 첨가물은 론-페어(lone-pair) s-궤도를 가지고,상기 안정화 첨가물은 상기 산소와 spσ 혼성전자궤도 및 spσ* 혼성전자궤도를 형성하고,상기 안정화 첨가물은 안티몬(Sb), 비스무트(Bi), 및 납(Pb) 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 박막 트랜지스터
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기판;상기 기판 상에 위치한 게이트 전극;상기 게이트 전극 상에 위치한 게이트 절연층; 상기 게이트 절연층 상에 위치하고, 산소를 포함하는 비정질 산화물 반도체 물질, 및 상기 산소 사이의 결합을 방지함으로써 광 또는 전기장에 의하여 야기되는 불안정성을 방지하는 안정화 첨가물을 포함하는 채널층; 및상기 채널층의 양 단부에 각각 위치한 소스 전극 및 드레인 전극;을 포함하고, 상기 안정화 첨가물은 론-페어(lone-pair) s-궤도를 가지고,상기 안정화 첨가물은 상기 산소와 spσ 혼성전자궤도 및 spσ* 혼성전자궤도를 형성하고,상기 안정화 첨가물은 안티몬(Sb), 비스무트(Bi), 및 납(Pb) 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 박막 트랜지스터
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산소를 포함하는 비정질 산화물 반도체 물질; 및상기 산소 사이의 결합을 방지함으로써, 광 또는 전기장에 의하여 야기되는 불안정성을 방지하는 안정화 첨가물;을 포함하고, 상기 안정화 첨가물은 론-페어(lone-pair) s-궤도를 가지고,상기 안정화 첨가물은 상기 산소와 spσ 혼성전자궤도 및 spσ* 혼성전자궤도를 형성하고,상기 안정화 첨가물은 안티몬(Sb), 비스무트(Bi), 및 납(Pb) 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 비정질 산화물 반도체 층
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