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기공이 형성된 CMP 연마패드 및 기공의 형성방법

  • 기술번호 : KST2014052473
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기공이 형성된 CMP 연마패드에 관한 것으로서, 레이저를 이용하여 CMP 연마패드에 기공을 형성하고, 이때 레이저 빔의 초점을 CMP 연마패드의 내부에 맞추는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 기공 형성방법에 의하여 CMP 패드에 기공을 형성하면, 연마패드의 경도가 낮아서 슬러리의 보유 특성이 뛰어난 CMP 연마패드를 제조할 수 있다. 또한 레이저 가공에 의하여 기공을 형성하므로 기공의 크기와 배열을 자유롭게 조절할 수 있으므로 CMP 공정의 균일도를 높일 수 있고, CMP 대상물질이나 공정의 종류에 따라 맞춤형 CMP 연마패드를 제조할 수 있다.
Int. CL H01L 21/304 (2014.01) B23K 26/382 (2014.01) B23K 26/386 (2014.01) B24B 37/20 (2014.01)
CPC
출원번호/일자 1020090059841 (2009.07.01)
출원인 서강대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1177497-0000 (2012.08.21)
공개번호/일자 10-2011-0002313 (2011.01.07) 문서열기
공고번호/일자 (20120827) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.07.01)
심사청구항수 22

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서강대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 마포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김칠민 대한민국 서울특별시 양천구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서강대학교산학협력단 서울특별시 마포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.07.01 수리 (Accepted) 1-1-2009-0402835-38
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2010.07.30 수리 (Accepted) 1-1-2010-0493623-91
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0188649-82
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.06.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0420975-92
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.06.03 수리 (Accepted) 1-1-2011-0420974-46
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.12.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0765702-38
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.01.03 수리 (Accepted) 1-1-2012-0004075-14
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.01.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0004076-59
9 등록결정서
Decision to grant
2012.07.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0436679-82
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.11 수리 (Accepted) 4-1-2017-5005781-67
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5014626-89
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
레이저를 이용하여 CMP 연마패드에 기공을 형성하는 방법에 있어서, 레이저 빔의 초점을 CMP 연마패드의 내부에 맞추고,상기 CMP 연마패드의 재료를 순간적으로 증발시켜 기체상태로 팽창시키는 브레이크다운(breakdown)에 의해 상기 기공을 형성하는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드의 기공 형성방법
2 2
제1항에 있어서,CMP 연마패드에 형성되는 기공의 크기는 레이저 빔의 세기에 따라 조절되는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드의 기공 형성방법
3 3
제1항에 있어서,CMP 연마패드에 형성되는 기공은 CMP 연마패드의 표면 또는 내부에 형성되는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드의 기공 형성방법
4 4
제1항에 있어서,CMP 연마패드 내부에서의 레이저 빔의 초점 위치는 연마패드의 위치를 3차원적으로 변화시켜 조절되는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드의 기공 형성방법
5 5
제1항에 있어서,CMP 연마패드 내부에서의 레이저 빔의 초점 위치는 레이저 빔의 위치를 3차원적으로 변화시켜 조절되는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드의 기공 형성방법
6 6
제1항에 있어서,레이저는 펄스형 레이저인 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드의 기공 형성방법
7 7
제1항에 있어서,CMP 연마패드는 고분자 수지로 이루어지고, 레이저를 이용하여 CMP 연마패드에 기공을 형성하는 과정은 상기 고분자 수지가 경화된 상태에서 진행되는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드의 기공 형성방법
8 8
제1항에 있어서,CMP 연마패드는 고분자 수지로 이루어지고, 레이저를 이용하여 CMP 연마패드에 기공을 형성하는 과정은 상기 고분자 수지가 경화되는 과정에서 진행되는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드의 기공 형성방법
9 9
제1항에 있어서,레이저를 이용하여 CMP 연마패드에 형성된 기공은 복수 개이고, 상기 복수 개의 기공 중 적어도 하나는 서로 연결되어 통로가 형성된 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드의 기공 형성방법
10 10
제1항에 있어서,레이저를 이용하여 CMP 연마패드에 형성된 기공은 복수 개이고, 상기 복수 개의 기공은 규칙적 배열, 마구잡이 배열, 카오스적 배열 및 프랙탈적 배열로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 방법에 의하여 배열된 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드의 기공 형성방법
11 11
제1항에 있어서,CMP 연마패드에 형성되는 기공의 직경은 1 내지 500 마이크로미터인 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드의 기공 형성방법
12 12
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항의 기공 형성방법에 의하여 제조된 CMP 연마패드
13 13
내부에 기공이 형성된 CMP 연마패드로서, 기공의 분포 또는 기공의 크기가 소정의 규칙에 따라 배열되고,상기 기공은 레이저 빔을 이용하여 상기 CMP 연마패드의 재료를 순간적으로 증발시켜 기체상태로 팽창시키는 브레이크다운에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드
14 14
제13항에 있어서,상기 소정의 규칙은 기공의 분포 또는 크기가 일정한 단위로 반복되는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드
15 15
제13항에 있어서,상기 소정의 규칙은 CMP 연마패드의 중심부에는 기공의 개수가 많고, 주변부로 갈수록 기공의 개수가 적어지는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드
16 16
제13항에 있어서,상기 소정의 규칙은 CMP 연마패드의 중심부에는 기공의 개수가 적고, 주변부로 갈수록 기공의 개수가 많아지는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드
17 17
제13항에 있어서,상기 소정의 규칙은 CMP 연마패드의 표면부에는 기공의 개수가 적고, 내부로 들어갈수록 기공의 개수가 많아지는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드
18 18
제13항에 있어서,상기 소정의 규칙은 CMP 연마패드의 내부에는 기공의 개수가 적고, 표면부로 나올수록 기공의 개수가 많아지는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드
19 19
제13항에 있어서,상기 소정의 규칙은 기공의 크기가 일정한 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드
20 20
제13항에 있어서,상기 소정의 규칙은 기공의 크기를 기준으로 CMP 연마패드의 내부에 형성된 기공들을 복수개의 그룹으로 분류할 수 있는 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드
21 21
제13항에 있어서,상기 소정의 규칙은 규칙적 배열, 마구잡이 배열, 카오스적 배열 및 프랙탈적 배열로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 배열 방법에 의하여 기공이 배열된 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드
22 22
제13항에 있어서,CMP 연마패드의 내부에 형성된 기공의 직경은 1 내지 500 마이크로미터인 것을 특징으로 하는 CMP 연마패드
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2011002149 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
2 WO2011002149 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
3 WO2011002149 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2011002149 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
2 WO2011002149 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
3 WO2011002149 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.