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공정 챔버 내에 삽입되어 공정 가스를 분석하는 장치에 있어서,평평한 상면을 갖는 플레이트;상기 플레이트의 상면에 배열되어 형성되고, 상기 공정 챔버 내의 광을 집광하는 복수개의 집광부;상기 플레이트의 내부에 상기 집광부와 대응되도록 형성되어 상기 집광부의 광을 인가받는 광 전달부; 및상기 플레이트의 내부에 형성되고, 상기 광 전달부에 연결되어 상기 광을 전달받으며, 적어도 하나의 파장에 대한 스펙트럼을 분석하는 분광부를 포함하는 공정 가스 분석 장치
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제 1 항에 있어서,상기 집광부는 상기 플레이트의 상면에 격자형 또는 방사형으로 배열되어 형성된 공정 가스 분석 장치
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제 1 항에 있어서,상기 집광부는 렌즈(lens)로 형성된 공정 가스 분석 장치
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제 1 항에 있어서,상기 광 전달부는상기 집광부의 하부에 대응되도록 구비된 수광부를 포함하는 공정 가스 분석 장치
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제 4 항에 있어서,상기 수광부는 광섬유의 일단을 브이컷(V cut)한 형태 또는 렌즈 형태로 형성된 공정 가스 분석 장치
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제 5 항에 있어서,상기 수광부가 상기 집광부와 접하는 영역은 상기 플레이트의 상면과 동일 평면 상에 위치하는 공정 가스 분석 장치
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제 4 항에 있어서,상기 광 전달부는 상기 수광부에 일체로 형성된 광섬유 또는 플레나 웨이브 가이드로 구성된 광 전달 경로부를 더 포함하는 공정 가스 분석 장치
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제 1 항에 있어서,상기 분광부는 모노크로미터(Monochoromater)로 구성된 공정 가스 분석 장치
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제 1 항에 있어서,상기 플레이트의 내부에 상기 분광부에 연결되도록 형성되고, 상기 공정 가스에 대한 스펙트럼 데이터를 저장하는 저장부를 더 포함하는 공정 가스 분석 장치
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제 1 항에 있어서,상기 플레이트의 내부에 상기 공정 챔버 외부의 설비와 통신을 수행하도록 구성된 통신부를 더 포함하는 공정 가스 분석 장치
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제 10 항에 있어서,상기 통신부는 블루투스 통신을 수행하는 공정 가스 분석 장치
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제 1 항에 있어서,상기 플레이트의 상부 및 측부를 감싸도록 위치하고, 유리(Glass)를 포함하여 형성되는 커버를 더 포함하는 공정 가스 분석 장치
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13
제 1 항에 있어서,상기 플레이트의 하면에 형성되는 서포트를 더 포함하는 공정 가스 분석 장치
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제 13 항에 있어서,상기 서포트는 상기 공정 챔버 내에 삽입되는 실제 웨이퍼나 레티클과 대응되는 크기로 형성된 공정 가스 분석 장치
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