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일 방향으로 연속하여 이송 중인 CIGS 박막의 일부에 레이저 빔을 조사하여 상기 CIGS 박막으로부터 플라즈마를 발생시키는 레이저 조사부와 상기 플라즈마로부터 발생하는 분광을 검출하는 분광 검출 광학부를 포함하는 헤더;상기 헤더의 상부에 결합되고, 상기 CIGS 박막의 이송과 연동하여 상기 CIGS 박막의 이동속도 및 연속 이동방향과 동일한 속도 및 방향으로 상기 헤더를 이동시키는 헤더 이송부; 및 상기 분광 검출 광학부와 전기적으로 연결되어, 상기 분광 검출 광학부에 의해 검출된 분광을 분석하는 분광 분석부를 포함하고,상기 헤더가 상기 헤더 이송부에 의해 상기 CIGS 박막의 이송과 연동되어 이동됨으로써, 이송 중인 CIGS 박막의 동일한 위치에서 지속적으로 레이저 빔을 조사하고 분광을 검출할 수 있는 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 물질 분포의 실시간 측정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 레이저 조사부는 레이저를 생성하는 레이저부; 및 상기 레이저부에서 공급되는 레이저 빔의 초점을 조절하는 자동초점화부를 포함하는 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 물질 분포의 실시간 측정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 헤더는 상기 레이저 빔의 조사 위치를 조절하기 위한 빔 조사위치 조정부를 추가적으로 포함하는 CIGS 박막 물질 분포의 실시간 측정 시스템
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제3항에 있어서, 상기 빔 조사위치 조정부는 갈바노메터(galvanometer)인 CIGS 박막 물질 분포의 실시간 측정 시스템
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제3항에 있어서, 상기 레이저 빔의 조사 위치는 CIGS 박막의 이동방향(D)을 기준으로 -180° 내지 +180°의 범위 내인 CIGS 박막 물질 분포의 실시간 측정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 헤더는 상기 레이저 빔이 조사된 위치를 추적하기 위한 지표를 인식하는 지표 인식 광학부를 추가적으로 포함하는 CIGS 박막 물질 분포의 실시간 측정 시스템
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