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공정챔버 내부의 공정가스 분석 장치

  • 기술번호 : KST2014052760
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 웨이퍼 규격의 기판에 광검출기(photodiode)를 형성하며, 공정가스의 스펙트럼을 분석하여 공정챔버 내부의 공정가스 성분을 분석하는 장치를 제공한다.이를 위해 공정챔버 내부의 공정가스 분석 장치는 공정가스가 채워진 공정챔버 내부의 척(chuck)의 상면에 안착 되는 플레이트, 상기 플레이트의 상면에 인입되며, 일면이 상부로 노출된 다수의 광검출부 및 상기 플레이트의 내부에 인입되며, 상기 광검출부에 연결되어 상기 공정가스를 분석하는 제어부를 포함한다.
Int. CL H01L 21/02 (2006.01) H01L 21/66 (2006.01)
CPC G01N 21/3504(2013.01) G01N 21/3504(2013.01)
출원번호/일자 1020120096516 (2012.08.31)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1334384-0000 (2013.11.22)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20131129) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.08.31)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정훈 대한민국 서울 광진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서만규 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** *층 (역삼동, 현죽빌딩)(특허법인성암)
2 서경민 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** *층 (역삼동, 현죽빌딩)(특허법인성암)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2012-0705598-78
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.06.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.07.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0057177-81
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.07.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0510334-06
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.09.16 수리 (Accepted) 1-1-2013-0847343-74
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.09.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0847350-94
8 등록결정서
Decision to grant		 2013.10.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0720224-07
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
공정가스가 채워진 공정챔버 내부의 척(chuck)의 상면에 안착 되는 플레이트;상기 플레이트의 상면에 인입되며, 일면이 상부로 노출된 다수의 광검출부;상기 플레이트의 내부에 인입되며, 상기 광검출부에 연결되어, 상기 공정가스를 분석하는 제어부; 및상기 플레이트의 상면 및 측면을 덮는 커버;를 포함하는 것을 특징으로 하는 공정챔버 내부의 공정가스 분석 장치
2 2
제 1항에 있어서,상기 다수의 광검출부는 서로 동일간격으로 이격되어, 격자형을 이루는 것을 특징으로 하는 공정챔버 내부의 공정가스 분석 장치
3 3
제 1항에 있어서,상기 다수의 광검출부는 상기 플레이트의 중심으로부터 동일간격으로 이격되어, 방사형을 이루는 것을 특징으로 하는 공정챔버 내부의 공정가스 분석 장치
4 4
제 2항 또는 제 3항에 있어서,상기 다수의 광검출부는 각각 광검출기 및 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 공정챔버 내부의 공정가스 분석 장치
5 5
제 4항에 있어서,상기 필터는 특정 파장의 빛을 투과 시키는 것을 특징으로 하는 공정챔버 내부의 공정가스 분석 장치
6 6
제 1항에 있어서,상기 플레이트의 면적은 상기 공정챔버에 삽입되는 반도체 기판(Wafer)의 면적과 동일한 것을 특징으로 하는 공정챔버 내부의 공정가스 분석 장치
7 7
삭제
8 8
제 1항에 있어서,상기 커버는 투명한 것을 특징으로 하는 공정챔버 내부의 공정가스 분석 장치
9 9
제 1항에 있어서,상기 제어부는 공정가스 별 스펙트럼 정보가 저장된 메모리부;상기 광검출부에서 검출된 공정가스의 스펙트럼과 상기 메모리부의 스펙트럼 정보를 비교하여, 공정가스를 분석하는 분석부; 및상기 분석부에서 분석된 공정가스 정보를 상기 공정챔버 외부로 송신하는 통신부를 포함하는 것을 특징으로 하는 공정챔버 내부의 공정가스 분석 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.